本實(shí)用新型涉及真空工藝設(shè)備射頻清洗、刻蝕應(yīng)用領(lǐng)域，尤其涉及一種可升降射頻臺。

背景技術(shù)：

隨著半導(dǎo)體工藝的高速發(fā)展， PVD、刻蝕設(shè)備中基片的清洗、刻蝕工藝成為一種常規(guī)工藝。射頻清洗、刻蝕工藝過程中，需要對基片溫度進(jìn)行有效控制，生產(chǎn)型設(shè)備中還需實(shí)現(xiàn)射頻臺與傳送機(jī)構(gòu)手之間的基板傳遞。傳統(tǒng)設(shè)備中射頻臺固定不動，利用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)射頻臺基片的裝卸傳遞，結(jié)構(gòu)復(fù)雜，成本高昂。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本低、避免了現(xiàn)有技術(shù)中采用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)水冷臺板上的基片的裝卸傳遞的可升降射頻臺。

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案：

一種可升降射頻臺，包括水冷臺板、升降支桿、安裝基板、伸縮波紋管、升降底板和驅(qū)動單元，所述安裝基板固定設(shè)置，所述升降支桿下端穿過所述安裝基板并與升降底板連接，所述水冷臺板安裝于升降支桿的上端，所述伸縮波紋管套設(shè)于升降支桿上，且一端與安裝基板連接另一端與升降底板連接，所述驅(qū)動單元與升降底板連接并可驅(qū)動升降支桿沿安裝基板升降。

作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：

所述水冷臺板內(nèi)設(shè)有環(huán)形水冷槽，所述環(huán)形水冷槽與升降支桿同軸設(shè)置，所述水冷臺板的底端設(shè)有進(jìn)水接口、出水接口和射頻引入接口。

所述升降支桿的上端安裝有絕緣件，所述水冷臺板固定在絕緣件上。

所述水冷臺板、絕緣件、升降支桿和升降底板均為同軸設(shè)置。

所述絕緣件、升降支桿和升降底板為中空結(jié)構(gòu)，所述進(jìn)水接口、出水接口對應(yīng)的進(jìn)水管、出水管以及射頻引入接口對應(yīng)的射頻引入功率線依次從絕緣件、升降支桿和升降底板的內(nèi)部穿過。

所述可升降射頻臺還包括升降導(dǎo)桿，所述升降導(dǎo)桿固定在安裝基板上，所述升降底板固定設(shè)有一連接板，所述連接板與升降導(dǎo)桿連接并可相對升降導(dǎo)桿上下移動。

所述升降導(dǎo)桿與連接板之間設(shè)有可沿升降導(dǎo)桿上下移動的直線軸承，所述連接板與直線軸承固定連接。

所述升降導(dǎo)桿設(shè)置為兩根。

所述驅(qū)動單元為驅(qū)動氣缸，所述驅(qū)動氣缸的固定端固定在安裝基板上，伸出端與升降底板連接。

所述驅(qū)動氣缸設(shè)置為兩組，兩組驅(qū)動氣缸分設(shè)于升降支桿的兩側(cè)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：

本實(shí)用新型的可升降射頻臺，采用驅(qū)動單元、升降底板、升降支桿的結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)水冷臺板自動升降，結(jié)構(gòu)簡單緊湊，避免了現(xiàn)有技術(shù)中采用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)水冷臺板上基片的裝卸傳遞，降低了成本。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型的主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中各標(biāo)號表示：

1、水冷臺板；12、環(huán)形水冷槽；13、進(jìn)水接口；14、出水接口；15、射頻引入接口；2、升降支桿；3、安裝基板；4、伸縮波紋管；5、升降底板；51、連接板；52、直線軸承；6、驅(qū)動單元；61、固定端；62、伸出端；7、絕緣件；8、升降導(dǎo)桿。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合說明書附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

圖1和圖2示出了本實(shí)用新型可升降射頻臺的一種實(shí)施例，該可升降射頻臺包括水冷臺板1、升降支桿2、安裝基板3、伸縮波紋管4、升降底板5和驅(qū)動單元6，安裝基板3固定設(shè)置，升降支桿2下端穿過安裝基板3并與升降底板5連接，水冷臺板1安裝于升降支桿2的上端，伸縮波紋管4套設(shè)于升降支桿2上，且一端與安裝基板3連接另一端與升降底板5連接，驅(qū)動單元6與升降底板5連接并可驅(qū)動升降支桿2沿安裝基板3升降。

本實(shí)施例中的可升降射頻臺用于生產(chǎn)型多靶磁控濺射系統(tǒng)中對基片的射頻清洗，伸縮波紋管4上端安裝在生產(chǎn)型多靶磁控濺射系統(tǒng)的真空工藝腔體（圖中未示出）上，下端與升降底板5相連，將水冷臺板1密封在真空工藝腔體內(nèi)，采用驅(qū)動單元6、升降底板5、升降支桿2的結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)水冷臺板1自動升降，結(jié)構(gòu)簡單緊湊，避免了現(xiàn)有技術(shù)中采用真空機(jī)械手實(shí)現(xiàn)水冷臺板1上的基片（圖中未示出）的裝卸傳遞，降低了成本。

本實(shí)施例中，升降支桿2的上端安裝有絕緣件7，水冷臺板1固定在絕緣件7上。水冷臺板1、絕緣件7、升降支桿2和升降底板5均為同軸設(shè)置。

本實(shí)施例中，水冷臺板1內(nèi)設(shè)有環(huán)形水冷槽12，環(huán)形水冷槽12與升降支桿2同軸設(shè)置，水冷臺板1的底端設(shè)有進(jìn)水接口13、出水接口14和射頻引入接口15。通過進(jìn)水接口13、出水接口14引入循環(huán)冷卻水，實(shí)現(xiàn)對水冷臺板1和其上基片的冷卻。絕緣件7、升降支桿2和升降底板5為中空結(jié)構(gòu)，進(jìn)水接口13、出水接口14對應(yīng)的進(jìn)水管、出水管以及射頻引入接口15對應(yīng)的射頻引入功率線依次從絕緣件7、升降支桿2和升降底板5的內(nèi)部穿過。采用這種布線、布管結(jié)構(gòu)，可防止進(jìn)水管、出水管和射頻引入功率線暴露在外，同時(shí)避免了各線路、管路交錯(cuò)布置，造成結(jié)構(gòu)復(fù)雜，絕緣件7用于將水冷臺板1與升降支桿2絕緣。

本實(shí)施例中，驅(qū)動單元6為驅(qū)動氣缸，驅(qū)動氣缸的固定端61固定在安裝基板3上，伸出端62與升降底板5連接。

本實(shí)施例中，驅(qū)動氣缸設(shè)置為兩組，兩組驅(qū)動氣缸分設(shè)于升降支桿2的兩側(cè)。兩組驅(qū)動氣缸同步運(yùn)動，驅(qū)動氣缸的伸出端62伸縮運(yùn)動時(shí)帶動升降底板5及與其固定連接的升降支桿2、水冷臺板1升降運(yùn)動。

本實(shí)施例中，可升降射頻臺還包括升降導(dǎo)桿8，升降導(dǎo)桿8固定在安裝基板3上，升降底板5固定設(shè)有一連接板51，連接板51與升降導(dǎo)桿8連接并可相對升降導(dǎo)桿8上下移動。升降導(dǎo)桿8與連接板51之間設(shè)有可沿升降導(dǎo)桿8上下移動的直線軸承52，連接板51與直線軸承52固定連接。驅(qū)動氣缸驅(qū)動升降底板5升降時(shí)，連接板51帶動直線軸承52沿升降導(dǎo)桿8升降，從而提高了升降支桿2和水冷臺板1升降運(yùn)動方向的穩(wěn)定性，升降導(dǎo)桿8設(shè)置為兩根。

雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍的情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對本實(shí)用新型技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均應(yīng)落在本實(shí)用新型技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。