本發(fā)明涉及板條(slab)放電、橫向激勵大氣壓(tea)激光器技術(shù)領(lǐng)域，具體講涉及一種板條放電預(yù)電離橫向激勵大氣壓激光器，簡稱slab-tea激光器。

背景技術(shù)：

上世紀60年代激光器問世所引發(fā)的光學科學革命，為人類社會進步以及人類思維廣度和深度的拓展產(chǎn)生了巨大而深遠的影響。特別在制造技術(shù)領(lǐng)域，出現(xiàn)了以激光技術(shù)為基礎(chǔ)的全新的“激光思想、方法和手段”，相對于傳統(tǒng)的機械硬去除(車削、銑削、磨學、鏜、鉆、沖壓等)加工工藝，激光加工呈現(xiàn)出柔性、精細等優(yōu)良特性，高熔點材料的激光3d打印更是引發(fā)了機械制造領(lǐng)域深刻的革命性變化，co2激光器在這場氣勢磅礴的“光技術(shù)”革命浪潮中一直扮演著重要角色，至今，仍然以優(yōu)良的性價比，近似于理想的光束質(zhì)量，廣泛的工業(yè)加工應(yīng)用，最佳的生物醫(yī)學效應(yīng)、最好的大氣穿透性等顯著特點而倍受青睞。

co2激光器誕生已大半個世紀，在電激勵方向與形式、放電結(jié)構(gòu)、氣體工作冷卻(置換)方式等方面經(jīng)過漫長的演變以及多種形式變化，技術(shù)發(fā)展已經(jīng)歷了玻璃管全封離態(tài)、氣體橫向流動、氣體縱(軸)向流動、擴散型冷卻方式四代。氣體工作介質(zhì)的冷卻方式是業(yè)界公認的具有化代意義的技術(shù)特征。

co2激光器家族中，第四代器件---射頻激勵擴散冷卻板條波導(dǎo)co2激光器(簡稱slab-co2激光器)是氣體激光器技術(shù)的一項重大突破，作為連續(xù)輸出大功率激光的典型器件，具有連續(xù)輸出、功率大、光束質(zhì)好、性價比高等顯著優(yōu)點，在許多重要的應(yīng)用領(lǐng)域，特別是工業(yè)加工領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，是目前最先進的大功率co2激光器件之一。而橫向激勵大氣壓co2激光器(簡稱teaco2激光器)則是氣體激光技術(shù)的另一項重大突破，作為脈沖輸出高峰值功率的典型器件，具有峰值功率高、單脈沖能量大等顯著優(yōu)點。經(jīng)歷半個多世紀的發(fā)展，co2激光器作為工業(yè)加工應(yīng)用主力激光器件，盡管在制造技術(shù)上已相當成熟，但現(xiàn)有器件的技術(shù)上缺陷，性能的不足，還不能滿足更高層面應(yīng)用的實際需求。

現(xiàn)有連續(xù)輸出的典型slab-co2激光器在放電結(jié)構(gòu)、電激勵方式、氣體工作介質(zhì)的 冷卻方式方面存在技術(shù)缺陷：

第一，在放電結(jié)構(gòu)方面，現(xiàn)有大功率slab-co2激光器的放電結(jié)構(gòu)中板條波導(dǎo)電極的放電面既光諧振的波導(dǎo)面，放電間距即光波導(dǎo)間距d嚴格限制在1.5mm≤d＜6mm范圍，均勻穩(wěn)定放電的氣壓p值也較低，通常低于約30kp，使得pd積(氣壓、間距)較小，提高該激光器的輸出激光功率僅靠增大放電面積，無法通過增高氣壓這種更有效的技術(shù)途徑來實現(xiàn)。

第二，在電激勵方式方面，射頻激勵以pwm控制的脈沖調(diào)幅方式為氣體放電提供射頻能量，雖然可精確控制板條(slab)放電的電離度，但脈沖調(diào)幅或斬波技術(shù)不能大幅提高射頻脈沖的峰值功率，也就滿足不了更大pd積氣體輝光放電所需的電激勵能量。

第三，在氣體工作介質(zhì)的冷卻方式方面，現(xiàn)今還缺乏相比玻璃管全封離態(tài)、橫流、軸(縱)流、擴散冷卻這四種方式更有效的氣體工作介質(zhì)冷卻方法。受上述三個根本性技術(shù)缺陷的制約，目前單臺slab-co2激光器在保持高光束質(zhì)量的前提下若要進一步提高至十幾、幾十乃至數(shù)百kw現(xiàn)有技術(shù)還做不到，盡管光束質(zhì)量高但輸出功率不足，因為功率不足激光束聚焦工作點的直徑就要小，瑞利長度(焦深)就短，這嚴重制約了激光先進制造技術(shù)的應(yīng)用和發(fā)展。

現(xiàn)有很高水平的脈沖輸出的典型器件teaco2激光器在技術(shù)上仍然還存在一些根本性缺陷：

第一，現(xiàn)有放電電極是預(yù)先設(shè)計的某種固定面型與結(jié)構(gòu)，相對氣體電離的動態(tài)變化過程是“靜態(tài)”的，在理論上尚未完全研究透大pd值氣體放電特性的前提下，放電電極這種預(yù)先固化的面型與結(jié)構(gòu)難以以“靜”應(yīng)對不完全確定的多“變”；

第二，現(xiàn)有的次、主雙放電激勵方式，實現(xiàn)預(yù)電離的次放電通常是一次伴隨性的被動的瞬間的放電瞬間過程，不能主動、動態(tài)、精確控制預(yù)電離強度；

第三，現(xiàn)有預(yù)電離技術(shù)如紫外、電暈、介質(zhì)阻擋等雖然簡單實用，但產(chǎn)生的初始電子密度不夠，僅能制造mw量級的中小功率器件；而gw、tw量級器件需要采用電子束維持預(yù)電離，附加的電子束產(chǎn)生裝置技術(shù)復(fù)雜、體積和重量大、成本高；目前缺乏一種簡便易行能夠產(chǎn)生大體積、高初始電子密度的預(yù)電離方法、技術(shù)及裝置；

第四，現(xiàn)有紫外預(yù)電離方法，預(yù)電離放電區(qū)域“泛”，紫外光照射“漫”，預(yù)電離的效率不高，額外破碎性分解co2氣體；

迄今還沒有一種結(jié)構(gòu)緊湊、成本低廉，兼顧連續(xù)、脈沖工作方式的放電結(jié)構(gòu)，沒有 比次、主雙放電更有效的復(fù)合放電方式。顯然，現(xiàn)有tea-co2激光器在關(guān)鍵的放電結(jié)構(gòu)、電激勵方法、預(yù)電離方式上需要有所創(chuàng)新。

綜上分析，現(xiàn)有slab-co2、tea-co2器件都已經(jīng)無法突破制約進一步發(fā)展的技術(shù)瓶頸，然而無論科學研究還是生產(chǎn)實際，都迫切需要一種更高性能的新一代co2激光器。

為了實現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)的進一步發(fā)展，需要提供一種新型的激光器，滿足放電結(jié)構(gòu)、電激勵方式、預(yù)電離方式上的創(chuàng)新。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了滿足現(xiàn)有激光器的放電結(jié)構(gòu)、電激勵方式和預(yù)電離方式上的創(chuàng)新，進一步提高現(xiàn)有激光器的性能，突破制約進一步發(fā)展的技術(shù)瓶頸，提出一種板條放電預(yù)電離橫向激勵大氣壓激光器，簡稱slab-tea激光器。

本發(fā)明提供的一種板條(slab)放電預(yù)電離橫向激勵大氣壓(tea)激光器，其改進之處在于，所述激光器包括：在真空腔內(nèi)縱斷面兩端設(shè)有光學諧振腔，從上至下一次設(shè)置的縱剖面為凸臺，鏡像對稱設(shè)置的tea主放電上下電極(1)和(2)，以及氣體擾動裝置(12)；所述tea主放電下電極(2)包括位于所述tea主放電下電極(2)縱向的、豎直設(shè)于過渡連接板(2-5)同側(cè)的端部tea主放電電極、中段tea主放電電極以及位于所述端部和中段tea主放電電極間或兩中段tea主放電電極間的所述中段slab放電電極(3)；所述中段tea主放電電極與所述端部tea主放電電極間設(shè)有slab預(yù)電離放電間距支撐片(5)；所述tea主放電上下電極(1)和(2)兩端間設(shè)有tea主放電間距支撐桿(4)。

進一步的，所述tea主放電上電極(1)包括支撐面和tea主放電上放電面(1-1)；tea主放電上放電面包括由豎直垂直貫通所述上放電面(1-1)的氣流通孔陣列(1-3)分隔成的子放電面。

進一步的，所述端部tea主放電電極橫截面為鏡像對稱設(shè)置分別由兩個兩橫臂長度一一對應(yīng)相等且豎直方向高相等的“f”字形；所述中段tea主放電電極橫截面為長寬相等的兩橫臂，其縱面從上至下作為slab放電預(yù)電離的接地面(2-7)的第一橫臂下的第二橫臂設(shè)有輔助定位孔(2-10)的凸臺(2-9)；所述slab放電電極(3)的橫截面為“王”字形，縱截面豎直方向較短、橫向較長的“t”字形；所述“f”、“王”和“干”字形從上往下數(shù)第二個橫臂的各兩臂間分別設(shè)置橫斷面為矩形縱斷面為圓形的支撐片(5)。

進一步的，所述“f”形和所述“干”字形兩者的高度相等，兩者的兩橫臂均分別設(shè)置于同一水平面上、寬相等且其各自的端部在同一豎直線上；所述“王”字形的從上往下數(shù)的第一橫臂與所述“f”、“干”字形的同一方向的第一橫臂的下表面在同一水平面上，而該橫臂的高度小于所述“f”和“干”的第一橫臂的高度，其第三橫臂下底面連接預(yù)電離激勵電源。

進一步的，所述“王”字形slab放電塊的頂端縱向設(shè)有梯形凹槽；于所述slab“王”字形的放電塊的從上往下順序的第三橫臂內(nèi)側(cè)，與軸線平行處設(shè)有與所述凹槽平行的冷卻水道(3-3)；所述slab放電塊縱斷面為橫豎兩部分組成的“t”字形，所述橫部分的下側(cè)設(shè)有以所述豎部分為軸線對稱設(shè)置的有輔助定位孔(3-10)的圓形支撐平臺(3-9)；所述豎部分軸線上設(shè)有對接安裝輔助孔(3-4)；所述豎直部的底端設(shè)有與所述軸線平行的兩個電源連接接口(3-5)。

進一步的，所述“f”和“干”字形tea放電極由上往下第二橫臂內(nèi)側(cè)縱向設(shè)有冷卻水道(2-4)；在縱面從上至下的凸臺下方的放電脊軸線上分別設(shè)有對接裝配孔(2-3)；底部與過渡連接板(2-5)連接。

進一步的，“f”和“干”字形tea放電脊由上到下的第一橫臂橫截面為梯形；其“王”字形slab放電塊由上到下的第一橫臂和第二橫臂橫截面為梯形。

進一步的，所述slab放電電極縱端面為垂直或傾斜的設(shè)置或不設(shè)置凸臺(3-9)的橫端面的頂部設(shè)有凹槽的平面。

進一步的，所述tea主放電間距支撐桿(4)中間為粗圓柱體，兩端為帶有螺紋的細圓柱體。

進一步的，由tea主放電電極與slab放電電極構(gòu)成的相鄰二放電脊之間的間隔(2-12)、相鄰二橫臂之間的間隙(2-13)、slab放電預(yù)電離的接地面(2-7)、tea主放電區(qū)(8)、氣流通孔陣列(1-3)自下而上形成貫穿整個復(fù)合放電結(jié)構(gòu)的氣體介質(zhì)冷卻通道(9)，并由于tea主放電上電極(1)的阻擋形成氣體介質(zhì)的三維流動。

與最接近的現(xiàn)有技術(shù)比，本發(fā)明具有以下優(yōu)異效果：

1、本發(fā)明提供的激光器中slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)簡約、緊湊，由氣體工作介質(zhì)冷卻通道將構(gòu)造相互獨立的slab放電預(yù)電離區(qū)、tea主放電區(qū)緊密聯(lián)系，在氣體電離的過程中建立起動態(tài)的大體積空間的放電關(guān)聯(lián)性，便于塑造大體積理想形狀的主放電等離子體。

2、本發(fā)明提供的激光器采用slab放電預(yù)電離，板條放電通道僅作為預(yù)電離放電、氣體流動的通道，故預(yù)電離間距d0相比傳統(tǒng)的板條放電間距縮窄數(shù)倍至十數(shù)倍，slab放電預(yù)電離能夠在很高的氣壓下實現(xiàn)均勻穩(wěn)定的放電，激發(fā)足夠數(shù)量的初始電子密度，有利于主放電產(chǎn)生更高的激光功率。

3、本發(fā)明提供的激光器的slab放電預(yù)電離嚴格約束在特設(shè)的板條放電通道內(nèi)，相比紫外、電暈等預(yù)電離方法的“泛”放電和“漫”激發(fā)，預(yù)電離的有效性更高，不產(chǎn)生非必要的氣體介質(zhì)分解，可提供更高的初始電子密度；相比電子束注入的預(yù)電離方法，在初始電子密度可比擬的情況下，預(yù)電離技術(shù)更簡約，成本更低廉。

4、本發(fā)明提供的技術(shù)方案中slab放電預(yù)電離可以主動、動態(tài)、精確控制預(yù)電離強度，預(yù)電離是“柔性”的，不過度破碎性地分解co2分子，既能保證為主放電提供足夠的初始電子密度，又可保證參加主放電氣體介質(zhì)的“新鮮度”，這樣預(yù)電離放電就可以是連續(xù)的，為主放電提供持續(xù)的“熱態(tài)”或稱“值班底火”，有利于提高主放電的可靠性。

5、本發(fā)明提供的激光器中板條放電塊設(shè)置在下電極相鄰二放電脊的間隔中，凸脊插入在間隙中并處于下放電面之下，這種結(jié)構(gòu)一方面可以最大限度避免主放電的影響；另一方面，對氣體流動有一定的導(dǎo)向作用，引導(dǎo)攜帶初始電子的氣流吹向主放電區(qū)的中心區(qū)域，有利于提高主放電的穩(wěn)定性。

6、本發(fā)明提供的激光器中slab放電預(yù)電離的整體電結(jié)構(gòu)對外呈現(xiàn)阻抗z0、固有振蕩頻率f0二個靜態(tài)電參量，易于匹配饋入預(yù)電離放電的激勵電功率。

7、本發(fā)明提供的激光器中slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)中設(shè)有氣體工作介質(zhì)冷卻(置換)通道，相鄰二脊之間的間隔2-12、相鄰二橫臂之間的間隙2-13、slab放電預(yù)電離的接地面2-7、tea主放電區(qū)8、氣流通孔陣列1-3自下而上形成貫穿整個復(fù)合放電結(jié)構(gòu)，并由于tea主放電上電極1的阻擋形成氣體介質(zhì)冷卻(置換)的三維流動具有技術(shù)化代的重要意義；三維流動有利于均化初始電子密度，提高主放電的均勻性；部分氣體以最短路徑穿越主放電區(qū)，能夠強化放電氣體介質(zhì)的冷卻及置換，有利于提高主放電的重復(fù)頻率，從而提高輸出激光的重頻。

8、本發(fā)明提供的激光器中slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)方便改變主放電間距d0，易于兼容連續(xù)、脈沖二種工作方式；脈沖工作時，slab放電預(yù)電離實現(xiàn)低能量的一級激發(fā)，建立一定密度的初始電子，再采用傳統(tǒng)的tea技術(shù)完成高能量的二級激發(fā)，為次、主雙放電再提供一次“初放電”，以“初、次、主”三放電形式，提高通常tea放電的性能， 輸出更大能量的激光脈沖。

9、本發(fā)明提供的slab-tea激光器的復(fù)合放電結(jié)構(gòu)可方便地將上放電面和下放電面設(shè)置為光波導(dǎo)面，主放電間距d0設(shè)置為1.5≤d0＜6mm，就是一種新型的“slab激光器”，由于成倍增高了工作氣壓，連續(xù)輸出的激光功率以氣壓的平方關(guān)系大幅提高，保持高光束質(zhì)量的同時可提高幾十至幾百kw；在保持與傳統(tǒng)slab激光器相同的激光功率密度前提下，工作點的光斑直徑可增加至數(shù)mm，而其瑞利長度(焦深)則可增至幾十至上千mm，可以將激光加工材料的厚度從約20mm提升到幾十、幾百甚至上千毫米，突破激光制造先進技術(shù)不宜加工厚材的制約瓶頸，大幅擴展激光加工的應(yīng)用領(lǐng)域。

10、本發(fā)明提供的slab-tea激光器的復(fù)合放電結(jié)構(gòu)中，上放電面由氣流通孔陣列分隔成并列的多個子放電面，下放電面設(shè)有間隙將各放電脊的上頂面也分隔為多個子放電面，整個tea主放電區(qū)是放電的子空間增益區(qū)與不放電的窄條非增益區(qū)相間并列，增益區(qū)寬而非增益區(qū)窄，使激光增益在電極的橫向具有周期分布的特性，有益于消除其它高階模，萃取高功率優(yōu)質(zhì)激光束輸出。

11、本發(fā)明提供的slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)中，slab預(yù)電離采用單電源輸入多通道同時放電均勻激勵，tea主放電采用單電源輸入多個并列子電極同時放電均勻激勵，因而可以將器件做成陣列型，多個復(fù)合放電結(jié)構(gòu)串、并連接，實現(xiàn)按增益體積縮放提高器件的功率輸出。

說明書附圖

圖1是slab-tea激光器示意圖；

圖2是tea主放電上電極示意圖：

(a)為放電面示意圖；(b)為端面示意圖；

圖3是tea主放電下電極示意圖；

(a)為端面示意圖；(b)為放電脊側(cè)面圖；

圖4是slab放電電極示意圖

(a)為放電脊端面圖；(b)為放電脊側(cè)面示意圖；

圖5是tea主放電間距支撐桿示意圖；

圖6是slab預(yù)電離放電間距支撐件示意圖；

(a)支撐片正面圖；(b)支撐片側(cè)面示意圖；

圖7是slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為slab放電電極局部放大示意圖；

圖9為實施例用slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為復(fù)合放電結(jié)構(gòu)串聯(lián)示意圖；

圖11為slab放電塊為“凸”字形局部示意圖。

其中，1-tea主放電上電極、2-tea主放電下電極、3-slab放電電極、4-tea主放電間距支撐桿、5-slab預(yù)電離放電間距支撐片、6-復(fù)合放電結(jié)構(gòu)、7-slab放電預(yù)電離區(qū)、8-tea主放電區(qū)、9-氣體工作介質(zhì)冷卻通道、10-slab放電匹配電感組、11-光學諧振腔、12-氣體擾動裝置、1-1–tea主放電的上放電面、1-2–上支撐臺階面、1-3–氣流通孔陣列、1-4–輔助安裝孔、1-5–連接外部循環(huán)的冷卻水的水冷道、2-1–放電脊、2-2–下放電面、2-3–對接裝配孔、2-4-連接外部循環(huán)的冷卻水的水冷道、2-5–過度連接板、2-6–下支撐臺階面、2-7–slab放電預(yù)電離的接地面、2-8–凹臺階面、2-9–圓形支撐平臺、2-10–輔助定位孔、2-11–安裝孔、2-12–相鄰二脊之間的間隔、2-13–相鄰二橫臂之間的間隙、3-1–slab放電塊、3-2–凸脊、3-3冷卻水道、3-4–對接安裝輔助孔、3-5–電源連接接口、3-6–梯形凹槽、3-7–slab放電預(yù)電離的接激勵電源面、3-8–臺階面、3-9–圓形支撐平臺、3-10–輔助定位孔。

具體實施方式

為清楚詳細的描述本說明的技術(shù)方案，結(jié)合附圖和具體實施例表述板條放電預(yù)電離橫向激勵大氣壓激光器的結(jié)構(gòu)特點，激勵方式和氣體工作冷卻方式。

本發(fā)明提出一種板條(slab)放電預(yù)電離橫向激勵大氣壓(tea)激光器，簡稱slab-tea激光器，如圖1所示，在真空腔內(nèi)縱斷面兩端設(shè)有光學諧振腔，從上至下一次設(shè)置的縱剖面為凸臺，鏡像對稱設(shè)置的tea主放電上電極1和下電極2，以及氣體擾動裝置12；所述tea主放電下電極2包括位于所述tea主放電下電極2縱向的、豎直設(shè)于過渡連接板2-5同側(cè)的端部tea主放電電極、中段tea主放電電極以及位于所述端部和中段tea主放電電極間或兩中段tea主放電電極間的所述中段slab放電電極3；所述中段tea主放電電極與所述端部tea主放電電極間設(shè)有slab預(yù)電離放電間距支撐片5；所述tea主放電上電極1和下電極2兩端間設(shè)有tea主放電間距支撐桿4。

如圖2tea主放電上電極示意圖(b)放電面正面視圖所示的tea主放電上電極1，上電極1的形狀為帶有凸臺的矩形體，長度l1設(shè)為180mm≤l1＜1000mm，厚度h1設(shè) 為10mm≤h1＜30mm，所述上電極設(shè)有tea主放電的上放電面1-1，左右端對稱設(shè)置的上支撐臺階面1-2，豎直垂直貫通所述上放電面的氣流通孔陣列1-3，位于上支撐臺階面1-2上的輔助安裝孔1-4和連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道1-5。

其中，tea主放電的上放電面1-1居中設(shè)置在上電極1的下底面，其寬度w1設(shè)為100mm≤w1＜800mm；氣流通孔陣列1-3設(shè)置在上放電面1-1范圍內(nèi)，沿其長度方向即縱向成二排以上等間距設(shè)置，第二種優(yōu)選方案是氣流通孔陣列沿其寬度方向即橫向等間距設(shè)置，將上放電面1-1分隔成多條并列的子放電面，氣流通孔直徑φ1設(shè)為1mm＜φ1＜6mm、孔中心間距d1設(shè)為3mm≤d1＜10mm、排與排之間間距d2設(shè)為20mm≤d2＜100mm。

在上電極1的兩側(cè)對稱設(shè)置突變下沉的上支撐臺階面1-2，如圖2tea主放電上電極示意圖中的圖(a)所示，實線段a表示突變下沉的上支撐臺階面，其寬度w2設(shè)為20mm≤w2＜60mm；第二優(yōu)選方案是上支撐臺階面1-2漸變下沉，如圖2tea主放電上電極示意圖中的圖(a)所示，虛線段a’表示突變下沉的上支撐臺階面，下沉深度h1設(shè)為5mm≤h1＜50mm。位于上支撐臺階面1-2靠外側(cè)等間距對稱設(shè)置輔助安裝孔1-4；在上電極1端面中設(shè)有多條水冷道1-5與外部循壞冷卻水道相連通，所述水冷道與tea主放電上電極的上放電面中的氣流通孔陣列平行設(shè)置，與子放電面的數(shù)量相同；設(shè)置上電極1的上頂面連接外部tea主放電激勵電源，使上放電面1-1連通主放電電源。

如圖3的tea主放電下電極示意圖(a)下支撐臺階面突變下沉的電極端面示意圖，所述tea主放電下電極2，下電極2的形狀為矩形體，由多條相等長度的放電脊2-1縱向并列組合構(gòu)成，下電極的長度和上電極的長度相等；完整的下電極2至少包括橫截面分別為“f”、“王”和“干”型的三條放電脊，其中中段“干”型可設(shè)置一條以上；tea主放電下電極中設(shè)有tea主放電的下放電面2-2、對接裝配孔2-3、連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道2-4、過度連接板2-5、下支撐臺階面2-6。

其中，放電脊2-1的高度h2相等設(shè)為26mm≤h2＜140mm；“干”型脊的二條橫臂，“f”型脊的一條橫臂的長度n1相等設(shè)為5mm≤n1＜40mm，厚度h3相等設(shè)為8mm≤h3＜20mm；“干”型脊的上頂面寬度w3設(shè)為30mm≤w3＜200mm，“f”型的上頂面寬度設(shè)為w3/3或w3/2，各條脊的上頂面為子放電面，平行等高并列設(shè)置的子放電面構(gòu)成tea主放電的下放電面2-2；每條“f”型脊在長度方向無橫臂端縮回長度w5設(shè)為20mm≤w5＜60mm，寬度h5設(shè)為5mm≤h5＜10mm，“f”和“干”型的第二橫臂為設(shè)置于側(cè)面的圓形支撐平臺2-9，圓形支撐平臺上設(shè)置有輔助定位孔2-10，從縱端面看，所述圓形 支撐平臺和tea主放電電極左側(cè)有一定距離。

如圖3所示的tea主放電下電極示意圖中的圖(b)放電脊側(cè)面圖，整條脊側(cè)面呈由一橫兩束組成的“π”形狀，一橫的下方為一細凹槽，緊鄰凹槽下方等距設(shè)置設(shè)有輔助定位孔2-10的圓形支撐平臺2-9，對接裝配孔2-3設(shè)置在兩條豎線的軸線上，數(shù)目至少二個；兩條豎線的下端面分別連接過度連接板2-5，一橫的下端面留出空間，而過度連接板2-5連接公共地，使下放電面2-2連通公共地；

如圖8所示的，為圖3中(a)圖的局部放大圖，相鄰二脊之間的間隔2-12間距值d3相等設(shè)為10mm≤d3＜50mm，相鄰二橫臂之間具有間隙2-13，其值d4相等設(shè)為1mm＜d4＜6mm，這里設(shè)定相鄰二橫臂之間的間隙d4等于tea主放電上電極的上放電面的氣流通孔的直徑φ1，顯然d4為下放電面2-2各子放電面之間的間距。

放電脊2-1脊橫臂的側(cè)端面通常設(shè)置為垂直面，“f”和“干”字形放電脊的第一橫臂，即為在此垂直面上靠近下放電面2-2的一側(cè)沿長度方向設(shè)有寬度w4為2mm≤w4＜5mm的窄條形tea放電預(yù)電離的接地面2-7，第一橫臂的單側(cè)長度為h4，其值設(shè)為1mm≤h4＜3mm，第一橫臂與第二橫臂間形成凹臺階面2-8，第一橫臂與第二橫臂之間的距離為d5設(shè)為2mm≤d5＜5mm，設(shè)置與氣流通孔直徑相等的圓形支撐平臺2-9的直徑φ2設(shè)為6mm≤φ2＜10mm，即第二橫臂的長度為φ2，圓形支撐平臺中心處設(shè)有一定孔徑和深度的輔助定位孔2-10，平臺的數(shù)量與放電間隙數(shù)量相同，其中，slab放電預(yù)電離的接地面2-7與圓形支撐平臺2-9的頂面平行等高處于同一平面。另一種優(yōu)選方案為將放電脊2-1脊橫臂的部分設(shè)置為傾斜一定角度的斜面，以相同的原理設(shè)置slab放電預(yù)電離的接地面2-1的寬度，凹槽2-8的寬度，圓形支撐臺的直徑2-9與輔助定位孔2-10。在二條“f”型脊橫凸臂的另一側(cè)，相對于頂面下沉的第二優(yōu)選方案漸變下沉的深度h5與tea主放電上電極的漸變下沉深度h1相等，對稱設(shè)置于下電極2兩側(cè)的下支撐臺階面2-6的寬度w5與上電極的上支撐臺階面的寬度w2相等，每個臺階面上靠外側(cè)設(shè)有安裝孔2-11。

第二優(yōu)選方案中，下電極2由多條相等長度的放電脊2-1橫向即沿寬度方向并列組合構(gòu)成，第一優(yōu)選方案中的長度l2設(shè)為下電極2的寬度，每條放電脊的頂面為子放電面，多個子放電面橫向并列構(gòu)成下放電面2-2，同時上電極1的氣流通孔陣列1-3對應(yīng)地沿其橫向排列設(shè)置。

如圖4slab放電電極圖(a)放電脊端面示意圖所示，所述slab放電電極3由兩條以上slab放電塊3-1構(gòu)成，每一塊可單獨連接一外部激勵電源，也可多塊連接同 一激勵電源；每塊“王”字形slab放電塊3-1的長度與tea放電極的上電極和下電極的長度相等，底座寬度w6設(shè)為10mm＜w6＜25mm，高度h6設(shè)為15mm＜h6＜60mm，所述slab放電塊上設(shè)有凸脊3-2、冷卻水道3-3、對接安裝輔助孔3-4、電源連接接口3-5；凸脊3-2高h7設(shè)為10mm≤h7＜30mm，寬w7設(shè)為2mm≤w7＜6mm，在其頂端沿長度方向設(shè)有梯形凹槽3-6，槽深h8設(shè)為2mm≤h8＜5mm，梯形腰寬w8與凸脊3-2的寬度相等為2mm≤w8＜6mm，橫截面呈梯形上略寬下略窄；凸脊3-2包括第一橫臂和第二橫臂以及兩橫臂中間的凹槽，其中第一橫臂的側(cè)面設(shè)為slab放電預(yù)電離的接激勵電源面3-7，第一橫臂的寬度w9比slab放電極下電極的接地面的寬度w4短約1mm，第一橫臂的單側(cè)長度h9與tea放電極下電極“f”型電極第一橫臂單側(cè)長度h4相等的臺階面3-8，再在此面上相距放電面3-7間隔d6＝d5距離，設(shè)有至少二個與2-9相同的直徑φ3設(shè)為6mm≤φ3＜10mm的圓形支撐平臺3-9，及相同的輔助定位孔3-10。所述slab放電預(yù)電離的接激勵電源面3-7與平臺3-9的頂面平行等高且處于同一平面。第二優(yōu)選方案中，對應(yīng)放電脊2-1脊橫臂的一部分設(shè)置為傾斜一定角度的斜面既橫臂的外端部分為斜面時，相應(yīng)地凸脊3-2的二外側(cè)端面也設(shè)置為反向傾斜一定角度的斜面，同理設(shè)置同樣的頂面梯形凹槽、接激勵電源面，下沉凹槽，圓形支撐平臺和輔助定位孔。

上述所述的“王”字形slab放電塊優(yōu)選方案為頂端縱向設(shè)有梯形凹槽的“凸”字形突變下沉或雙邊漸變下沉或單側(cè)漸變下沉放電塊；或/和，所述slab放電電極為頂端設(shè)有梯形凹槽的單側(cè)有相等兩橫臂的“凸”字形突變下沉或單側(cè)漸變下沉放電塊。若兩tea主放電電極之間距離較窄，則其slab放電塊可為兩端均無凹槽的垂直面。

如圖5所示的tea主放電間距支撐桿4，為兩頭細中段粗的絕緣材料圓柱型桿，兩頭帶有螺紋，所述支撐桿的高度根據(jù)需要的tea主放電間距設(shè)定。

如圖6所示的slab預(yù)電離放電間距支撐片5，為絕緣材料的圓環(huán)型薄片，如圖6中(a)圖所示，厚度h10設(shè)為0.1mm≤h10＜1.5mm，外圓直徑d8大于圓形支撐平臺2-9和3-9的直徑約0.5mm，內(nèi)孔直徑d9與輔助定位孔2-10和3-10的直徑相同，厚度h10與tea主放電極的接地面與slab放電塊接激勵面之間的間隙相等。

如圖7所示的slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6，由tea主放電上電極1、tea主放電下電極2、tea主放電間距支撐桿4、slab預(yù)電離放電間距支撐片5、slab放電電極3、板條放電通道構(gòu)成的slab放電預(yù)電離區(qū)、子放電區(qū)空間耦合構(gòu)成的tea主放電區(qū)8、氣體工作介質(zhì)冷卻通道9和slab放電匹配電感組10。

復(fù)合放電結(jié)構(gòu)中以d0為主放電間距的tea主放電區(qū)8由上電極1與下電極2用至 少4根支撐件桿4連接支撐構(gòu)成，支撐桿4設(shè)置在上支撐臺階面1-2上的安裝孔1-4與下支撐臺階面2-6上的安裝孔2-11之間，用支撐桿帶有螺紋的兩端緊固成為一體，上放電面1-1與下放電面2-2平行；根據(jù)tea主放電間距設(shè)定4的高度，確定主放電的放電間距d0，該放電間距可根據(jù)不同的輸出激光方式確定：當連續(xù)輸出激光時設(shè)置1.5≤d0＜6mm；當脈沖輸出激光時設(shè)置6mm≤d0＜500mm；由于上放電面1-1和下放電面2-2的特殊結(jié)構(gòu)，具體來講，tea主放電區(qū)8是由上放電面1-1、下放電面2-2中多個子放電面并列構(gòu)成的長條形子放電區(qū)以空間耦合形式所構(gòu)成，上下平行相對的子放電面構(gòu)成多個子放電區(qū)，稱為增益放大區(qū)；而氣流通孔陣列1-3與二橫臂之間的間隙2-13中心對齊，破壞了放電條件，一方面它們之間形成的多個寬度為d4的空間為不放電的非增益區(qū)，從放電角度看主放電區(qū)8橫向增益放大區(qū)和非增益區(qū)交織，形成周期分布。另一方面又形成自下電極2的下方穿過相鄰二脊之間的間隙2-12、相鄰二橫臂之間的間隙2-13和以d0為間距的板條放電通道，以最短距離垂直貫通主放電區(qū)8，再經(jīng)氣流通孔陣列1-3流出上電極1，形成自下而上穿越整個復(fù)合放電結(jié)構(gòu)的氣體工作介質(zhì)冷卻通道。

如圖8所示，slab放電電極3包含在下電極2之中，“王”字形slab放電塊3-1插在“f”和“干”字形或兩“干”字形放電極2-1之間的間隔2-12中，使得凸脊3-2安插在二橫臂之間隔的間隙2-13之中，形成對稱的slab預(yù)電離的放電空間。在放電脊2-1橫臂的側(cè)端面、凸脊3-2的兩橫臂側(cè)端面均設(shè)為垂直面的情況時，設(shè)置slab放電的接電源面3-7比slab放電的接地放電面2-7略低1mm，躲藏在tea主放電的下放電面2-2之下，最大限度地避免主放電對預(yù)電離放電的影響。

slab放電預(yù)電離的接地面端的圓形支撐平臺2-9、輔助定位孔2-10分別與slab放電預(yù)電離的接激勵電源面端的圓形支撐平臺3-9、輔助定位孔3-10對齊，由定位栓將slab預(yù)電離放電間距支撐片5定位在兩圓形支撐臺之間，slab預(yù)電離的放電間距d0就完全由slab預(yù)電離放電間距支撐片5的厚度h10確定，既d0＝h10，h10取值為0.1mm≤h10＜1.5mm。并列的多條slab放電通道構(gòu)成線陣型的slab放電預(yù)電離區(qū)7，每一條slab放電通道均具有一致性很好的電特性；采用多根緊固螺桿穿過對接裝配孔2-3和對接安裝輔助孔3-4將上述各部件緊固連接為一整體，構(gòu)成復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6的預(yù)電離放電區(qū)域。顯然此結(jié)構(gòu)中，放電脊2-1橫臂的端面以及相對應(yīng)的凸脊3-2的兩橫臂側(cè)端面設(shè)置為垂直面時，slab預(yù)電離的放電通道呈垂直朝向主放電區(qū)8，而將其設(shè)置為傾斜一定角度的斜面時，朝向也相應(yīng)地傾斜一定角度，預(yù)電離放電通道對主放電區(qū)的朝向在0°-90°范圍可根據(jù)需要設(shè)置。

每條凸脊3-2的第一橫臂與第二橫臂之間的凹槽位置對應(yīng)的放電極主體上設(shè)置有匹配電感連接孔，每個放電電極兩端分別連接一個匹配電感，電感的另一端就近連接在放電脊2-1的脊體上(可卡接、焊接、螺母壓接等)，設(shè)置每條slab放電通道具有相同的lc(電感電容)并聯(lián)諧振電參量，多個電感組合構(gòu)成slab放電匹配電感組10，使線陣型的slab預(yù)電離放電結(jié)構(gòu)整體對外呈現(xiàn)阻抗z0、固有振蕩頻率f0二個靜態(tài)電參量。

如圖1所示的光學諧振腔11，二片腔鏡分別設(shè)置在slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6長度方向的二端，可設(shè)置為正、負支非穩(wěn)定腔，或者平、凹非穩(wěn)定腔。

如圖1所示的氣體擾動裝置12，是設(shè)置在slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6下方的長條型氣體擾動葉輪，采用真空隔離型磁力耦合電驅(qū)動，轉(zhuǎn)動時強迫氣流自間隔2-12和間隙2-13將slab放電預(yù)電離區(qū)7產(chǎn)生的帶電粒子以0°-90°范圍內(nèi)的某一特定角度吹送至tea主放電區(qū)8，并以最短距離穿越tea主放電區(qū)8區(qū)域后經(jīng)上放電面1-1的阻擋碰撞，其中一部分沿上放電面1-1形成二維流動，從復(fù)合放電結(jié)構(gòu)的二側(cè)(包括二端)流出，另一部分則經(jīng)氣流通孔陣列1-3的導(dǎo)通作用以一維流動方式穿流上電極1從整個復(fù)合放電結(jié)構(gòu)的上方流出，構(gòu)成完整的氣體工作介質(zhì)冷卻通道9，實現(xiàn)三維流動形式的氣體冷卻(置換)，有利于將帶電粒子吹送至主放電區(qū)8的中心區(qū)域。

本發(fā)明提出slab-tea激光器其工作過程是：slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6首先進行持續(xù)的電離度精確可控的slab放電預(yù)電離，將預(yù)電離度控制在合適狀態(tài)，使slab放電預(yù)電離區(qū)7產(chǎn)生大量的帶電粒子；氣流擾動裝置產(chǎn)生氣流，通過間隔2-12、間隙2-13將預(yù)電離產(chǎn)生的帶電粒子集中吹向主放電區(qū)8的中心區(qū)域，氣流以最短距離穿預(yù)電離區(qū)8后經(jīng)上放電面1-1的阻擋形成三維流動，混合帶電粒子的新鮮氣體介質(zhì)彌漫擴散充滿整個主放電區(qū)，為即將發(fā)生的tea主放電創(chuàng)建足夠的初始電子密度“熱態(tài)”；tea主放電發(fā)生后，參與放電的氣體介質(zhì)最終從氣體工作介質(zhì)冷卻通道9以三維流動方式完成冷卻(置換)，流出復(fù)合放電結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供的激光器在大體積高氣壓條件下保證主放電的可靠性均勻性，實現(xiàn)高激光增益的主放電電離。

氣體放電的帕邢原理中，平行板條電極氣體放電中相等的氣壓間距積pd的擊穿電壓值vs相同，既間距d值減小與氣壓p增大的倍數(shù)相等保持pd積不變時，同樣的擊穿電壓vs可電離高壓力的氣體。本實施例中slab預(yù)電離的放電間距取d0＝為0.5mm，則可比2mm間距高出4倍的氣壓實現(xiàn)穩(wěn)定均勻的放電。

根據(jù)高氣壓均勻輝光放電的物理過程可知，只要有充足的初始電子密度，在過壓放 電下均勻的一次雪崩可以形成均勻放電的等離子體，這個雪崩時間約為0.1μs，遠低于向不穩(wěn)定過程的發(fā)展時間。因此，只要能夠提供足夠高的初始電子密度，tea激光器就可以在寬間距大體積高氣壓的條件下實現(xiàn)高激光增益的氣體放電。

實施例1

如圖9所述的slab-tea激光器的tea主放電下電極的示意圖，“f”型放電極為鏡像對稱設(shè)置，其包含第一橫臂與第二橫臂的凸脊傾斜一定角度?！案伞弊中坞姌O含有兩橫臂的凸脊3-2為垂直地面的突變下沉型脊，而slab放電塊與“f”型tea電極對應(yīng)設(shè)置的一面為與“f”字形電極的凸脊傾斜面對應(yīng)反向傾斜凸脊，與“干”字形電極對應(yīng)設(shè)置的一面為垂直地面的平面，無凸脊設(shè)置，在“干”字形放電電極第二橫臂設(shè)置有輔助安裝孔2-10的圓柱形支撐平臺2-9固定圓形支撐片，保證“干”字形tea主放電電極與slab放電塊的放電間距。

如圖11所示，slab放電塊的橫端面圖為“凸”字形，或單側(cè)為傾斜面或雙側(cè)為傾斜面，其頂端為梯形凹槽；

或slab放電塊的橫端面為單側(cè)帶有兩相等橫臂的“凸”字形，且其或單側(cè)面為傾斜面或其雙側(cè)面為傾斜面，其頂端為梯形凹槽。

實施例2

一種脈沖輸出slab-tea激光器，長度l1取360mm，厚度為h1＝15mm的tea主放電上電極1中，設(shè)置3排氣流通孔陣列1-3，氣流通孔的直徑為φ1＝5mm，孔中心間距為d1＝8mm，排與排之間的間距d2＝40mm，所述3排氣流通孔陣列將寬度為w1＝165mm的上放電面分為4個子放電面，在漸變下沉的上支撐臺階面上設(shè)置有4個輔助安裝孔1-4，對應(yīng)于4個放電面設(shè)置4條連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道1-5。

長度為l2＝360mm設(shè)置“f”和“干”型放電脊，每條放電脊設(shè)一個連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道2-4，在下放電脊寬度為w5＝20mm的下支撐臺階面2-6設(shè)置四個對接裝配孔2-3，下支撐臺階面2-6漸變下沉，“干”型放電脊的上頂面寬度w3＝50mm，“f”型放電脊的橫臂長度n1＝15mm，厚度為h3＝15mm,沿長度方向兩頭縮回寬度h5＝15mm，第一橫臂即slab放電預(yù)電離的接地面2-7的寬度為w4＝5mm，第一橫臂的單側(cè)長度為h4＝2mm，第一橫臂與第二橫臂中間的凹臺階面的高度d5為2mm，在凹臺階面的下方設(shè)置直徑為φ2＝8mm的圓形支撐平臺2-9；由此設(shè)置的下放電面，相鄰二 脊之間的間隔2-12間距值d3＝35mm，相鄰二橫臂之間的間距2-13間距值為d4＝5mm，與氣流通孔的直徑相等。

slab放電電極3設(shè)有3塊長度l3＝360mm，寬度w6＝30mm的slab放電塊，每塊設(shè)置一個對接安裝輔助孔3-4，設(shè)有2個電源連接接口，放電脊的凸脊寬w7＝4mm，其頂端沿長度方向設(shè)有梯形凹槽3-6，梯形腰寬w8＝1.5mm，凸脊兩外側(cè)面的slab放電預(yù)電離的接激勵電源面3-7的寬度為w9＝4mm,所述slab放電塊的圓形支撐片的位置與放電脊中圓形支撐片的位置相同。

slab-tea的復(fù)合結(jié)構(gòu)中，所述slab預(yù)電離放電間距支撐片的厚度h10＝0.5mm，slab預(yù)電離的放電間距是d0＝0.5mm，主放電間距d0設(shè)置為10mm。

由此得知，本實施例中主放電區(qū)域體積是5.94升，設(shè)置電壓v＝32kv，電壓p＝75kpa,得到峰值功率3mw的激光脈沖輸出、脈沖重復(fù)頻率1khz。

實施例3

一種連續(xù)輸出slab-tea激光器，長度l1取360mm，厚度為h1＝15mm的tea主放電上電極1中，設(shè)置3排氣流通孔陣列1-3，氣流通孔的直徑為φ1＝5mm，孔中心間距為d1＝8mm，排與排之間的間距d2＝40mm，所述3排氣流通孔陣列將寬度為w1＝165mm的上放電面分為4個子放電面，在漸變下沉的上支撐臺階面上設(shè)置有4個輔助安裝孔1-4，對應(yīng)于4個放電面設(shè)置4條連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道1-5。

長度為l2＝360mm設(shè)置“f”和“干”型放電脊，每條放電脊設(shè)一個連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道2-4，在下放電脊寬度為w5＝20mm的下支撐臺階面2-6設(shè)置四個對接裝配孔2-3，下支撐臺階面2-6漸變下沉，“干”型放電脊的上頂面寬度w3＝50mm，“f”型放電脊的橫臂長度n1＝15mm，厚度為h3＝15mm,沿長度方向兩頭縮回寬度h5＝15mm，靠近下放電面的一側(cè)沿長度方向設(shè)有寬度為w4＝5mm的slab放電預(yù)電離的接地面2-7，所述接地面下方下沉一定深度h4＝2mm，形成凹臺階面，凹臺階面的高度d5為2mm，在凹臺階面的下方設(shè)置直徑為φ2＝8mm的圓形支撐平臺2-9；由此設(shè)置的下放電面，相鄰二脊之間的間隔2-12間距值d3＝35mm，相鄰二橫臂之間的間距2-13間距值為d4＝5mm，與氣流通孔的直徑相等。

slab放電電極3設(shè)有3塊長度l3＝360mm，寬度w6＝30mm的slab放電塊，每塊設(shè)置一個對接安裝輔助孔3-4，設(shè)有2個電源連接接口，放電脊的凸脊寬w7＝4mm，其頂端沿長度方向設(shè)有梯形凹槽3-6，梯形腰寬w8＝1.5mm，凸脊兩外側(cè)面的slab放 電預(yù)電離的接激勵電源面3-7的寬度為w9＝4mm,所述slab放電塊的圓形支撐片的位置與放電脊中圓形支撐片的位置相同。

slab-tea的復(fù)合結(jié)構(gòu)中，所述slab預(yù)電離放電間距支撐片的厚度h10＝0.5mm，slab預(yù)電離的放電間距是d0＝0.5mm，主放電間距d0設(shè)置為2mm。

由此得知，本實施例中主放電區(qū)域體積是5.94升，采用30kw、81.36mhz射頻激勵，設(shè)置大氣壓p＝40kpa時，得到平均功率3kw的連續(xù)激光輸出。

實施例4

一種脈沖輸出slab-tea激光器，長度l1取360mm，厚度為h1＝15mm的tea主放電上電極1中，設(shè)置3排氣流通孔陣列1-3，氣流通孔的直徑為φ1＝5mm，孔中心間距為d1＝8mm，排與排之間的間距d2＝40mm，所述3排氣流通孔陣列將寬度為w1＝165mm的上放電面分為4個子放電面，在漸變下沉的上支撐臺階面上設(shè)置有4個輔助安裝孔1-4，對應(yīng)于4個放電面設(shè)置4條連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道1-5。

長度為l2＝360mm設(shè)置“f”和“干”型放電脊，每條放電脊設(shè)一個連接外部循環(huán)冷卻水的水冷道2-4，在下放電脊寬度為w5＝20mm的下支撐臺階面2-6設(shè)置四個對接裝配孔2-3，下支撐臺階面2-6漸變下沉，“干”型放電脊的上頂面寬度w3＝50mm，“f”型放電脊的橫臂長度n1＝15mm，厚度為h3＝15mm,沿長度方向兩頭縮回寬度h5＝15mm，靠近下放電面的一側(cè)沿長度方向設(shè)有寬度為w4＝5mm的slab放電預(yù)電離的接地面2-7，所述接地面下方下沉一定深度h4＝2mm，形成凹臺階面，凹臺階面的高度d5為2mm，在凹臺階面的下方設(shè)置直徑為φ2＝8mm的圓形支撐平臺2-9；由此設(shè)置的下放電面，相鄰二脊之間的間隔2-12間距值d3＝35mm，相鄰二橫臂之間的間距2-13間距值為d4＝5mm，與氣流通孔的直徑相等。

slab放電電極3設(shè)有3塊長度l3＝360mm，寬度w6＝30mm的slab放電塊，每塊設(shè)置一個對接安裝輔助孔3-4，設(shè)有2個電源連接接口，放電脊的凸脊寬w7＝4mm，其頂端沿長度方向設(shè)有梯形凹槽3-6，梯形腰寬w8＝1.5mm，凸脊兩外側(cè)面的slab放電預(yù)電離的接激勵電源面3-7的寬度為w9＝4mm,所述slab放電塊的圓形支撐片的位置與放電脊中圓形支撐片的位置相同。

slab-tea的復(fù)合結(jié)構(gòu)中，所述slab預(yù)電離放電間距支撐片的厚度h10＝0.5mm，slab預(yù)電離的放電間距是d0＝0.5mm，主放電間距d0設(shè)置為10mm。

如圖10所示，本實施例中兩個slab-tea復(fù)合放電結(jié)構(gòu)6串聯(lián)，串行聯(lián)接的間 距設(shè)為2mm，形成三段式復(fù)合放電結(jié)構(gòu)，總激光增益長度108mm、光學諧振腔長156mm，設(shè)置v＝35kv、p＝100kpa時，能夠?qū)崿F(xiàn)可靠的tea主放電。

最后應(yīng)當說明的是：以上實施例僅用以說明本申請的技術(shù)方案而非對其保護范圍的限制，盡管參照上述實施例對本申請進行了詳細的說明，所屬領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當理解：本領(lǐng)域技術(shù)人員閱讀本申請后依然可以對申請的具體實施方式進行種種變更、修改或者等同替換，但這些變更、修改或者等同替換，均在申請待批的權(quán)利要求保護范圍之內(nèi)。