技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種磁性片材，其含有扁平狀磁性體顆粒。扁平狀磁性體顆粒由Fe?Si?Cr系合金構(gòu)成。在扁平狀磁性體顆粒的表面上存在氧膜。在將氧膜的厚度定義為從最表面到通過俄歇電子能譜測定的氧強(qiáng)度相對于最大值減半的部位的距離的情況下，氧膜的平均厚度為3.5～6.0nm。

技術(shù)研發(fā)人員：松野謙一郎;本莊良浩;內(nèi)山良太;松川篤人;櫻井康弘;矢田芳雄;伊藤守;村瀬?zhàn)?br/>受保護(hù)的技術(shù)使用者：TDK株式會社
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.08
技術(shù)公布日：2017.08.08