技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種發(fā)光裝置及其控制方法和光學(xué)相干斷層成像設(shè)備。發(fā)光裝置、特別是超輻射發(fā)光二極管包括設(shè)置在用于向有源層注入電流的上電極和下電極之間的該有源層。有源層用作光波導(dǎo)并且具有用于發(fā)射光的第一端面和第二端面。發(fā)光裝置還包括第一光接收部、第二光接收部以及控制部，其中該第一光接收部和第二光接收部分別用于接收從第一端面和第二端面發(fā)射出的光，并且分別生成第一光學(xué)信息和第二光學(xué)信息，該控制部用于根據(jù)第一光學(xué)信息和第二光學(xué)信息對(duì)從上電極至有源層的電流注入量進(jìn)行控制?？梢栽诙虝r(shí)間段內(nèi)容易、精確且可靠地控制發(fā)光裝置的光學(xué)輸出和譜形狀。

技術(shù)研發(fā)人員：須賀貴子
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會(huì)社
文檔號(hào)碼：201610663632
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.12
技術(shù)公布日：2017.02.22