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一種基片支撐臺(tái)及其制造方法與流程

文檔序號(hào):12827277閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
一種基片支撐臺(tái),包括:靜電夾盤、加熱器和基座,靜電夾盤安裝到加熱器上方,加熱器固定到基座上表面;其中所述基座內(nèi)包括冷卻液流通管道;所述加熱器包括加熱元件用于產(chǎn)生熱量,還包括位于加熱元件上方的上絕緣材料層和位于加熱元件下方的下絕緣材料層,所述下絕緣材料層底面固定到所述基座上表面,其特征在于:所述下絕緣材料層厚度大于1mm,下絕緣材料層中包括至少一金屬層將下絕緣材料層分隔為多個(gè)絕緣材料子層。

技術(shù)研發(fā)人員:左濤濤;吳狄;杜志游
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2015.12.31
技術(shù)公布日:2017.07.07
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