技術(shù)特征：

1.一種熱離子轉(zhuǎn)化器的熱-電轉(zhuǎn)化方法，包括：

S1通過原子層沉積技術(shù)在p⁺⁺硅基層上注澆20nm厚的HfO₂層，以作為注澆介質(zhì)；

S2通過化學(xué)氣相沉積法在銅箔上制備石墨烯；

S3將石墨烯轉(zhuǎn)移到HfO₂層上，并作為轉(zhuǎn)換器陽極；

S4在陽極上施加背柵電壓V_G，用以通過靜電注澆效應(yīng)控制陽極逸出功；

S5通過五軸機(jī)械手控制陽極和陰極之間的距離；

S6加熱所述陰極到750℃并維持3小時，以穩(wěn)定此轉(zhuǎn)換器；

S7繼續(xù)加熱并維持所述陰極至在1000℃。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種熱離子轉(zhuǎn)化器的熱-電轉(zhuǎn)化方法，其特征在于，所述五軸機(jī)械手具有0.7u弧角以及30nm平移精度。

3.一種熱離子轉(zhuǎn)化器，包括：陰極、陽極和兩電極之間的間隙，其特征在于，所述陽極為背柵石墨烯陽極，所述陰極為鋇鎢陰極，所述間隙的距離為17μm。