本實用新型涉及一種X射線平板探測器結構,特別是涉及一種平板探測器的邊封結構及邊封方法。
背景技術:
從1995年RSNA上推出第一臺平板探測器(Flat Panel Detector)設備以來,隨著近年平板探測技術取得飛躍性的發(fā)展,在平板探測器的研發(fā)和生產過程中,平板探測技術可分為直接和間接兩類,隨著發(fā)展間接FPD逐漸占到主要市場。間接FPD的結構主要是由閃爍體或熒光體層和具有光電二極管作用的非晶硅層以及薄膜半導體陣列構成。其原理為閃爍體或熒光體層經過X射線曝光后,將X射線光子轉換為可見光,而后由光電二極管作用的非晶硅層變?yōu)閳D像電信號,最后獲得數(shù)字圖像。
隨著平板探測器的應用越來越廣,使得市場對其的性能要求越來越高。對于閃爍體類型的平板探測器,閃爍體容易潮解,限制平板探測器在高濕度的環(huán)境使用。因為潮解后對閃爍晶體的性能大大下降甚至失去原有的功效。此外平板探測器內部的電路板也對水分較敏感,因此提高平板探測器防水性非常必要,其關鍵是平板探測器的邊封結構及邊封方法,目前人們普遍使用的方法是將探測器窗口和結構件通過橡膠圈壓合密封,橡膠壓合密封雖然能夠防止水汽進入,但是不能防止大量水分的浸泡,此外,橡膠在X射線的照射下會加速老化,導致其密封性能下降,降低平板探測器的防水性能。
基于以上所述,提供一種能夠提高平板探測器防水性能的平板探測器的邊封結構實屬必要。
技術實現(xiàn)要素:
鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點,本實用新型的目的在于提供一種平板探測器的邊封結構,用于提高平板探測器的防水性能。
為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的,本實用新型提供一種平板探測器的邊封結構,所述邊封結構包括:結構件,保護內部的平板探測器部件,所述結構件具有邊封區(qū)域上表面;探測器窗口,X射線光透過,所述探測器窗口具有邊封區(qū)域下表面;密封層,所述密封層結合于所述結構件的邊封區(qū)域上表面以及所述探測器窗口的邊封區(qū)域下表面;其中,所述結構件的邊封區(qū)域上表面及所述探測器窗口的邊封區(qū)域下表面形成有粗糙微結構。本實用新型通過粗糙處理,使結構件和探測器窗口表面形成一種粗糙的微結構,增大了結構件、探測器窗口和密封層的接觸面積,提高密封層與結構件和探測器窗口的附著力,從而達到增強平板探測器防水性能的目的。閃爍體封裝的邊封結構也可以使用此種邊封結構及邊封方法。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述結構件具有邊封區(qū)域上表面及側壁,所述探測器窗口具有邊封區(qū)域下表面及側壁,所述密封層結合于所述結構件的邊封區(qū)域上表面及側壁以及所述探測器窗口的邊封區(qū)域下表面及側壁。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述結構件的邊封區(qū)域上表面及側壁及所述探測器窗口的邊封區(qū)域下表面及側壁形成有粗糙微結構。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述粗糙微結構為多個凸起結構,所述凸起結構的尺寸范圍為1-2微米。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述粗糙微結構為多個凸起結構,所述凸起結構的尺寸范圍為1.16-1.2微米。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述密封層包括環(huán)氧樹脂密封層、聚氨酯密封層以及硅膠層中的一種。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述結構件為鋁材結構件,所述探測器窗口為碳纖維板。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述粗糙微結構采用磨料粒度為50um-100um的金剛石或剛玉、碳化硅等研磨處理所述結構件的表面及所述探測器窗口的表面邊緣區(qū)域,獲得1.2-2微米的粗糙微結構。
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,所述粗糙微結構采用25um-100um的剛玉等作為噴砂材料,噴砂處理所述結構件的表面及所述探測器窗口的表面邊緣區(qū)域,獲得1-1.2微米的粗糙微結構;
作為本實用新型的平板探測器的邊封結構的一種優(yōu)選方案,其邊封結構及邊封方法可以應用于閃爍體封裝。
如上所述,本實用新型的平板探測器的邊封結構,具有以下有益效果:
本實用新型針對探測器窗口和結構件通過橡膠圈壓合密封,橡膠壓合密封雖然能夠防止水汽進入,但是不能防止大量水分的浸泡,此外,橡膠在X射線的照射下會加速老化,導致其密封性能下降,降低平板探測器的防水性能。通過對邊封區(qū)域的預處理改造,使結構件和探測器窗口表面形成一種粗糙的微結構,增大了密封層和結構件以及探測器窗口的接觸面積,增加密封層和結構件以及探測器窗口的附著力,從而達到增強平板探測器防水性能的目的。
附圖說明
圖1顯示為本實用新型的平板探測器邊封結構的示意圖。
圖2~圖3顯示為本實用新型的平板探測器邊封結構表面粗化處理的結構示意圖。
元件標號說明
10 結構件
101 結構件邊封區(qū)域上表面及側壁
102 粗糙微結構
20 探測器窗口
201 探測器窗口邊封區(qū)域下表面及側壁
202 粗糙微結構
30 邊封區(qū)域
40 密封層
具體實施方式
以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型還可以通過另外不同的具體實施方式加以實施或應用,本說明書中的各項細節(jié)也可以基于不同觀點與應用,在沒有背離本實用新型的精神下進行各種修飾或改變。
請參閱圖1和圖3。需要說明的是,本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實用新型的基本構想,遂圖示中僅顯示與本實用新型中有關的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制,其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變,且其組件布局型態(tài)也可能更為復雜。
實施例1
如圖1~圖3所示,本實施例提供一種平板探測器的邊封結構,所述邊封結構至少包括:結構件10,所述結構件10具有邊封區(qū)域30上表面及側壁101;探測器窗口20,所述探測器窗口20具有邊封區(qū)域30下表面及側壁201;密封層40,結合于所述結構10具有邊封區(qū)域30上表面及側壁101以及所述探測器窗口20具有邊封區(qū)域30下表面及側壁201;其中,所述結構件10具有邊封區(qū)域30上表面及側壁101及所述探測器窗口20具有邊封區(qū)域30下表面及側壁201形成有粗糙微結構102及202。
作為示例,所述結構件10的邊封區(qū)域30上表面及側壁101及所述探測器窗口20的邊封區(qū)域30下表面及側壁201形成有粗糙微結構102及202。
作為示例,所述粗糙微結構為多個凸起結構,所述凸起結構的尺寸范圍為1-2微米。
在本實施例中,所述結構件10為鋁材結構件;所述探測器窗口20為碳纖維板。
作為示例,所述密封層40包括環(huán)氧樹脂密封層、聚氨酯密封層、硅膠層中的一種。其中,選用聚氨酯具有以下特點:1)不易劃傷;2)無噪音;3)使用壽命長,有利于減少成本;4)具有優(yōu)越的耐溫性能,其耐溫性在零下20攝氏度~高溫120攝氏度;5)具有良好的防水性能;6)聚氨酯還具有無污染,無毒無味的特點。選用環(huán)氧樹脂具有以下特點:1)固化方便,附著力強,收縮性低;2)化學性穩(wěn)定,耐霉菌;3)工藝簡單,無需施加過高的壓力;4)具有良好的絕緣性,耐化學腐蝕,具有較好的耐油性和耐溶劑性以及防水性。在本實施例中,所述密封層40選用為環(huán)氧樹脂密封層。
如圖3所示,本實施例對結構件10和探測器窗口20的粗化處理方法為:對結構件10具有邊封區(qū)域30上表面及側壁101及所述探測器窗口20具有邊封區(qū)域30下表面及側壁201通過采用25um-100um的剛玉等作為噴砂材料噴砂處理,獲得1-1.2微米的粗糙微結構102及202(通常為1.16-1.2微米),所述粗糙微結構102及202為表面凸起微結構,其可以為周期性的,也可以為非周期性的。
實施例2
如圖1~圖3所示,本實施例提供一種平板探測器的邊封結構,其基本結構如實施例1,其中,與實施例1的不同之處在于:優(yōu)選地,所述粗糙微結構102及202為多個凸起結構,所述凸起結構的尺寸范圍為1.16-1.2微米。
本實施例對結構件10和探測器窗口20的粗化處理方法為:結構件10具有邊封區(qū)域30上表面及側壁101及所述探測器窗口20具有邊封區(qū)域30下表面及側壁201通過采用磨料粒度為50-100的金剛石或剛玉、碳化硅等研磨處理,獲得1.2-2微米的粗糙微結構102及202,所述粗糙微結構102及202為表面凸起微結構,其可以為周期性的,也可以為非周期性的。
如上所述,本實用新型的平板探測器的邊封結構,具有以下有益效果:
本實用新型針對探測器窗口和結構件通過橡膠圈壓合密封,橡膠壓合密封雖然能夠防止水汽進入,但是不能防止大量水分的浸泡,此外,橡膠在X射線的照射下會加速老化,導致其密封性能下降,降低平板探測器的防水性能。本實用新型通過對邊封區(qū)域的預處理改造,使結構件10和探測器窗口20表面形成一種粗糙的微結構,增大了密封層40和結構件10以及探測器窗口20的接觸面積,增加密封層40和結構件以及探測器窗口的附著力,從而達到增強平板探測器防水性能的目的。所以,本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術中的種種缺點而具高度產業(yè)利用價值。
上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效,而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下,對上述實施例進行修飾或改變。因此,舉凡所屬技術領域中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術思想下所完成的一切等效修飾或改變,仍應由本實用新型的權利要求所涵蓋。