本發(fā)明涉及光學(xué)
技術(shù)領(lǐng)域：
，具體而言，涉及一種量子點膜、其制作方法及顯示器件。
背景技術(shù)：
：隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，人們對顯示器畫質(zhì)的要求不斷提升，QLED(量子點發(fā)光二極管)顯示以其高的色彩純度、色飽和度和廣色域被認為是未來最具代表性的顯示技術(shù)。目前QLED器件主要利用溶液法制程來制作，如噴墨打印、絲網(wǎng)印刷、旋涂、狹縫涂布等，由于顯示的像素非常小，目前子像素的涂布一般利用噴墨打印工藝來進行選擇性涂布，即在有像素隔離結(jié)構(gòu)構(gòu)筑的RGB子像素凹槽內(nèi)，利用噴嘴依次打印R、G、B量子點墨水。由于目前藍光QLED器件的效率較低，直接利用量子點構(gòu)筑RGB顯示的QLED器件還有一定難度，而傳統(tǒng)的LED與OLED的藍光發(fā)展較為成熟，因此可以利用量子點的RG光致結(jié)合LED或者OLED電致藍光來實現(xiàn)RGB顯示的方式，短期內(nèi)可以較快實現(xiàn)。另一方面，利用黃光工藝制作的像素隔離結(jié)構(gòu)工藝復(fù)雜、造價昂貴，而精密的噴墨打印設(shè)備投入同樣高昂，為新技術(shù)的推廣增加了難度。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于提供一種量子點膜、其制作方法及顯示器件，以解決現(xiàn)有技術(shù)中利用黃光工藝制作的像素隔離結(jié)構(gòu)工藝復(fù)雜且造價昂貴的問題。為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種量子點膜的制作方法，包括以下步驟：步驟S1，在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域；步驟S2，將具有多個鏤空部的表面改性掩模板設(shè)置于第一表面上，并使表面改性掩模板中的鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面圍繞鏤空部，第一改性表面之外的改性表面為第二改性表面，第一改性表面和第二改性表面不同且分別選自親水性表面和疏水性表面中的一種，且第一改性表面位于表面改性掩模板的遠離第一表面的一側(cè)；步驟S3，第一改性表面為疏水性表面，使疏水性的量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中，或第一改性表面為親水性表面，使親水性的量子點墨水通過鏤空部進入親水區(qū)域中；步驟S4，將親水區(qū)域或疏水區(qū)域中的量子點墨水干燥。進一步地，步驟S1包括：步驟S11，在透光基板的表面設(shè)置包括第一反應(yīng)原料的原料；步驟S12，遮蓋位于第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，并對位于第二區(qū)域的第一反應(yīng)原料進行紫外光照射，第一反應(yīng)原料在第二區(qū)域形成第二遮蓋區(qū)域；步驟S13，去除第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，在第一區(qū)域和第二遮蓋區(qū)域上設(shè)置第二反應(yīng)原料；步驟S14，遮蓋位于第二遮蓋區(qū)域的第二反應(yīng)原料，并對位于第一區(qū)域的第二反應(yīng)原料進行紫外光照射，第二反應(yīng)原料在第一區(qū)域形成第一遮蓋區(qū)域，然后去除第二遮蓋區(qū)域上的第二反應(yīng)原料，其中，第一反應(yīng)原料和第二反應(yīng)原料分別選自親水性反應(yīng)物和疏水性反應(yīng)物中的一種，且二者的親疏水性能相反，第一遮蓋區(qū)域和第二遮蓋區(qū)域?qū)?yīng)形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域。進一步地，制作方法還包括制備表面改性掩模板的過程：步驟S01，將掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面，優(yōu)選疏水性材料為含氟的硅烷偶聯(lián)劑；步驟S02，將固定有疏水性材料的掩模板與溶液分離，并對掩模板進行干燥處理；步驟S03，將第一光罩設(shè)置于掩模板上，第一光罩由多個第一遮擋部以及連接各第一遮擋部的第一透光部組成，第一遮擋部與鏤空部一一對應(yīng)，且一一對應(yīng)的各第一遮擋部的面積大于各鏤空部的面積，通過第一光罩對掩模板進行紫外線臭氧光解氧化，以使掩模板的對應(yīng)第一透光部的表面形成具有親水性的第二改性表面，掩模板的其余表面構(gòu)成具有疏水性的第一改性表面；或?qū)⒌诙庹衷O(shè)置于掩模板上，第二光罩由多個第二透光部以及連接各第二透光部的第二遮擋部組成，且第二透光部與鏤空部一一對應(yīng)，且一一對應(yīng)的各第二透光部的面積大于各鏤空部的面積，對掩模板進行紫外線臭氧光解氧化，以使掩模板的對應(yīng)第二透光部的表面形成具有親水性的第一改性表面，掩模板的其余表面構(gòu)成具有疏水性的第二改性表面。進一步地，步驟S3采用噴涂工藝或噴墨打印工藝以使量子點墨水通過鏤空部進入親水區(qū)域或疏水區(qū)域中。進一步地，噴涂工藝為超聲噴涂。進一步地，在第一表面上形成多個親水區(qū)域和多個疏水區(qū)域，且各親水區(qū)域和各疏水區(qū)域交替排列。進一步地，親水性的量子點墨水包括親水性量子點，且親水性量子點為表面配體含親水基團的量子點；疏水性的量子點墨水包括疏水性量子點，且疏水性量子點為表面配體含疏水基團的量子點。進一步地，量子點墨水中的量子點為紅色量子點和/或綠色量子點。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種量子點膜，量子點膜由上述的制作方法制作而成。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，還提供了一種顯示器件，顯示器件包括電致發(fā)光器件以及設(shè)置于電致發(fā)光器件出光側(cè)的量子點膜，量子點膜為上述的量子點膜。應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案，提供了一種量子點膜的制作方法，由于該制作方法通過在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域，并將表面改性掩模板設(shè)置于透光基板的第一表面上，使鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置，從而不僅能夠通過表面改性掩模板使不同的量子點墨水進入到不同的像素區(qū)域中，還能夠通過透光基板上的親水區(qū)域和疏水區(qū)域在透光基板的表面形成多個被分隔開的子像素區(qū)域，使親水性量子點墨水進入親水區(qū)域，疏水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，或使疏水性的量子點墨水進入疏水區(qū)域，親水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，從而有效地防止了不同子像素區(qū)域間的量子點墨水混色，進而也有效地解決了不同子像素區(qū)域內(nèi)量子點墨水混色而降低色彩精準性的問題；并且，相比在透明基板上設(shè)置像素隔離結(jié)構(gòu)的制作方法，本申請的上述制作方法不僅能夠同樣地使墨水注入所需的子像素區(qū)域，同時還降低了量子點膜的制作成本。除了上面所描述的目的、特征和優(yōu)點之外，本發(fā)明還有其它的目的、特征和優(yōu)點。下面將參照圖，對本發(fā)明作進一步詳細的說明。附圖說明構(gòu)成本發(fā)明的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中：圖1示出了本發(fā)明實施方式所提供的電致發(fā)光器件的制作方法的流程示意圖；以及圖2示出了本發(fā)明實施方式所提供的一種表面改性掩模板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。其中，上述附圖包括以下附圖標(biāo)記：10、鏤空部；20、改性表面；210、第一改性表面；220、第二改性表面。具體實施方式需要說明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實施例來詳細說明本發(fā)明。為了使本
技術(shù)領(lǐng)域：
的人員更好地理解本發(fā)明方案，下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分的實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本發(fā)明保護的范圍。需要說明的是，本發(fā)明的說明書和權(quán)利要求書及上述附圖中的術(shù)語“第一”、“第二”等是用于區(qū)別類似的對象，而不必用于描述特定的順序或先后次序。應(yīng)該理解這樣使用的數(shù)據(jù)在適當(dāng)情況下可以互換，以便這里描述的本發(fā)明的實施例。此外，術(shù)語“包括”和“具有”以及他們的任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含，例如，包含了一系列步驟或單元的過程、方法、系統(tǒng)、產(chǎn)品或設(shè)備不必限于清楚地列出的那些步驟或單元，而是可包括沒有清楚地列出的或?qū)τ谶@些過程、方法、產(chǎn)品或設(shè)備固有的其它步驟或單元。正如
背景技術(shù)：
中所介紹的，現(xiàn)有技術(shù)中在基板上噴墨打印制備子像素前，需先利用光刻工藝制備像素隔離結(jié)構(gòu)，以避免相鄰子像素的墨水發(fā)生混色，但是像素隔離結(jié)構(gòu)的制備與精密的噴墨打印設(shè)備都代價高昂。本申請的發(fā)明人針對上述問題進行研究，提出了一種量子點膜的制作方法，如圖1所示，包括以下步驟：步驟S1，在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域；步驟S2，將具有多個鏤空部的表面改性掩模板設(shè)置于第一表面上，并使表面改性掩模板中的鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置，表面改性掩模板具有改性表面，改性表面包括第一改性表面和第二改性表面，第一改性表面圍繞鏤空部，第一改性表面之外的改性表面為第二改性表面，第一改性表面和第二改性表面不同且分別選自親水性表面和疏水性表面中的一種，且第一改性表面位于表面改性掩模板的遠離第一表面的一側(cè)；步驟S3，第一改性表面為疏水性表面，使疏水性的量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中，或第一改性表面為親水性表面，使親水性的量子點墨水通過鏤空部進入親水區(qū)域中；步驟S4，將親水區(qū)域或疏水區(qū)域中的量子點墨水干燥。本發(fā)明的上述量子點膜的制作方法中由于在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域，并將表面改性掩模板設(shè)置于透光基板的第一表面上，使鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置，從而不僅能夠通過表面改性掩模板使不同的量子點墨水進入到不同的像素區(qū)域中，還能夠通過透光基板上的親水區(qū)域和疏水區(qū)域在透光基板的表面形成多個被分隔開的子像素區(qū)域，使親水性量子點墨水進入親水區(qū)域，疏水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，或使疏水性的量子點墨水進入疏水區(qū)域，親水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，從而有效地防止了不同子像素區(qū)域間的量子點墨水混色，進而也有效地解決了不同子像素區(qū)域內(nèi)量子點墨水混色而降低色彩精準性的問題；并且，相比在透明基板上設(shè)置像素隔離結(jié)構(gòu)的制作方法，本申請的上述制作方法不僅能夠同樣地使墨水注入所需的子像素區(qū)域，同時還降低了量子點膜的制作成本。下面將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明提供的量子點膜的制作方法的示例性實施方式。然而，這些示例性實施方式可以由多種不同的形式來實施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的實施方式。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實施方式是為了使得本申請的公開徹底且完整，并且將這些示例性實施方式的構(gòu)思充分傳達給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。首先，執(zhí)行步驟S1：在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域。在一種優(yōu)選的實施方式中，在第一表面上形成多個親水區(qū)域和多個疏水區(qū)域，且各親水區(qū)域和各疏水區(qū)域交替排列。采用上述優(yōu)選的實施方式能夠在透光基板的第一表面上形成多個相互隔離的子像素區(qū)域，從而使不同顏色的量子點墨水分別進入到不同的子像素區(qū)域中，并使具有該量子點的膜在藍色背光的照射下能夠形成發(fā)光陣列，從而制得量子點彩膜實現(xiàn)RGB的全彩顯示。在一種優(yōu)選的實施方式中，步驟S1包括：步驟S11，在透光基板的表面設(shè)置包括第一反應(yīng)原料的原料；步驟S12，遮蓋位于第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，并對位于第二區(qū)域的第一反應(yīng)原料進行紫外光照射，第一反應(yīng)原料在第二區(qū)域形成第二遮蓋區(qū)域；步驟S13，去除第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，在第一區(qū)域和第二遮蓋區(qū)域上設(shè)置第二反應(yīng)原料；步驟S14，遮蓋位于第二遮蓋區(qū)域的第二反應(yīng)原料，并對位于第一區(qū)域的第二反應(yīng)原料進行紫外光照射，第二反應(yīng)原料在第一區(qū)域形成第一遮蓋區(qū)域，然后去除第二遮蓋區(qū)域上的第二反應(yīng)原料，其中，第一反應(yīng)原料和第二反應(yīng)原料選擇親水性反應(yīng)物和疏水性反應(yīng)物，且二者的親疏性能相反，第一遮蓋區(qū)域和第二遮蓋區(qū)域?qū)?yīng)親水區(qū)域和疏水區(qū)域。在上述優(yōu)選的實施方式中，上述包括第一反應(yīng)原料的原料還可以包括溶劑、偶聯(lián)劑和引發(fā)劑。此時，上述步驟S11包括以下過程：A、將偶聯(lián)劑和引發(fā)劑在溶劑中混合，形成基板處理液；B、將透光基板的至少一側(cè)表面放置于基板處理液中，使偶聯(lián)劑鍵合固定在透光基板的表面上并形成鍵合表面；C、將第一反應(yīng)原料設(shè)置于鍵合表面。在上述步驟S12中，通過對位于第二區(qū)域的第一反應(yīng)原料進行紫外光照射，以使第一反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑在紫外照射下進行接枝反應(yīng)，從而形成上述第二遮蓋區(qū)域；在上述步驟S14中，通過對位于第一區(qū)域的第二反應(yīng)原料進行紫外光照射，以使第二反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑在紫外照射下進行接枝反應(yīng)，從而形成上述第一遮蓋區(qū)域。在上述優(yōu)選的實施方式中，去除第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料的過程可以包括：用溶劑洗去第一區(qū)域上的第一反應(yīng)原料，然后對透光基板的表面進行干燥處理；同樣地，去除第二遮蓋區(qū)域上的第二反應(yīng)原料的過程包括：用溶劑洗去第二遮蓋區(qū)域上的第二反應(yīng)原料，然后對透光基板的表面進行干燥處理。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)上述清洗工藝和干燥處理的工藝條件進行設(shè)定。為了使第一反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑之間以及第二反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑更好地進行接枝反應(yīng)，優(yōu)選地，上述偶聯(lián)劑的通式為(X1-X2-X3-)Si-Y，其中，Y為帶有乙烯基的基團或末端帶SH基的烴基，X1、X2和X3分別獨立地選自Cl、CH3、OCH3、OCH2CH3和CH2CH3中的任一種，且X1、X2和X3不同時為烴基；上述第一反應(yīng)原料和第二反應(yīng)原料的通式為A-B，其中，A為帶有乙烯基的基團，此時Y為末端帶SH基的烴基，或A為末端帶SH基的烴基，此時Y為帶有乙烯基的基團，B為帶親水基團的殘基，此時第一反應(yīng)原料或第二反應(yīng)原料為親水性反應(yīng)物，優(yōu)選親水基團為磺酸基、胺基、羥基、羧基和氨基中的任一種或多種，或B為帶疏水基團的殘基，此時第一反應(yīng)原料或第二反應(yīng)原料為疏水性反應(yīng)物，優(yōu)選親水基團為烴基、酯基、鹵素和硝基中的任一種或多種。在執(zhí)行步驟S1之后，執(zhí)行步驟S2：將上述的表面改性掩模板設(shè)置于第一表面上，表面改性掩模板中的鏤空部10對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置，表面改性掩模板具有改性表面20，改性表面20包括第一改性表面210和第二改性表面220，第一改性表面210圍繞鏤空部10，第一改性表面210之外的改性表面20為第二改性表面220，且第一改性表面210和第二改性表面220分別具有親水性和疏水性，上述表面改性掩模板如圖2所示。為了在后續(xù)步驟S3中使親水性墨水或疏水性墨水通過表面改性掩模板的鏤空部10更準確地進入透光基板的親水性或疏水性子像素區(qū)域中，優(yōu)選地，表面改性掩模板中鏤空部10的面積≤對應(yīng)的親水區(qū)域或疏水區(qū)域的面積，更為優(yōu)選地，鏤空部10與對應(yīng)的親水區(qū)域或疏水區(qū)域的形狀一致。在一種優(yōu)選的實施方式中，上述制作方法還包括制備上述表面改性掩模板的過程：步驟S01，將掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步驟S02，將固定有疏水性材料的掩模板與溶液分離，并對掩模板進行干燥處理；步驟S03，將第一光罩設(shè)置于掩模板的第一表面上，第一光罩由多個第一遮擋部以及連接各第一遮擋部的第一透光部組成，第一遮擋部與鏤空部10一一對應(yīng)，且各第一遮擋部的面積大于與其對應(yīng)的各鏤空部10的面積，通過第一光罩對第一表面進行紫外線臭氧光解氧化，再對掩模板的與第一表面相對的第二表面進行紫外線臭氧光解氧化，以形成具有親水性的第二改性表面220，掩模板的其余表面構(gòu)成具有疏水性的第一改性表面210；或?qū)⒌诙庹衷O(shè)置于掩模板上，第二光罩由多個第二透光部以及連接各第二透光部的第二遮擋部組成，且第二透光部與鏤空部10一一對應(yīng)，且一一對應(yīng)的各第二透光部的面積大于各鏤空部10的面積，對掩模板進行紫外線臭氧光解氧化，以使掩模板的對應(yīng)第二透光部的表面形成具有親水性的第一改性表面210，掩模板的其余表面構(gòu)成具有疏水性的第二改性表面220。在上述制備表面改性掩模板的步驟中，掩模板一般由金屬材料制成，由于金屬表面的氧化層與水能很好的親和，所以大部分金屬表面都是親水的，此處優(yōu)選親水的金屬材料或其他親水性耐紫外老化的材料；并且，為了使制備而成的表面改性掩模板具有更好的疏水性，優(yōu)選疏水性材料為含氟的硅烷偶聯(lián)劑。通過對疏水性材料進行紫外線臭氧光解氧化，以將疏水的含氟硅烷偶聯(lián)劑去除露出親水性的金屬表面，上述紫外線臭氧光解氧化的工藝條件本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)進行設(shè)定。在執(zhí)行步驟S2之后，執(zhí)行步驟S3：第一改性表面210為疏水性表面，使疏水性的量子點墨水通過鏤空部10進入疏水區(qū)域中，或第一改性表面210為親水性表面，使親水性的量子點墨水通過鏤空部10進入親水區(qū)域中?？梢圆捎脟娡抗に嚮驀娔蛴」に囈允沽孔狱c墨水通過鏤空部10進入親水區(qū)域或疏水區(qū)域中，優(yōu)選上述量子點墨水的粘度≤50cps，從而使量子點墨水更好地分散出墨落入子像素區(qū)域中；并且，為了保證噴頭能有效的將量子點墨水霧化開，優(yōu)選地，上述噴涂工藝為超聲噴涂，而為了提高量子點墨水的噴涂效果，優(yōu)選超聲噴涂采用的超聲頻率為45kHz～180kHz，優(yōu)選量子點墨水的粘度≤10cps。上述親水性墨水包括親水性量子點，且親水性量子點為表面配體含親水基團的量子點，優(yōu)選親水基團為羧基、氨基、羥基或巰基；上述疏水性墨水包括疏水性量子點，且疏水性量子點為表面配體含疏水基團的量子點，優(yōu)選疏水基團為烷烴鏈或酯基；為了使電致光致結(jié)合的發(fā)光器件能夠全彩顯示，優(yōu)選上述量子點墨水中的量子點為紅色量子點和綠色量子點。上述親水性和疏水性量子點墨水還可以包括可固化樹脂或其單體以及溶劑(或稱作分散劑)。其中，溶劑可以選自沸點為40～250℃之間的長鏈烴、醇、酯和醚的混合物作為有機溶劑。優(yōu)選地，烴為直鏈或支鏈烷烴，例如，烴為C6-10烷烴。上述有機溶劑可以為氯苯、鄰二氯苯、四氫呋喃、苯甲醚、嗎啉、甲苯、鄰二甲苯、間二甲苯、對二甲苯、烷基苯、硝基苯、正己烷、環(huán)己烷、正庚烷、環(huán)庚烷、二氧六環(huán)、二氯甲烷、三氯甲烷、二氯乙烷、氯仿、氯苯、1,4二氧雜環(huán)己烷、1,2二氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2,2-四氯乙烷、四氫萘、萘烷、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亞砜氯仿、四氫呋喃、二氯甲烷、甲苯、正己烷、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙酮、二氧六環(huán)、二甲基甲酰胺和二甲基亞砜。其中，可固化樹脂選自環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、有機硅樹脂，或者對應(yīng)的單體交聯(lián)形成可固化樹脂。上述親水性和疏水性量子點墨水中還可以包括帶雙鍵的交聯(lián)劑，光固化劑或熱固化劑等。在執(zhí)行步驟S3之后，執(zhí)行步驟S4：將親水區(qū)域或疏水區(qū)域中的量子點墨水干燥。對上述量子點墨水干燥的工藝條件本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)進行設(shè)定。在一種優(yōu)選的實施方式中，制作方法還包括至少重復(fù)一次步驟S2至S4的過程，各次重復(fù)過程中，所采用的表面改性掩模板的鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域，所采用的量子點墨水的發(fā)光顏色也不同。在上述優(yōu)選地實施方式中，通過使各子像素區(qū)域中設(shè)置不同發(fā)光顏色的量子點墨水并干燥，以調(diào)整電致發(fā)光器件最終的發(fā)光顏色；并且，通過分別在不同的子像素區(qū)域中設(shè)置紅色量子點和綠色量子點，在藍色背光的照射下，該量子點膜能實現(xiàn)紅色和綠色的光致發(fā)光，從而實現(xiàn)RGB的全彩顯示。根據(jù)本申請的另一個方面，還提供了一種量子點膜，該量子點膜由上述的制作方法制作而成。由于上述量子點膜是通過在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域，并將上述的表面改性掩模板設(shè)置于透光基板的第一表面上，使鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置而形成的，從而不僅能夠通過表面改性掩模板使不同的量子點墨水進入到不同的子像素區(qū)域中，還能夠通過透光基板上的親水區(qū)域和疏水區(qū)域在透光基板的表面形成多個被分隔開的子像素區(qū)域，使親水性量子點墨水進入親水區(qū)域，疏水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，或使疏水性的量子點墨水進入疏水區(qū)域，親水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，有效地防止了量子點膜中不同子像素區(qū)域間的量子點混色；并且，相比在透明基板上設(shè)置像素隔離結(jié)構(gòu)而形成的量子點膜，上述量子點膜能夠具有更低的制作成本。根據(jù)本申請的另一個方面，還提供了一種顯示器件，顯示器件包括電致發(fā)光器件以及設(shè)置于電致發(fā)光器件出光側(cè)的上述量子點膜。由于上述顯示器件中的量子點膜是通過在透光基板的第一表面上形成親水區(qū)域和疏水區(qū)域，并將上述的表面改性掩模板設(shè)置于透光基板的第一表面上，使鏤空部對應(yīng)親水區(qū)域或疏水區(qū)域設(shè)置而形成的，從而通過防止量子點膜中不同像素區(qū)域間的量子點混色，有效地提高了具有該量子點膜的顯示器件色彩精準性的問題。為了防止在電致發(fā)光器件照射量子點膜時量子點膜中相鄰子像素區(qū)域間的混光，優(yōu)選地，在量子點膜中的透光基板的與第一改性表面相對的第二改性表面或與第二改性表面貼合的藍色背光出光側(cè)上設(shè)置黑色矩陣，當(dāng)親水性的量子點墨水進入親水區(qū)域中時，黑色矩陣與疏水區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置，當(dāng)疏水性的量子點墨水進入疏水區(qū)域中時，黑色矩陣與親水區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置。下面將結(jié)合實施例進一步說明本發(fā)明提供的量子點膜的制作方法。實施例1本實施例提供的表面改性掩模板的制作方法的步驟包括：步驟S01，將掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，上述疏水性材料為十七氟癸基三甲氧基硅烷，以使疏水性材料固定于掩模板的表面；步驟S02，將固定有疏水性材料的掩模板與溶液分離，并將掩模板干燥；步驟S03，將第一光罩設(shè)置于具有96×64個鏤空部的掩模板的第一表面上，第一光罩由96×64個第一遮擋部以及連接各第一遮擋部的第一透光部組成，第一遮擋部與鏤空部一一對應(yīng)，且一一對應(yīng)的各第一遮擋部的面積大于各鏤空部的面積，采用UV燈發(fā)出185nm和254nm波長的紫外光并使紫外光通過第一光罩對第一表面進行5min的紫外線臭氧光解氧化，再采用UV燈發(fā)出185nm和254nm波長的紫外光對掩模板的與第一表面相對的第二表面進行5min的紫外線臭氧光解氧化，以將光照射到的表面形成親水性表面，掩模板的其余表面構(gòu)成疏水性表面，疏水性表面圍繞鏤空部。實施例2本實施例提供的表面改性透光基板的制作方式如下：將偶聯(lián)劑和引發(fā)劑在溶劑中混合，形成基板處理液，將透光基板的一側(cè)表面放置于基板處理液中，使偶聯(lián)劑鍵合固定在透光基板的表面上并形成鍵合表面，將第一反應(yīng)原料設(shè)置于鍵合表面上，遮蓋位于第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，并對位于第二區(qū)域的第一反應(yīng)原料進行紫外照射，以使第一反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑在紫外照射下進行接枝反應(yīng)，從而形成疏水區(qū)域，去除第一區(qū)域的第一反應(yīng)原料，在第一區(qū)域和第二遮蓋區(qū)域上設(shè)置第二反應(yīng)原料，遮蓋位于第二遮蓋區(qū)域的第二反應(yīng)原料，并對位于第一區(qū)域的第二反應(yīng)原料進行紫外照射，以使第二反應(yīng)原料與偶聯(lián)劑在紫外照射下進行接枝反應(yīng)，從而形成親水區(qū)域；其中，透光基板為玻璃，偶聯(lián)劑為氯(二甲基)乙烯基硅烷，引發(fā)劑為4-二甲基吡啶，第一反應(yīng)原料1H,1H,2H,2H-全氟癸硫醇，第二反應(yīng)原料巰基乙胺，疏水性的第二區(qū)域?qū)?yīng)兩組96×64的微陣列圖案。實施例3本實施例提供的量子點膜的制作方法，采用實施例1中的表面改性掩模板和實施例2中的表面改性透光基板，制作方法包括以下步驟：步驟S1，將表面改性掩模板設(shè)置于第一表面上，表面改性的96×64個鏤空部與疏水區(qū)域的其中一組96×64個微陣列圖案對應(yīng)；步驟S2，采用噴墨打印(型號為DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工藝使疏水性的紅色量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中；步驟S3，將疏水區(qū)域中的量子點墨水干燥，步驟S4，將表面改性掩模板設(shè)置于第一表面上，表面改性的96×64個鏤空部與疏水區(qū)域的另一組96×64個微陣列圖案對應(yīng)；步驟S5，采用噴墨打印(型號為DimatixMaterialsPrinterDMP-2831)工藝使疏水性的綠色量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中；步驟S3，將疏水區(qū)域中的量子點墨水干燥，其中，紅色與綠色量子點墨水的粘度均為15cps，紅色量子點材料為CdSe/ZnS，綠色量子點材料為CdSe/CdS，兩者表面的疏水配體都為油酸。實施例4本實施例提供的制作方法與實施例3的區(qū)別在于：噴墨打印采用的紅色和綠色量子點墨水的粘度為5cps。實施例5本實施例提供的制作方法與實施例3的區(qū)別在于：采用超聲噴涂使疏水性的紅色量子點墨水和綠色量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中，上述超聲噴涂工藝中的超聲頻率為120kHz。實施例6本實施例提供的制作方法與實施例5的區(qū)別在于：超聲噴涂工藝中的超聲頻率為45kHz。對比例1本對比例提供的量子點膜的制作方法的步驟包括：步驟S1，在透光基板的第一表面上涂覆光刻膠，然后依次進行曝光和顯影，以形成像素隔離結(jié)構(gòu)，像素隔離結(jié)構(gòu)具有兩組96×64個相互隔離的子像素區(qū)域，且像素隔離結(jié)構(gòu)的裸露表面為親水性表面，像素隔離結(jié)構(gòu)中隔離基體的相鄰側(cè)壁與基板垂直，相鄰的側(cè)壁之間的隔離基體為隔離條，且隔離條的遠離基板的一側(cè)表面為平面；步驟S2，將表面改性的掩模板設(shè)置于第一表面上，掩模板的96×64個鏤空部與一組子像素區(qū)域?qū)?yīng)；步驟S3，采用噴墨打印工藝使疏水性的紅色量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中；步驟S4，將疏水區(qū)域中的紅色量子點墨水干燥；步驟S5，表面改性的掩模板設(shè)置于第一表面上，掩模板的96×64個鏤空部與另一組子像素區(qū)域?qū)?yīng)；步驟S6，采用噴墨打印工藝使疏水性的綠色量子點墨水通過鏤空部進入疏水區(qū)域中；步驟S7，將疏水區(qū)域中的綠色量子點墨水干燥，其中，透光基板為玻璃，形成上述裸露表面的材料為聚酰亞胺，紅色量子點材料墨水包括CdSe/ZnS，綠色量子點材料包括CdSe/CdS，量子點材料墨水的粘度為15cps。對比例2本對比例提供的制作方法與對比例1的區(qū)別在于，通過分別旋涂紅色、綠色量子點材料，多次曝光顯影得到紅色綠色相間的量子點膜，具體步驟為：步驟S1，在有像素隔離結(jié)構(gòu)的透光基板上旋涂紅色量子點材料，然后對設(shè)置有紅色量子點材料的透光基板依次進行烘烤處理、曝光處理、顯影處理和干燥處理；步驟S2，在上述基板上旋涂綠色量子點材料，然后對設(shè)置有綠色量子點材料的透光基板依次進行烘烤處理、曝光處理、顯影處理和干燥處理，其中，步驟S1和步驟S2分別得到96×64個紅色量子點陣列和96×64個綠色量子點陣列。分別將上述實施例3至6和對比例1至2中的量子點膜施加密封保護層后，設(shè)置于藍色電致發(fā)光器件(BLED)的出光側(cè)，電致發(fā)光器件包括順序?qū)盈B環(huán)氧樹脂封裝的藍色LED燈珠和光擴散板。利用積分球?qū)t色和綠色量子點的光致發(fā)光光譜面積進行積分，得到紅色和綠色量子的光致發(fā)光效率分別如下：實施例編號紅色量子點光致效率綠色量子點光致效率實施例341％32％實施例446％36％實施例545％37％實施例643％33％對比例144％35％對比例242％31％從上述測試結(jié)果可以看出，本發(fā)明的實施方式得到的紅色量子點和綠色量子點膜的光致發(fā)光效率與傳統(tǒng)工藝相當(dāng)，甚至還有所提高，但制造成本卻大為降低。從以上的描述中，可以看出，本發(fā)明上述的實施例實現(xiàn)了如下技術(shù)效果：1、利用本發(fā)明的表面改性掩模板制備量子點膜時，能夠通過使量子點墨水與圍繞鏤空部的第一改性表面具有相同的親疏水性，使量子點墨水在通過鏤空部進入對應(yīng)的子像素區(qū)域中不會粘附在表面改性掩模板上，從而有效地防止了由于墨水粘附在掩模板上而導(dǎo)致進入各子像素區(qū)域中的墨水量不均，進而有效地避免了由于各子像素區(qū)域中的墨水量不均而導(dǎo)致的色彩精準性降低的問題；2、通過透光基板上的親水區(qū)域和疏水區(qū)域在透光基板的表面形成多個被分隔開的子像素區(qū)域，使親水性量子點墨水進入親水區(qū)域，疏水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，或使疏水性的量子點墨水進入疏水區(qū)域，親水區(qū)域作為隔離結(jié)構(gòu)，從而有效地防止了不同子像素區(qū)域間的量子點墨水混色，進而也有效地解決了不同子像素區(qū)域內(nèi)量子點墨水混色而降低色彩精準性的問題；3、相比在透明基板上設(shè)置像素隔離結(jié)構(gòu)的制作方法，本申請的上述制作方法不僅能夠同樣地使墨水注入所需的子像素區(qū)域，同時還降低了量子點膜的制作成本。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3