1.一種真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其進(jìn)行真空開關(guān)的壓力診斷，所述真空開關(guān)配置有內(nèi)部為真空的真空容器、配置在所述真空容器內(nèi)的可相互接觸分離的多個(gè)觸點(diǎn)和與所述觸點(diǎn)電絕緣的浮置電位金屬，所述真空開關(guān)的壓力診斷裝置的特征在于，包括：
將多個(gè)絕緣物至少部分地串聯(lián)連接而構(gòu)成的絕緣物組；和
連接于多個(gè)所述絕緣物之間的電位檢測(cè)器，
所述絕緣物組中的位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的至少一個(gè)絕緣物與所述浮置電位金屬的距離，在診斷壓力時(shí)以變短的方式變化，
所述絕緣物組中的與位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的至少一個(gè)絕緣物不同的所述絕緣物，在診斷壓力時(shí)與電位固定點(diǎn)連接。
2.如權(quán)利要求1所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
比所述電位檢測(cè)器靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的絕緣物的阻抗，大于比所述電位檢測(cè)器遠(yuǎn)離所述浮置電位金屬的一側(cè)的絕緣物的阻抗。
3.如權(quán)利要求2所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
所述絕緣物組中的位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的所述絕緣物設(shè)置有多個(gè)。
4.如權(quán)利要求3所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
所述絕緣物組和與所述絕緣物組連接的所述電位檢測(cè)器設(shè)置有多個(gè)。
5.如權(quán)利要求3或4所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
多個(gè)位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的所述絕緣物，均與所述絕緣物組中的與位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的至少一個(gè)所述絕緣物不同的所述絕緣物連接。
6.如權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
所述多個(gè)位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的所述絕緣物具有各自不同的阻抗。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的所述絕緣物的前端，至少在靠近所述浮置電位金屬時(shí)，由相對(duì)介電常數(shù)比所述絕緣物的相對(duì)介電常數(shù)低的絕緣物覆蓋。
8.如權(quán)利要求7所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的所述絕緣物的前端，總是由相對(duì)介電常數(shù)比所述絕緣物的相對(duì)介電常數(shù)低的絕緣物覆蓋。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
還包括在診斷壓力時(shí)使位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的至少一個(gè)所述絕緣物旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
在診斷壓力時(shí)，使位于靠近所述浮置電位金屬的一側(cè)的至少一個(gè)所述絕緣物在直線上移動(dòng)。
11.如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置，其特征在于：
在檢測(cè)出壓力異常的情況下，對(duì)所述真空開關(guān)輸出禁止打開動(dòng)作的打開動(dòng)作禁止指令或者警告壓力異常的壓力異常警告指令。
12.一種具有壓力診斷功能的真空開關(guān)裝置，其特征在于：
包括權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的真空開關(guān)的壓力診斷裝置和所述真空開關(guān)。
13.如權(quán)利要求12所述的真空開關(guān)裝置，其特征在于：
還包括由絕緣物形成的絕緣箱或處于接地電位的接地部位，
在診斷壓力時(shí)以外，配置成所述絕緣物組與所述真空開關(guān)的距離大于從所述絕緣物組到所述接地部位或所述絕緣箱的距離。