沉積設(shè)備、制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、以及使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示器的制造方法
【專利摘要】沉積設(shè)備包括：襯底結(jié)合單元，被配置成將襯底設(shè)置在包括表面的移動單元上；第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元，被配置成抬起第一阻擋構(gòu)件；第一沉積單元，包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，該一個(gè)或多個(gè)沉積組件被配置成將材料沉積在襯底上；第一阻擋構(gòu)件分離單元，被配置成從移動單元朝下分離第一阻擋構(gòu)件；以及第一輸送單元，被配置成在第一方向上輸送移動單元，其中一個(gè)或多個(gè)沉積組件與襯底相隔預(yù)定距離，以便在第一方向上輸送移動單元期間在第一沉積單元中將材料沉積在襯底上。
【專利說明】沉積設(shè)備、制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置的方法、以及使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示器
[0001]本申請要求于2013年8月9日提交的第10-2013-0094887號韓國專利申請的權(quán)益，該申請的公開的所有內(nèi)容通過并入本文。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式涉及沉積設(shè)備、使用該沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法以及使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備，尤其是，涉及能夠有效防止沉積過程中的污染的沉積設(shè)備、使用該沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法以及使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0003]相比于其他顯示裝置，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備具有更寬的視角、更好的對比特性以及更快的響應(yīng)速度，因此作為下一代顯示裝置而備受矚目。
[0004]有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備通常包括:包括發(fā)光層的中間層，中間層被設(shè)置在彼此面對的第一電極與第二電極之間?？梢允褂枚喾N方法中的任一種(如沉積方法)形成第一電極和第二電極以及中間層。在示例性實(shí)施方式中，在沉積方法中，限定有與待形成的中間層的圖像相同或相似的圖案的開口的精細(xì)金屬掩模(“FMM”)被設(shè)置成與上面形成有中間層等的襯底緊密接觸，并且將材料沉積在FMM上以形成具有期望圖案的中間層。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]在使用精細(xì)金屬掩模(“FMM”)的沉積方法中，在制造包括大型襯底的大型有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備時(shí)，或者通過使用大型母體襯底同時(shí)制造多個(gè)有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備時(shí)需要使用大型FMM。在這種情況下，當(dāng)使用這種大型掩模時(shí)，該掩?？赡芤蜃灾亓?dǎo)致彎曲，并且這可以使得不能夠形成具有先前設(shè)定且精確圖案的中間層。此外，將襯底與FMM對齊為緊密接觸的工藝、在其上執(zhí)行沉積的工藝以及從襯底分離FMM的工藝是費(fèi)時(shí)的，造成很長的制造時(shí)間和低的生產(chǎn)效率。
[0006]本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式包括:能夠有效防止沉積工藝中的污染的沉積設(shè)備。
[0007]本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式包括:通過使用該沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法。
[0008]本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式包括:通過使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。
[0009]附加的示例性實(shí)施方式的部分將記載于下面的描述中，而部分將通過描述而顯現(xiàn)，或者可以通過示例性實(shí)施方式的實(shí)踐了解到。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式，沉積設(shè)備包括:襯底結(jié)合單元，被配置成將襯底設(shè)置在移動單元上，其中移動單元包括固定有襯底的表面且該表面面朝上；第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元，被配置成抬起第一阻擋構(gòu)件以將第一阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元結(jié)合，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)，其中第一阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底的一部分；第一沉積單元，包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，一個(gè)或多個(gè)沉積組件被配置成在第一阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元結(jié)合的狀態(tài)下將材料沉積在襯底上；第一阻擋構(gòu)件分離單元，被配置成從包括上面固定的襯底的移動單元朝下分離第一阻擋構(gòu)件，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)；以及第一輸送單元，被配置成在第一方向上輸送包括上面固定的襯底的移動單元，使得包括上面固定的襯底的移動單元從襯底結(jié)合單元按順序通過第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元和第一沉積單元被輸送至第一阻擋構(gòu)件分離單元，其中一個(gè)或多個(gè)沉積組件與襯底相隔預(yù)定距離，從而在第一方向上輸送移動單元期間在第一沉積單元中將材料沉積在襯底上。
[0011 ] 在示例性實(shí)施方式中，襯底結(jié)合單元被配置成在襯底被設(shè)置在移動單元上之后翻轉(zhuǎn)移動單元，以使固定有襯底的表面面朝下。
[0012]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:襯底分離單元，配置成從輸送自第一阻擋構(gòu)件分離單元的包括上面固定的襯底的移動單元分離襯底。
[0013]在示例性實(shí)施方式中，可以在固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)下對輸送至襯底分離單元的移動單元進(jìn)行輸送，并且襯底分離單元可以被配置成在從移動單元分離襯底之前翻轉(zhuǎn)移動單元，以使固定有襯底的表面面朝上。
[0014]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:第二輸送單元，用于在通過襯底分離單元從移動單元分離襯底之后將移動單元返還至襯底結(jié)合單元。
[0015]在示例性實(shí)施方式中，第二輸送單元可以被設(shè)置在第一輸送單元的上方。
[0016]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:第一阻擋構(gòu)件輸送單元，用于將通過第一阻擋構(gòu)件分離單元分離的第一阻擋構(gòu)件返還至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元。
[0017]在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件輸送單元可以被設(shè)置在第一輸送單元的下方。
[0018]在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件分離單元可以包括:第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元，被配置成通過使用第一方向作為轉(zhuǎn)動軸線以先前設(shè)定的角度沿著第一轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件。
[0019]在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元可以被配置成以約90度的角度轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件。
[0020]在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件輸送單元可以被配置成返還被分離的第一阻擋構(gòu)件，使得被分離的第一阻擋構(gòu)件通過第一沉積單元。
[0021]在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元可以包括:第一阻擋構(gòu)件重新轉(zhuǎn)動單元，被配置成通過使用第一方向作為轉(zhuǎn)動軸線以先前設(shè)定的角度沿著與第一轉(zhuǎn)動方向相反的第二轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動通過第一阻擋構(gòu)件輸送單元返還的第一阻擋構(gòu)件。
[0022]在示例性實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)沉積組件中每個(gè)可以包括:沉積源，被配置成排出沉積材料；沉積源噴嘴單元，被設(shè)置在沉積源的第一輸送單元的方向上并且包括沉積源噴嘴；以及圖案化狹縫片，圖案化狹縫片被設(shè)置成面對沉積源噴嘴單元，并且在圖案化狹縫片中沿著一個(gè)方向定義有多個(gè)圖案化狹縫。
[0023]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元，被配置成抬起第二阻擋構(gòu)件并且將第二阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元進(jìn)行固定，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)，其中第二阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底的一部分；第二沉積單元，包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，一個(gè)或多個(gè)沉積組件被配置成在第二阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元結(jié)合的狀態(tài)下將材料沉積在襯底上；第二阻擋構(gòu)件分離單元，被配置成從包括上面固定的襯底的移動單元朝下分離第二阻擋構(gòu)件，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)，其中第一輸送單元被配置成在第一方向上輸送包括上面固定的襯底的移動單元，使得包括上面固定的襯底的移動單元從襯底結(jié)合單元按順序通過第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元和第二沉積單元被輸送至第二阻擋構(gòu)件分離單元，并且其中第二沉積單元的一個(gè)或多個(gè)沉積組件與襯底相隔預(yù)定距離，以便在第一方向上輸送移動單元期間在第二沉積單元中將材料沉積在襯底上。
[0024]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:襯底分離單元，被配置成從輸送自第二阻擋構(gòu)件分離單元的包括上面固定的襯底的移動單元分離襯底。
[0025]在示例性實(shí)施方式中，可以在固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)下對輸送至襯底分離單元的移動單元進(jìn)行輸送，并且襯底分離單元可以被配置成在從移動單元分離襯底之前翻轉(zhuǎn)移動單元，使得固定有襯底的表面面朝上。
[0026]在示例性實(shí)施方式中，沉積設(shè)備還可以包括:第二輸送單元，用于在通過襯底分離單元從移動單元分離襯底之后將移動單元返還至襯底結(jié)合單元。
[0027]在示例性實(shí)施方式中，第二輸送單元可以被設(shè)置在第一輸送單元的上方。
[0028]沉積設(shè)備還可以包括:第一阻擋構(gòu)件輸送單元，被配置成將通過第一阻擋構(gòu)件分離單元分離的第一阻擋構(gòu)件返還至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元；以及第二阻擋構(gòu)件輸送單元，被配置成將通過第二阻擋構(gòu)件分離單元分離的第二阻擋構(gòu)件返還至第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單
J Li ο
[0029]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式，制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法包括:將襯底放置在移動單元上，移動單元包括用于固定襯底的、面朝上的表面；翻轉(zhuǎn)包括上面固定的襯底的移動單元，使得固定有襯底的表面面朝下；抬起第一阻擋構(gòu)件以將第一阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元進(jìn)行結(jié)合，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)，使得第一阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底的一部分；通過在沉積組件與襯底彼此相隔預(yù)定距離的狀態(tài)下相對于沉積組件相對地輸送包括上面固定的襯底的移動單元期間將從沉積組件排出的沉積材料沉積在襯底上，從而形成層；以及從包括上面固定的襯底的移動單元朝下分離第一阻擋構(gòu)件，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)。
[0030]在示例性實(shí)施方式中，該方法還包括:在分離第一阻擋構(gòu)件之后從包括上面固定的襯底的移動單元分離襯底。
[0031]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:在從移動單元分離襯底之后翻轉(zhuǎn)包括上面固定的襯底的移動單元，以使固定有襯底的表面面朝上。
[0032]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:在從移動單元分離襯底之后返還移動單元以在移動單元上設(shè)置新的襯底。
[0033]在示例性實(shí)施方式中，返還移動單元的步驟可以包括:以大于在形成層的步驟中輸送包括上面固定的襯底的移動單元的高度的高度返還移動單元。
[0034]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:返還被分離的第一阻擋構(gòu)件以將被分離的第一阻擋構(gòu)件與包括上面固定的新的襯底的移動單元進(jìn)行重新結(jié)合。
[0035]在示例性實(shí)施方式中，返還被分離的第一阻擋構(gòu)件的步驟可以包括:以小于在形成層的步驟中輸送包括上面固定的襯底的移動單元的高度的高度返還第一阻擋構(gòu)件。
[0036]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:通過使用第一方向作為轉(zhuǎn)動軸線以先前設(shè)定的角度沿著第一轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件，其中返還被分離的第一阻擋構(gòu)件的步驟包括:在沿著第一轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動第一阻擋構(gòu)件的狀態(tài)下返還被分離的第一阻擋構(gòu)件。
[0037]在示例性實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件的步驟可以包括:以約90度的角度轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件。
[0038]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:提起第二阻擋構(gòu)件以將第二阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底的移動單元進(jìn)行結(jié)合，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)，以便第二阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底的一部分；通過在沉積組件與襯底彼此相隔預(yù)定距離的狀態(tài)下相對于沉積組件相對地輸送包括上面固定的襯底的移動單元期間將從沉積組件排出的沉積材料沉積在襯底上，從而形成層；以及從包括上面固定的襯底的移動單元朝下分離第二阻擋構(gòu)件，移動單元處于固定有襯底的表面面朝下的狀態(tài)。
[0039]在示例性實(shí)施方式中，該方法還包括:在分離第二阻擋構(gòu)件之后從包括上面固定的襯底的移動單元分離襯底。
[0040]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:在從移動單元分離襯底之后翻轉(zhuǎn)包括上面固定的襯底的移動單元，以使固定有襯底的表面面朝上。
[0041]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:在從移動單元分離襯底之后返還移動單元以在移動單元上設(shè)置新的襯底。
[0042]在示例性實(shí)施方式中，返還移動單元的步驟可以包括:返還移動單元的高度大于在形成層的步驟中輸送包括上面固定的襯底的移動單元的高度。
[0043]在示例性實(shí)施方式中，該方法還可以包括:返還被分離的第一阻擋構(gòu)件以將被分離的第一阻擋構(gòu)件與包括上面固定的新的襯底的移動單元進(jìn)行重新結(jié)合；以及返還被分離的第二阻擋構(gòu)件以將被分離的第二阻擋構(gòu)件與包括上面固定的新的襯底的移動單元進(jìn)行重新結(jié)合。
[0044]在示例性實(shí)施方式中，返還被分離的第一阻擋構(gòu)件的步驟可以包括:以小于在形成層的步驟中輸送包括上面固定的襯底的移動單元的高度的高度返還第一阻擋構(gòu)件，并且返還被分離的第二阻擋構(gòu)件的步驟可以包括:以小于在形成層的步驟中輸送包括上面固定的襯底的移動單元的高度的高度返還第二阻擋構(gòu)件。
[0045]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式，有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備包括:襯底；設(shè)置在襯底上的多個(gè)薄膜晶體管(“TFT”);與多個(gè)TFT電連接的多個(gè)像素電極；設(shè)置在多個(gè)像素電極上的多個(gè)沉積層；以及設(shè)置在多個(gè)沉積層上的相對電極，其中多個(gè)沉積層中的至少一個(gè)為通過使用沉積設(shè)備提供的線性圖案。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0046]通過示例性實(shí)施方式的下面的描述結(jié)合考慮附圖，這些示例性實(shí)施方式和其他示例性實(shí)施方式將變得明確并且更易于理解，在附圖中:
[0047]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的沉積設(shè)備的示例性實(shí)施方式的示意性側(cè)視概念圖；
[0048]圖2是示出在通過使用圖1所示沉積設(shè)備執(zhí)行沉積時(shí)使用的第一阻擋構(gòu)件的示例性實(shí)施方式的示意性立體圖；
[0049]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的圖1所示沉積設(shè)備的第一沉積單元的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面立體圖；
[0050]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的圖1所示沉積設(shè)備的第一沉積單元的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面圖；
[0051]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的圖1所示沉積設(shè)備的移動和返回單元的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面圖；
[0052]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的沉積設(shè)備的另一示例性實(shí)施方式的示意性側(cè)視概念圖；以及
[0053]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的使用圖1或圖6的沉積設(shè)備制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的示例性實(shí)施方式的示意性剖面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0054]現(xiàn)在，將詳細(xì)地制作對于示例性實(shí)施方式的參照，其示例性實(shí)施方式被示出在附圖中，貫穿全文，相同的附圖標(biāo)記是指相同的元件。在這方面，示例性實(shí)施方式可以具有不同的形式，并且不應(yīng)被解釋成受限于本文中所記載的描述。因此，在下面參照附圖描述的示例性實(shí)施方式僅僅用于說明本描述的示例性實(shí)施方式。在附圖中，為了描述的便利，元件的尺寸可以被夸大或縮小。在示例性實(shí)施方式中，因?yàn)槿我獾靥峁└綀D中使出的元件的尺寸和厚度，所以本發(fā)明不限于所示的附圖。
[0055]并且，X-軸、y_軸和Z-軸的意思并不限于正交坐標(biāo)系上的三個(gè)軸，而可以是更廣泛的。在示例性實(shí)施方式中，X-軸、y_軸和Z-軸可以彼此相交成直角，但是可選地指向未交叉成直角的其他方向。
[0056]還應(yīng)理解的是，當(dāng)諸如層、膜、區(qū)域或板的部件被稱為在另一部件“上”時(shí)，該部件可以是直接在其他部件上，或者還可以存在有中間部件。
[0057]如本文所用，術(shù)語“和/或”包括相關(guān)所列項(xiàng)目的一個(gè)或多個(gè)的組合或所有。還應(yīng)理解的是，術(shù)語“包括”和/或“包括有”或者“包含”和/或“包含有”當(dāng)被使用在本說明書中時(shí)，是指所記載的特征、區(qū)域、整數(shù)、步驟、操作、元件和/或部件的存在，而不是排除一個(gè)或多個(gè)其他特征、區(qū)域、整數(shù)、步驟、操作、元件和/或部件，和/或其群的存在或添加。
[0058]應(yīng)理解的是，雖然術(shù)語“第一”、“第二”、“第三”等可以使用在本文中以描述多個(gè)元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，而這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分不應(yīng)被這些術(shù)語限制。這些術(shù)語僅僅用于區(qū)分一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分與另一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或部分。由此，在不背離本文的教導(dǎo)的情況下，下面所討論的“第一元件”、“部件”、“區(qū)域”或“部分”可以被說成第二元件、部件、區(qū)域、層或部分。
[0059]當(dāng)如“至少一個(gè)”的表述在一列元件之前時(shí)，是修飾整列的元件而不是修飾該列的單獨(dú)的元件。本文中使用的技術(shù)術(shù)語僅僅是用于描述特定實(shí)施方式的目的，而不是旨在限制的目的。如本文所用，除非另有明確說明，單數(shù)形式旨在包括包含“至少一個(gè)”的復(fù)數(shù)形式?！盎颉笔侵浮昂?或”。如本文所用。術(shù)語“和/或”包括相關(guān)所列項(xiàng)目的任一個(gè)以及一個(gè)或多個(gè)的所有組合。
[0060]此外，諸如“下部”、“底部”和“上部”或者“頂”的相對術(shù)語可以被用于本文中以描述如附圖所示的一個(gè)元件與另一個(gè)元件的位置關(guān)系。應(yīng)理解的是，相對術(shù)語旨在除了附圖中所指的指向以外還包含裝置的不同指向。例如，如果裝置在附圖中的一個(gè)鐘被翻轉(zhuǎn)時(shí)，描述為在其他元件“下部”側(cè)的元件將指向其他元件的“上部”側(cè)。示例性術(shù)語“下部”可以由此包含根據(jù)附圖的特定指向的“上部”和“下部”的指向。相似地，如果裝置在附圖中的一個(gè)鐘被翻轉(zhuǎn)時(shí)，描述為在其他元件的“下方”或“下”的元件將指向其他元件的“上方”。示例性術(shù)語“下方”或“下”可以由此包含上方和下方的兩個(gè)指向。
[0061]本文中所用的“約”或“大約”為所記載值的總括，并且是指在如本領(lǐng)域的技術(shù)人員考慮問題測量和與特定量的測量先關(guān)的問題(例如，測量系統(tǒng)的限制)所確定的特定值的偏差的容許范圍內(nèi)。例如，“約”是指在一個(gè)或多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)偏差內(nèi)，或者所記載的值的±30%、20%、10%、5% 內(nèi)。
[0062]除非另有定義，則本文中所用所有術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)具有由本公開所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員通常理解的意思。還應(yīng)理解的是，除非本文中明確定義，則如被定義在常用詞典中的術(shù)語應(yīng)被解釋成具有與相關(guān)領(lǐng)域和本公開的內(nèi)容中的意思一致的意思，而不應(yīng)被解釋成理想化或過分形式化的含義。
[0063]本文中將參照作為理想化的示例性實(shí)施方式的示意性圖示的剖面圖描述示例性實(shí)施方式。由此，本文中所描述的示例性實(shí)施方式不應(yīng)被解釋成受限于本文中所示的區(qū)域的特定形狀，而是包括例如，作為制造產(chǎn)物的形狀的偏差。例如，示出或描述為平面的區(qū)域可以，通常地，具有粗糙或非線性特征。此外，所示的銳角可以被倒成圓角。由此，附圖中所示區(qū)域本質(zhì)上是示意性的，并且它們的形狀并不旨在使出區(qū)域的精密形狀，并不旨在限制所附權(quán)利要求的范圍。
[0064]圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備的示意性側(cè)視概念圖。
[0065]參照圖1，根據(jù)本發(fā)明的所示示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備包括:襯底結(jié)合單元220、第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230、第一沉積單元240、第一阻擋構(gòu)件分離單元250和輸送單元221。如圖1所示，當(dāng)需要時(shí)，沉積設(shè)備還可以包括:裝載單元210、襯底分離單元260、移動和返回單元270、第一阻擋構(gòu)件返回單元280和卸載單元290。
[0066]裝載單元210可以包括:第一架212和運(yùn)輸機(jī)器人214。還未施加沉積材料的多個(gè)襯底400被堆疊在第一架212上。運(yùn)輸機(jī)器人214從第一架212拿起襯底400中的一個(gè)，并且被拿起的襯底400通過移動和返回單元270返還并設(shè)置在移動單元300上，其中移動單元300設(shè)置在襯底結(jié)合單元220中。在示例性實(shí)施方式中，襯底400可以通過使用靜電力固定在包含在移動單元300中的靜電吸盤上，或者可以通過使用夾鉗等固定在移動單元300上。在示例性實(shí)施方式中，在將襯底400固定至移動單元300之前，襯底400還可以根據(jù)需要與移動單元300對齊。
[0067]在襯底結(jié)合單元220中，襯底400被設(shè)置在移動單元300上，在移動單元300中，固定有襯底400的表面面朝上(+Z方向)。然后,襯底結(jié)合單兀220中的第一翻轉(zhuǎn)機(jī)器人(未示出)翻轉(zhuǎn)移動單元300。由此，固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(-Z方向)。然而，本發(fā)明并不限于此，并且可以不需要第一翻轉(zhuǎn)機(jī)器人。在示例性實(shí)施方式中，例如，在移動單元300被設(shè)置在設(shè)置于襯底結(jié)合單元220中的輸送單元221上的狀態(tài)下，隨著輸送單元221轉(zhuǎn)動約180度，可以翻轉(zhuǎn)設(shè)置于輸送單元221上的移動單元300。當(dāng)以這種方式翻轉(zhuǎn)移動單元300時(shí)，與面對移動單元的襯底400的表面相對的襯底400的表面面朝下(-Z方向)。接下來，輸送單元221將包括上面固定的襯底400的移動單元300輸送至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。
[0068]在示例性實(shí)施方式中，在未在襯底結(jié)合單元220中翻轉(zhuǎn)移動單元300時(shí)，輸送單元221可以將包括上面固定的襯底400的移動單元300輸送至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。在這種情況下，可以在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230中翻轉(zhuǎn)移動單元300。
[0069]在上面固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(_Z方向)的狀態(tài)下，第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230從底部朝向+Z方向抬起第一阻擋構(gòu)件500，以將第一阻擋構(gòu)件500與包括上面固定的襯底400的移動單元300進(jìn)行結(jié)合，第一阻擋構(gòu)件500暴露待執(zhí)行沉積的襯底400 —部分。
[0070]例如，第一阻擋構(gòu)件500可以具有如圖2所示的形狀。詳細(xì)地，第一阻擋構(gòu)件500有效地防止材料沉積在襯底400的非層形成區(qū)域中。非層形成區(qū)域?yàn)橐r底400的邊緣的設(shè)置有驅(qū)動電路等的部分。在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件500可以具有如矩形窗框的形狀，并且可以暴露襯底400的顯示區(qū)域的整個(gè)表面。然而，本發(fā)明并不限于此，并且第一阻擋構(gòu)件500可以具有多種其他形狀。在示例性實(shí)施方式中，移動單元300可以包括夾鉗等，并且第一阻擋構(gòu)件500可以通過夾鉗等固定至移動單元300。
[0071]第一沉積單元240包括至少一個(gè)沉積組件，以在第一阻擋構(gòu)件500與包括上面固定的襯底400的移動單元300結(jié)合的狀態(tài)下，將材料沉積在襯底400上。雖然在圖1中示出了第一沉積單元240包括四個(gè)沉積組件245、246、247和248，但是可以根據(jù)沉積材料和沉積條件改變沉積組件的數(shù)量。在示例性實(shí)施方式中，第一沉積單元240可以包括:待在下面描述的室101 (圖3)，并且在執(zhí)行沉積期間，室101可以根據(jù)需要維持在真空或接近真空的狀態(tài)。
[0072]在上面固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(_Z方向)的狀態(tài)下，第一阻擋構(gòu)件分離單元250在朝下方向(-Z方向)上使包括上面固定的襯底400的移動單元300與第一阻擋構(gòu)件500分離。
[0073]襯底分離單元260使移動單元300與襯底400分離。被輸送至襯底分離單元260的移動單元300在固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)下被輸送。在襯底400的分離之前，襯底分離單元260可以轉(zhuǎn)動移動單元300，以使固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(+Z方向)。在示例性實(shí)施方式中，第二翻轉(zhuǎn)機(jī)器人(未示出)可以翻轉(zhuǎn)移動單元300。然而，本發(fā)明并不限于此，并且可以不需要第二翻轉(zhuǎn)機(jī)器人。在示例性實(shí)施方式中，在移動單元300被設(shè)置在設(shè)置于襯底分離單元260中的輸送單元261上的狀態(tài)下，隨著輸送單元261轉(zhuǎn)動約180度，可以翻轉(zhuǎn)設(shè)置于輸送單元261上的移動單元300。當(dāng)以這種方式翻轉(zhuǎn)移動單元300時(shí)，襯底400的與襯底400的面對移動單元300的表面相對的表面面朝上(+Z方向)。然后，襯底分離單元260使移動單元300與襯底400分離。排出機(jī)器人294將被分離的襯底400’裝載至第二架292。
[0074]在示例性實(shí)施方式中，當(dāng)在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中分離第一阻擋構(gòu)件500之后，移動單元300可以在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中被翻轉(zhuǎn)，并隨后在襯底400的與襯底400的面對移動單元300的表面相對的表面面朝上(+Z方向)的狀態(tài)下輸送至襯底分離單元260。
[0075]在襯底400的處理中，在與朝上方向垂直的第一方向(+Y方向)上輸送包括上面固定的襯底的移動單元300。也就是說，將包括上面固定的襯底的移動單元300按順序輸送至襯底結(jié)合單元220、第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230、第一沉積單元240、第一阻擋構(gòu)件分離單元250和襯底分離單元260。將包括上面固定的襯底400的移動單元300按順序輸送至襯底結(jié)合單元220、第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230、第一沉積單元240、第一阻擋構(gòu)件分離單元250和襯底分離單元260的部件可以被稱為第一輸送單元。這種第一輸送單元可以包括:襯底結(jié)合單元220的輸送單元221、第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230的輸送單元(未示出)、第一沉積單元240的輸送單元241 (參照圖3和圖4)、第一阻擋構(gòu)件分離單元250的輸送單元(未示出)和襯底分離單元260的輸送單元261。第一輸送單元使沉積組件245、246、247和248中的一個(gè)或多個(gè)與襯底400間隔預(yù)定距離，使得移動單元300在第一沉積單元240中沿第一方向(+Y方向)被輸送時(shí)材料被沉積在襯底400上。
[0076]當(dāng)襯底400在襯底分離單元260中與移動單元300分離時(shí)，分離的移動單元300通過移動和返回單元270的輸送單元272返還至襯底結(jié)合單元220。在襯底結(jié)合單元220中，被返還的、已輸送的移動單元300與另一個(gè)襯底400結(jié)合，然后再次通過第一輸送單元按順序輸送至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230、第一沉積單元240、第一阻擋構(gòu)件分離單元25和襯底分離單元260。也就是說，通過第一輸送單元和第二輸送單元272，移動單元300可以在沉積設(shè)備中循環(huán)。
[0077]在示例性實(shí)施方式中，如圖1所示，第二輸送單元272可以被設(shè)置在第一輸送單元的上方。空間利用效率由于如下結(jié)構(gòu)而可以獲得改善，在該結(jié)構(gòu)中，在被第一輸送單元輸送時(shí)允許材料被沉積在襯底400上的移動單元300在襯底分離單元260中與襯底400分離，并隨后通過設(shè)置于第一輸送單元之上的第二輸送單元272返還至襯底結(jié)合單元220。然而，本發(fā)明并不限于此，并且不同于圖1的示例性實(shí)施方式，第二輸送單元272可以被設(shè)置在第一輸送單兀的下方。
[0078]通過第一阻擋構(gòu)件分離單元250分離的第一阻擋構(gòu)件500通過第一阻擋構(gòu)件返回單元280的第一阻擋構(gòu)件輸送單元284返還至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。被返還的第一阻擋構(gòu)件500在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230中與移動單元300和另一襯底400結(jié)合，然后通過第一輸送單元再次按順序輸送至第一沉積單元240和第一阻擋構(gòu)件分離單元250。也就是說，通過第一輸送單元和第一阻擋構(gòu)件輸送單元284，第一阻擋構(gòu)件500可以在沉積設(shè)備中循環(huán)。
[0079]在示例性實(shí)施方式中，如圖1所示，第一阻擋構(gòu)件輸送單元284可以設(shè)置在第一輸送單元的下方。通過該配置，在通過第一輸送單元輸送第一阻擋構(gòu)件500時(shí)，在襯底400上執(zhí)行沉積，并且第一阻擋構(gòu)件500在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中與襯底400分離，并隨后通過設(shè)置在第一輸送單元下方的第一阻擋構(gòu)件輸送單元284返還至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。由此，可以改善空間利用效率。在另一示例性實(shí)施方式中，不同于圖1的示例性實(shí)施方式，第一阻擋構(gòu)件輸送單兀284可以設(shè)置在第一輸送單兀上方。
[0080]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的圖1所示沉積設(shè)備的第一沉積單元240的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面立體圖。圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的圖1所示沉積設(shè)備的第一沉積單元240的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面圖。
[0081 ] 參照圖3和圖4，沉積設(shè)備的第一沉積單元240包括:室101和至少一個(gè)沉積組件245。
[0082]在示例性實(shí)施方式中，室101可以被提供為中空箱型，并且容納至少一個(gè)沉積組件245。如圖3和圖4所示，第一沉積單元240的作為第一輸送單元的一部分的輸送單元241也可以被容納于室101中，或者輸送單元241的一部分可以被容納于室101中而輸送單元241的另一部分可以被設(shè)置在室101外側(cè)。
[0083]在室101中，可以容納殼體104。詳細(xì)地，殼體104可以被設(shè)置在足部102上，足部102可固定至足部102下方的地面或者結(jié)構(gòu)。在這方面，殼體104與室101之間的連接部被密封，以便室101的內(nèi)側(cè)完全隔絕于外側(cè)。由于殼體104被設(shè)置在固定足部102下方的至地面或者結(jié)構(gòu)的足部102上的結(jié)構(gòu)，即使室101反復(fù)收縮和膨脹，殼體104也可以維持在固定位置上。由此，在第一沉積單元240中，殼體104可以充當(dāng)基準(zhǔn)框架。
[0084]殼體104可以包括第一沉積單元240的沉積組件245和輸送單元241。當(dāng)在第二輸送單元272與包括輸送單元241的第一輸送單元之間循環(huán)地輸送移動單元300時(shí)，可以在固定于移動單元300上的襯底400上連續(xù)地執(zhí)行沉積。由此，可以被循環(huán)地輸送的移動單元300可以包括:載體310和接合至載體310的靜電吸盤320。
[0085]在示例性實(shí)施方式中，載體310可以包括:主體部310a、線性電機(jī)系統(tǒng)(“LMS”)磁鐵310b、非接觸型電源(“CPS”模塊)310c、電源單元310d和導(dǎo)槽310e。根據(jù)需要，載體310還可以包括凸輪從動件。
[0086]主體部310a提供載體310的底座部，并且可以包括:如鐵的磁性材料。在這方面，因載體310的主體部310a與設(shè)置在輸送單元241中的磁懸浮軸承(未示出)之間的引力或排斥力，載體310可以與輸送單元241的引導(dǎo)構(gòu)件241’相隔一定距離。導(dǎo)槽310e可以被提供在主體部310a的兩側(cè)處。導(dǎo)槽310e分別可以容納輸送單元241的引導(dǎo)構(gòu)件241’的引導(dǎo)凸緣241，do
[0087]此外，主體部310a可以包括:沿著進(jìn)行方向(與X-軸方向和Z-軸方向垂直的Y-軸方向)的中心線布置的磁軌310b (BP, LMS磁鐵310b)。主體部310a的磁軌310b與線圈241’’可以彼此結(jié)合以提供線性電機(jī)，并且可以通過使用線性電機(jī)沿著方向A (+Y方向)傳送包括于移動單元300中的載體310。由此，可以在沒有向移動單元300施加電力的情況下根據(jù)施加至輸送單元241的線圈241’’的電流輸送移動單元300。為此，可以在室101中(沿著Y-軸方向)以預(yù)定間隔布置多個(gè)線圈241’ ’。在這方面，隨著線圈241’ ’被設(shè)置在大氣箱(atmosphere box)中，線圈241’’可以被設(shè)置在大氣狀態(tài)。
[0088]主體部310a可以包括:設(shè)置在磁軌310b的一側(cè)和另一側(cè)處的CPS模塊310c。電源單元310d包括用于提供電力的電池(例如，可充電電池)，以便靜電吸盤320可以吸附襯底400，并且維持吸附。CPS模塊31c是用于對電源單元31d充電的無線充電模塊。將在稍后描述通過CPS模塊310c的電池的充電。
[0089]在示例性實(shí)施方式中，靜電吸盤320可以包括:包括陶瓷的主體和嵌入主體中的電極，其中電極供給有電力。隨著高電壓從載體310的主體部310a施加至嵌入主體中的電極，襯底400被附接至靜電吸盤320的主體的表面上。
[0090]在第一方向上(+Y方向)，輸送單元241可以輸送包括上述配置并且在其上固定有襯底400的移動單元300。輸送單元241包括如上所述的線圈241’’和引導(dǎo)構(gòu)件241’，并且可以包括磁懸浮軸承或間隙傳感器等。
[0091]線圈241’’和引導(dǎo)構(gòu)件241’可以被設(shè)置在殼體104內(nèi)。在示例性實(shí)施方式中，例如，線圈241’’可以被設(shè)置在殼體104的上部中，引導(dǎo)構(gòu)件241’可以分別被設(shè)置在殼體104的兩個(gè)內(nèi)側(cè)處。
[0092]如上所述，線圈241’ ’可以與移動單元300的主體部310a的磁軌310b結(jié)合以形成線性電機(jī)，以便移動移動單元300。當(dāng)移動單元300移動時(shí)，引導(dǎo)構(gòu)件241’可以引導(dǎo)待沿第一方向(+Y方向)輸送的移動單元300。引導(dǎo)構(gòu)件241’可以被設(shè)置成通過第一沉積單元240。
[0093]詳細(xì)地，引導(dǎo)構(gòu)件241’可以容納移動單元300的載體310的兩個(gè)相對側(cè)，以引導(dǎo)載體310沿著圖3所示的方向A移動。為此，引導(dǎo)構(gòu)件241’可以包括:設(shè)置在載體310下方的第一容納部241’ a、設(shè)置在載體310上方的第二容納部241’ b以及連接第一容納部241’ a與第二容納部241’ b的連接部241’ C?？梢酝ㄟ^第一容納部241’ a、第二容納部241’ b和連接部241’ c提供容納槽，而引導(dǎo)構(gòu)件241’可以包括位于容納槽中的引導(dǎo)凸緣241’ d。
[0094]磁懸浮軸承(未示出)分別被設(shè)置在引導(dǎo)構(gòu)件241’的連接部241’ c中，以便分別與載體310的兩側(cè)對應(yīng)。磁懸浮軸承使載體310和引導(dǎo)構(gòu)件241’以一定距離隔開，以使得載體310在未與引導(dǎo)構(gòu)件241’接觸的情況下沿著引導(dǎo)構(gòu)件241’移動。在示例性實(shí)施方式中，磁懸浮軸承也可以被設(shè)置在引導(dǎo)構(gòu)件241’的第二容納部241’b上，以便可以被設(shè)置在載體310上，并且在這種情況下，磁懸浮軸承可以允許載體310在未與第一容納部241’ a或第二容納部241’ b接觸的情況下沿著引導(dǎo)構(gòu)件241’移動，以使得載體310與第一容納部241’ a和第二容納部241’b相隔預(yù)定距離。在示例性實(shí)施方式中，為了檢查載體310與引導(dǎo)構(gòu)件241’之間的距離，引導(dǎo)構(gòu)件241’可以包括被設(shè)置在第一容納部241’a和/或連接部241’c處的間隙傳感器(未示出)，以便與載體310的下部對應(yīng)。根據(jù)通過使用間隙傳感器測量到的值改變磁懸浮軸承的磁力，由此實(shí)時(shí)調(diào)節(jié)載體310與引導(dǎo)構(gòu)件241’之間的距離。也就是說，通過使用磁懸浮軸承和間隙傳感器的反饋控制，可以精確輸送載體310。
[0095]在輸送單兀241沿第一方向(+Y方向)輸送固定于移動單兀300上的襯底400時(shí)，沉積組件245在與襯底400相隔預(yù)定距離的同時(shí)將材料沉積在襯底400上。在下文中，將詳細(xì)描述沉積組件245。
[0096]第一沉積組件245包括:沉積源110、沉積源噴嘴單元120、圖案化狹縫片130、第一臺150、第二臺160、攝像機(jī)170、傳感器180等。圖3和圖4所示的所有元件可以被布置在維持在真空狀態(tài)的室101中，以獲得沉積材料的直線排出。
[0097]沉積源110可以排出沉積材料。沉積源110可以被設(shè)置在沉積組件245的下部中并且當(dāng)沉積源I1中包含的沉積材料115被升華或蒸發(fā)時(shí)朝向襯底400(例如，沿作為+Z方向的朝上方向)排出沉積材料。詳細(xì)地，沉積源110包括:填充有沉積材料115的坩堝111和用于加熱坩堝111以使填充在坩堝111中的沉積材料115蒸發(fā)的加熱器112。
[0098]包括沉積源噴嘴121的沉積源噴嘴單元120在朝上方向(+Z方向)上布置至沉積源I1的輸送單元241，即，在朝向襯底400的方向上。參照圖3，沉積源噴嘴單元120包括:多個(gè)沉積源噴嘴121。
[0099]圖案化狹縫片130可以被設(shè)置成面對沉積源噴嘴單元120。詳細(xì)地，在移動單元300輸送輸送單元241的方向上延伸的多個(gè)圖案化狹縫可以平行于與輸送移動單元300的第一方向(+Y方向)垂直的方向(X-軸方向)定義。圖案化狹縫片130被設(shè)置在沉積源110與襯底400之間。在沉積源110中蒸發(fā)的沉積材料115通過沉積源噴嘴單元120和待設(shè)置在作為沉積目標(biāo)的襯底400上的圖案化狹縫片130。在示例性實(shí)施方式中，當(dāng)均勻的沉積層待被設(shè)置在襯底400的整個(gè)表面上時(shí)，可以在圖案化狹縫片130中定義單一圖案化狹縫替代多個(gè)圖案化狹縫。在示例性實(shí)施方式中，單一圖案化狹縫可以具有開口占用圖案化狹縫片130的更大一部分的形狀。
[0100]可以使用如用于形成精細(xì)金屬掩模(“FMM”)的方法相同的方法(尤其是，用于形成條式掩模的方法，即，蝕刻)提供圖案化狹縫片130。在這方面，沉積源110 (和結(jié)合在其上的沉積源噴嘴單元120)和圖案化狹縫片130可以彼此相隔一定距離。
[0101]為了將已從沉積源110排出并通過沉積源噴嘴單元120和圖案化狹縫片130的沉積材料115以期望的圖案沉積到襯底400上，理想的是將室101維持在用于FMM的沉積方法的相同或相似的高真空狀態(tài)。此外，圖案化狹縫片130的溫度應(yīng)充分低于沉積源110的溫度，例如，約100攝氏度(°C)或更低，因?yàn)橹挥性趫D案化狹縫片130的溫度充分低時(shí)，才能使圖案化狹縫片130的熱膨脹最小化。也就是說，當(dāng)圖案化狹縫片130的溫度增加時(shí)，可能因圖案化狹縫片130的熱膨脹而導(dǎo)致圖案化狹縫片130的圖案化狹縫的尺寸和位置的改變，并且與先前設(shè)定的圖案不同的圖案可能被設(shè)置在襯底400上。
[0102]作為沉積目標(biāo)的襯底400被布置在室101中。襯底400可以是用于平板顯示裝置的襯底。在示例性實(shí)施方式中，例如，用于制造多個(gè)平板顯示器的如母體玻璃的大型襯底可以被用作襯底400。
[0103]在使用FMM的傳統(tǒng)的沉積方法中，F(xiàn)MM的尺寸需要與襯底的尺寸相同。由此，隨著襯底的尺寸增加，F(xiàn)MM也需要被加大尺寸。因這些問題導(dǎo)致難以制造FMM，并且因FMM的自重力導(dǎo)致FMM可能會下垂并且難以形成具有先前設(shè)定且精確圖案的中間層。
[0104]為了解決這些問題，在根據(jù)示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備中，可以在沉積組件245與襯底400相對于彼此移動時(shí)執(zhí)行沉積。詳細(xì)地，在輸送單兀241沿著第一方向(+Y方向)輸送固定于移動單元300上的襯底400時(shí)，與襯底400相隔的沉積組件245將材料沉積在襯底400上。也就是說，在襯底400沿著圖3所示的箭頭方向A移動時(shí)以掃描方式執(zhí)行沉積。雖然襯底400被示出為在執(zhí)行沉積時(shí)在室101中沿著+Y方向移動，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式并不限于此。在另一示例性實(shí)施方式中，例如，可以在襯底400被保持在固定位置并且沉積組件245沿著-Y方向移動時(shí)執(zhí)行沉積。
[0105]由此，在根據(jù)本發(fā)明的當(dāng)前示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備中，圖案化狹縫片130可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于用于傳統(tǒng)的沉積方法中的FMM。也就是說，在沉積設(shè)備中，在襯底400沿著Y-軸方向移動時(shí)連續(xù)地執(zhí)行沉積(例如，以掃描方式)。由此，甚至是在圖案化狹縫片130在Y-軸方向上的長度可以遠(yuǎn)大于襯底400在Y-軸方向上的長度時(shí)，也可以在大多數(shù)襯底400上充分地執(zhí)行沉積。
[0106]因?yàn)榭梢蕴峁┻h(yuǎn)小于用于傳統(tǒng)的沉積方法中的FMM的圖案化狹縫片130，所以易于制造圖案化狹縫片130。也就是所，相比于用于傳統(tǒng)的沉積方法中的FMM，小的圖案化狹縫片130更有利于包括以下的制造工藝中，例如精確延伸隨后的蝕刻、焊接、轉(zhuǎn)印和洗滌工藝。此外，這更有利于制造相對大型的顯示裝置。
[0107]如上所述,在輸送單兀241沿著第一方向(+Y方向)輸送固定于移動單兀300上的襯底400時(shí)與襯底400相隔時(shí)，沉積組件245將材料沉積在襯底400上。也就是說，圖案化狹縫片130與襯底400相隔預(yù)定距離。在使用FMM的傳統(tǒng)的沉積設(shè)備中，F(xiàn)MM與襯底接觸，并由此發(fā)生缺陷。然而，根據(jù)本發(fā)明的當(dāng)前示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備，可以有效地防止這些問題。此外，因?yàn)闊o需在沉積工藝過程中使襯底與掩模緊密接觸，所以可以充分地改善制造速度。
[0108]如圖3和圖4所示，殼體104可以包括:布置在包括沉積源噴嘴單元120的沉積源110的兩個(gè)相對側(cè)上的容納部104’。第一臺150和第二臺160可以被布置在容納部104’上，并且圖案化狹縫片130的一部分可以被布置在第二臺160上。
[0109]第一臺150可以在X-軸方向和Y-軸方向上調(diào)節(jié)圖案化狹縫片130的位置。第一臺150可以包括多個(gè)致動器以相對于殼體104沿著X-軸方向和Y-軸方向移動圖案化狹縫片130的位置。第二臺160可以在Z-軸方向上調(diào)節(jié)圖案化狹縫片130的位置。在示例性實(shí)施方式中，例如，第二臺160包括致動器以相對于第一臺150，即，相對于殼體104的Z-軸方向上調(diào)節(jié)圖案化狹縫片130的位置。
[0110]通過使用第一臺150和第二臺160相對于襯底400調(diào)節(jié)圖案化狹縫片130的位置，可以執(zhí)行襯底400與圖案化狹縫片130之間的對齊，尤其是，實(shí)時(shí)對齊。
[0111]此外，殼體104、第一臺150和第二臺160可以引導(dǎo)沉積材料的流動路徑，以便不分散通過沉積源噴嘴121排出的沉積材料。也就是說，沉積材料的路徑受限于殼體104、第一臺150和第二臺160，以便可以限制沉積材料在X-軸方向上的移動。
[0112]對于對齊工藝而言，沉積組件245還可以包括:攝像機(jī)170和傳感器180。在示例性實(shí)施方式中，傳感器180可以是共焦傳感器。攝像機(jī)170可以實(shí)時(shí)生成待用于使圖案化狹縫片130中提供的第一對齊掩模(未不出)與設(shè)置在襯底400上的第二對齊掩模(未不出)精確對齊的數(shù)據(jù)。傳感器180可以生成與圖案化狹縫片130與襯底400之間的距離相關(guān)的數(shù)據(jù)，以便圖案化狹縫片130和襯底400被維持在距彼此的適當(dāng)距離處。
[0113]因?yàn)橐r底400與圖案化狹縫片130之間的距離是能夠通過使用攝像機(jī)170和傳感器180實(shí)時(shí)測量的，所以襯底400可以實(shí)時(shí)地與圖案化狹縫片130對齊，并由此可以充分地改善圖案的位置精確度。
[0114]當(dāng)?shù)谝怀练e單元240中執(zhí)行沉積時(shí)，沉積材料不僅被沉積在固定于移動單元300上的襯底400上，而且還被沉積在第一阻擋構(gòu)件500上。當(dāng)將沉積材料沉積在多個(gè)襯底400上時(shí)，反復(fù)使用第一阻擋構(gòu)件500。由此，大量沉積材料也被沉積在第一阻擋構(gòu)件500上，并由此，當(dāng)在反復(fù)使用第一阻擋構(gòu)件500的工藝中第一阻擋構(gòu)件500上的沉積材料脫落在襯底400上時(shí)，可能因脫落在襯底400上的沉積材料導(dǎo)致出現(xiàn)缺陷。
[0115]然而，在根據(jù)當(dāng)前示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備中，第一阻擋構(gòu)件500在第一阻擋構(gòu)件500在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230中被設(shè)置在移動單元300下方的狀態(tài)下沿著朝上方向(+Z方向)移動，然后與襯底400和移動單元300結(jié)合。由此，即使第一阻擋構(gòu)件500上的沉積材料與第一阻擋構(gòu)件500分離，也不會移動至襯底400上而是沿著朝下方向(-Z方向)脫落。由此，可以有效地防止襯底400受到從第一阻擋構(gòu)件500分離的沉積材料的污染。
[0116]此外，當(dāng)在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中與移動單元300和襯底400分離時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500在沿著移動單元300的朝下方向(-Z方向)移動時(shí)與移動單元300和襯底400分離。由此，即使第一阻擋構(gòu)件500上的沉積材料與第一阻擋構(gòu)件500分離也不會移動至襯底400上而是沿著朝下方向(-Z方向)脫落。由此，可以有效地防止襯底400受到從第一阻擋構(gòu)件500分離的沉積材料的污染。
[0117]此外，當(dāng)移動單元300在襯底分離單元260中從襯底400分離之后通過移動和返回單元270返還至襯底結(jié)合單元220時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中從襯底400分離之后通過第一阻擋構(gòu)件返回單元280返還至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。也就是說，返還移動單元300的路徑與返還第一阻擋構(gòu)件500的路徑不同。也就是說，通過防止從第一阻擋構(gòu)件500分離的沉積材料沉積在移動單元300上，可以有效地防止襯底400受到分離的沉積材料的污染。
[0118]圖5是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的圖1所示沉積設(shè)備的移動和返回單元270的一部分的示例性實(shí)施方式的示意性剖面圖。與第一沉積單元240相似，移動和返回單元270可以包括:室106和容納于室106中的殼體109。詳細(xì)地，殼體109可以被設(shè)置在足部106上，足部106可固定至足部106下方的地面或者結(jié)構(gòu)。在這方面，殼體109與室106之間的連接部被密封，以便室106的內(nèi)側(cè)完全隔絕于外側(cè)。因殼體109被設(shè)置在固定至足部107下方的地面或者結(jié)構(gòu)的足部107上的結(jié)構(gòu)，即使室106反復(fù)收縮和膨脹，殼體109也可以被維持在固定位置中。由此，在移動和返回單元270中殼體109可以充當(dāng)基準(zhǔn)框架。
[0119]在示例性實(shí)施方式中，不同于執(zhí)行沉積的沉積單元240，移動和返回單元270的內(nèi)側(cè)可以不處于真空狀態(tài)。在這種情況下，不同于圖5所示的示例性實(shí)施方式，可以集成室106和殼體109或者可以僅僅提供集成室106和殼體109中的一個(gè)。第二輸送單元272可以被設(shè)置在殼體109中。
[0120]當(dāng)在移動單元300通過第一沉積單元240的同時(shí)完成沉積之后，第二輸送單元272將已在襯底分離單元260中從襯底400分離的移動單元300返還至襯底結(jié)合單元220。第二輸送單元272包括:設(shè)置在殼體109中的線圈272’ ’、滾輪導(dǎo)軌272’和充電軌道272’ ’ ’。在示例性實(shí)施方式中，線圈272’’和充電軌道272’’’可以被設(shè)置在殼體109的下部中，滾輪導(dǎo)軌272’可以被設(shè)置在殼體109的兩個(gè)內(nèi)側(cè)上。雖然未在附圖中示出，但是與輸送單元241的線圈241’’相同，線圈272’’也可以被設(shè)置在大氣箱中。
[0121]與輸送單元241的線圈241’’相同，線圈272’’可以與移動單元300的載體310的磁軌310b結(jié)合以形成線性電機(jī)。線性電機(jī)允許移動單元300在與第一方向(+Y方向)相反的方向(-Y方向)上移動。
[0122]滾輪導(dǎo)軌272’引導(dǎo)載體310在與第一方向(+Y方向)相反的方向(-Y方向)上移動。滾輪導(dǎo)軌272’支承分別設(shè)置在移動單元300的載體310的兩側(cè)上的凸輪從動件(未示出)，以引導(dǎo)移動單兀300在與第一方向(+Y方向)相反的方向(-Y方向)上移動。
[0123]第二輸送單元272執(zhí)行將從襯底400分離的移動單元300返還至襯底結(jié)合單元220的功能，并由此，相比于輸送固定有襯底400以在襯底400上執(zhí)行沉積的移動單元300的輸送單元241，不要求輸送移動單元300的高位置精確度。因此，磁懸浮被應(yīng)用于要求被輸送的移動單元300的高位置精確度的輸送單元241，由此獲得高位置精確度；傳統(tǒng)的滾輪方法可以被應(yīng)用于第二輸送單元272，由此簡化沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)并減少制造成本。然而，本發(fā)明并不限于此，并且根據(jù)需要，如輸送單元241中，磁懸浮可以被應(yīng)用于第二輸送單元272。
[0124]充電軌道272’’’被連接至逆變器(未示出)，并由此，當(dāng)?shù)诙斔蛦卧?72輸送載體310時(shí)，磁場被提供在充電軌道272’ ’ ’與CPS模塊310c之間，以向CPS模塊310c供電，由此對載體310的電源單元310d充電。
[0125]如圖1所示，襯底結(jié)合單元220除了作為第一輸送單元的一部分的輸送單元221以外可以包括附加的輸送單元222。當(dāng)通過第二輸送單元272返還的移動單元300進(jìn)入襯底結(jié)合單元220時(shí)，附加的輸送單元222可以支承移動單元300，例如，并且可以為在Y-軸方向上延伸的一對導(dǎo)軌。一對導(dǎo)軌可以通過分別在+X方向和-X方向上移動以加寬它們之間的間隔，然后，可以允許移動單元300通過間隔沿著朝下方向(-Z方向)移動并且被設(shè)置在輸送單元221中。為此，用于支承移動單元300的銷(未示出)可以從底部沿著朝上方向移動以支承移動單元300，然后可以再次移動至底部以允許移動單元300被設(shè)置在輸送單元221中。然后，一對導(dǎo)軌可以移動成使它們之間的間隔再次變窄，并且可以在通過第二輸送單元272返還的移動單元300進(jìn)入襯底結(jié)合單元220時(shí)支承移動單元300。
[0126]在另一示例性實(shí)施方式中，不同于圖1所示的示例性實(shí)施方式，襯底結(jié)合單元220可以僅包括輸送單元221。在這種情況下，輸送單元221自身可以上下移動。也就是說，在通過第二輸送單元272返還的移動單元300進(jìn)入襯底結(jié)合單元220時(shí)，輸送單元221可以被設(shè)置在移動單元300上方以支承移動單元300。然后，在移動單元300被支承的狀態(tài)下輸送單元221可以沿著朝下方向(-Z方向)移動，并且可以將移動單元300輸送至第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230。
[0127]襯底分離單元260也可以除了作為第一輸送單元的一部分的輸送單元261以外包括附加的輸送單元262，并且在這種情況下，附加的輸送單元262也可以為一對導(dǎo)軌，一對導(dǎo)軌之間的間距可以有所不同。在另一示例性實(shí)施方式中，襯底分離單元260可以僅包括輸送單元261，并且輸送單元261自身可以上下移動。
[0128]在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230中，用于支承包括結(jié)合有襯底400的移動單元300并且作為第一輸送單元的一部分的輸送單元(未示出)可以被設(shè)置在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230的上部中。此外，在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230中，除了輸送單元(未示出)以外，用于支承通過第一阻擋構(gòu)件返回單元280返還的第一阻擋構(gòu)件500的附加的輸送單元234也可以被設(shè)置在第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230的下部中。在被輸送的第一阻擋構(gòu)件500被附加的輸送單元234支承的狀態(tài)下，第一阻擋構(gòu)件500可以通過銷(未示出)在朝上方向(+Z方向)上移動，以便第一阻擋構(gòu)件500與包括上面固定的襯底400的移動單元300結(jié)合。
[0129]并且在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中，用于支承已結(jié)合有襯底400的移動單元300并且作為第一輸送單元的一部分的輸送單元(未示出)可以被設(shè)置在第一阻擋構(gòu)件分離單元250的上部中。此外，在第一阻擋構(gòu)件分離單元250中，除了輸送單元(未示出)以外，用于支承通過第一阻擋構(gòu)件返回單元280返還的第一阻擋構(gòu)件500的附加的輸送單元254也可以被設(shè)置在第一阻擋構(gòu)件分離單元250的下部中。當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件與包括上面固定的襯底400的移動單元300分離時(shí)，在銷(未示出)已抬起的狀態(tài)下，第一阻擋構(gòu)件500可以被銷支承并且隨著銷下降可以被支承在下部附加的輸送單元254上。然后，附加的輸送單元254可以在-Y方向上輸送第一阻擋構(gòu)件500，以便第一阻擋構(gòu)件500進(jìn)入第一阻擋構(gòu)件返回單元 280。
[0130]雖然在上面的示例性實(shí)施方式中第一阻擋構(gòu)件返回單元280被設(shè)置在第一沉積單元240的下方，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式并不限于此。在示例性實(shí)施方式中，例如，在根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備的情況下，第一阻擋構(gòu)件返回單元280可以被設(shè)置在第一沉積單元240的旁邊，即，+X方向旁邊或-X方向旁邊。在這種情況下，第一阻擋構(gòu)件返回單元280返還被分離的第一阻擋構(gòu)件500，以便被分離的第一阻擋構(gòu)件500通過第一沉積單元240。
[0131]詳細(xì)地，第一阻擋構(gòu)件分離單元250可以包括:用于通過使用第一方向(+Y方向)作為轉(zhuǎn)動軸線沿著第一轉(zhuǎn)動方向以先前設(shè)定的角度轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件500的第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元。在示例性實(shí)施方式中，第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元可以通過使用第一方向(+Y方向)作為轉(zhuǎn)動軸線以約90度轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件500。特別是，參照圖2，因?yàn)榈谝蛔钃鯓?gòu)件500被設(shè)置在XY平面上，當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件轉(zhuǎn)動單元通過使用第一方向(+Y方向)作為轉(zhuǎn)動軸線以約90度轉(zhuǎn)動被分離的第一阻擋構(gòu)件500時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500被布置在YZ平面上。在通過如上所述地轉(zhuǎn)動第一阻擋構(gòu)件500通過第一沉積單元240的側(cè)面返還第一阻擋構(gòu)件500的結(jié)構(gòu)中，可以自由利用第一沉積單元240下方的空間，由此便于沉積設(shè)備的維護(hù)。此外，有效地減少了沉積設(shè)備在+Z方向上的整體高度，由此便于沉積設(shè)備的維護(hù)。
[0132]在這種情況下，第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230還包括:第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元。第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元的第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元可以通過使用第一方向(+Y方向)作為轉(zhuǎn)動軸線以先前設(shè)定的角度(即，約90度)沿著與第一轉(zhuǎn)動方向相反的第二轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動通過第一阻擋構(gòu)件輸送單元284返還的第一阻擋構(gòu)件500，以便第一阻擋構(gòu)件500再次被設(shè)置在XY平面上。
[0133]圖6是示出根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備的的示意性側(cè)視概念圖。如圖6所示，除了圖1所示的沉積設(shè)備的部件以外，根據(jù)本發(fā)明的當(dāng)前示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備還包括:第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230’、第二沉積單元240’和第二阻擋構(gòu)件分離單元250’。第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230’、第二沉積單元240’和第二阻擋構(gòu)件分離單元250’可以被介入在第一阻擋構(gòu)件分離單元250與襯底分離單元260之間。
[0134]第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230’從底部沿著+Z方向抬起第二阻擋構(gòu)件，以便第二阻擋構(gòu)件與包括固定在其上的襯底400的移動單元300結(jié)合。移動單元300的上面固定有襯底400的表面面朝下(-Z方向)，并且第二阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底400的一部分。第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230’的結(jié)構(gòu)可以與上述的第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230的結(jié)構(gòu)相同或相似。第二沉積單元240’包括:在第二阻擋構(gòu)件與上面已固定有襯底400的移動單元300結(jié)合的狀態(tài)下用于將材料沉積在襯底400上的沉積組件。第二沉積單元240’可以與上述的第一沉積單元240的結(jié)構(gòu)相同或相似。在固定有襯底400的移動單元300的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)下，第二阻擋構(gòu)件分離單元250’從包括上面固定的襯底400的移動單元300沿著朝下方向(-Z方向)分離第二阻擋構(gòu)件。第二阻擋構(gòu)件分離單元250’的結(jié)構(gòu)可以與上述的第一阻擋構(gòu)件分離單元250的結(jié)構(gòu)相同或相似。
[0135]在根據(jù)當(dāng)前示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備中，第一輸送單元將在上面固定有襯底400的移動單元300按順序地輸送至襯底結(jié)合單元220、第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230、第一沉積單元240、第一阻擋構(gòu)件分離單元250、第二阻擋構(gòu)件結(jié)合單元230’、第二沉積單元240’、第二阻擋構(gòu)件分離單元250’和襯底分離單元260。通過移動和返回單元270的第二輸送單元272，已與襯底400分離的移動單元300從襯底分離單元260返還至襯底結(jié)合單元220。也就是說，通過第一輸送單元和第二輸送單元，沿著圖6所示的路徑Pl循環(huán)地輸送移動單元300。通過第一阻擋構(gòu)件返回單元280的第一阻擋構(gòu)件輸送單元284和第一輸送單元的一部分，沿著圖6所示的路徑P2循環(huán)地輸送第一阻擋構(gòu)件500。通過第二阻擋構(gòu)件返回單元280’的第二阻擋構(gòu)件輸送單元和第一輸送單元的一部分，沿著圖6所示的路徑P3循環(huán)地輸送第二阻擋構(gòu)件。與第一阻擋構(gòu)件輸送單元相似，第二阻擋構(gòu)件輸送單元被設(shè)置在第一輸送單元的下方。第二阻擋構(gòu)件輸送單元可以與第一阻擋構(gòu)件輸送單元的結(jié)構(gòu)相同或相似。
[0136]在這種方式下，分別循環(huán)地輸送移動單元300、第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件，并且當(dāng)返還它們時(shí)通過不同的路徑進(jìn)行返還。由此，沉積在第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件上的材料不會脫落在移動單元300上，由此有效地防止發(fā)生在襯底400上的缺陷。
[0137]此外，在使用第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件期間，只有一個(gè)襯底結(jié)合單元220和只有一個(gè)襯底分離單元260被設(shè)置在沉積設(shè)備中，由此，可以有效地減小沉積設(shè)備的尺寸。
[0138]雖然描述已著重于沉積設(shè)備，但是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式并不限于此。在示例性實(shí)施方式中，通過使用該沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法也包括在本發(fā)明的范圍中。
[0139]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法包括:將襯底400放置在移動單元300上，其中在上面固定有襯底400的移動單元300的表面面朝上(+Z方向)，轉(zhuǎn)動包括上面固定的襯底的移動單元300，以便使上面固定有襯底400的表面面朝下(-Z方向)。并且，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法包括:從底部沿著+Z方向抬起第一阻擋構(gòu)件500以將第一阻擋構(gòu)件500與包括上面固定的襯底400的移動單元300進(jìn)行結(jié)合，移動單兀300處于上面固定有襯底400的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)。第一阻擋構(gòu)件500暴露待執(zhí)行沉積的襯底的一部分，并且覆蓋襯底的剩余部分。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還包括:在第一沉積單元240、沉積組件245、246、247和248以及襯底400彼此相隔預(yù)定距離的狀態(tài)下，在相對于沉積組件245、246、247和248相對地輸送包括上面固定的襯底400的移動單元300 (其中移動單元300與第一阻擋構(gòu)件500結(jié)合)期間，通過將從沉積組件245、246、247和248排出的沉積材料沉積在襯底400上而提供層。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還包括:從包括上面固定的襯底400的移動單元300沿著朝下方向(-Z方向)分離第一阻擋構(gòu)件500,移動單兀300處于固定有襯底的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)。
[0140]在根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法中，第一阻擋構(gòu)件500 —直設(shè)置在襯底400和/或移動單元300的下方。當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件500與移動單元300結(jié)合時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500從移動單元300的下方朝向移動單元300升起，而當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件500從移動單元300分離時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500從移動單元300朝下下降。由此，從第一阻擋構(gòu)件500脫落的材料不會到達(dá)襯底400和/或移動單元300。由此，可以有效地防止因從第一阻擋構(gòu)件500脫落的材料而導(dǎo)致的制造缺陷。
[0141]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還可以包括:在第一阻擋構(gòu)件500的分離之后從包括上面固定的襯底400的移動單元300分離襯底400，在襯底400從移動單元300的分離之后返還移動單元。
[0142]由此,循環(huán)地輸送移動單元300，并由此，另一個(gè)襯底可以被設(shè)置在移動單元300上以重新使用移動單元300。此外，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還可以包括:在襯底400從移動單元300的分離之前，轉(zhuǎn)動包括上面固定的襯底400的移動單元300以便在其上固定有襯底400的表面面朝上(+Z方向)。
[0143]移動單元300的轉(zhuǎn)動可以包括:在比在層的形成中輸送包括上面固定的襯底400的移動單元300的高度更高的高度處轉(zhuǎn)動移動單元300。也就是說，用于返還移動單元300的第二輸送單兀272可以被設(shè)置在第一輸送單兀上。
[0144]此外，還可以重新使用第一阻擋構(gòu)件500以及移動單元300，為此，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還可以包括:返還被分離的第一阻擋構(gòu)件500。第一阻擋構(gòu)件500的返還可以包括:在比在層的形成中輸送包括上面固定的襯底400的移動單元300的高度更低的高度處返還第一阻擋構(gòu)件500。也就是說，用于返還第一阻擋構(gòu)件500的第一阻擋構(gòu)件輸送單兀284可以被設(shè)置在第一輸送單兀的下方。
[0145]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的方法還可以包括:通過使用第一方向(+Y方向)作為轉(zhuǎn)動軸線沿著第一轉(zhuǎn)送方向以先前設(shè)定的角度(B卩，約90度)轉(zhuǎn)動被設(shè)置在XY平面上的、被分離的第一阻擋構(gòu)件500。第一阻擋構(gòu)件500的返還可以包括:在第一阻擋構(gòu)件500沿著第一轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動的狀態(tài)下返還第一阻擋構(gòu)件500。在這種情況下，可以在第一阻擋構(gòu)件500被設(shè)置在YZ平面上的狀態(tài)下返還第一阻擋構(gòu)件500。由此，因?yàn)槭墙?jīng)由第一沉積單元240的側(cè)面而不是經(jīng)由執(zhí)行沉積的第一沉積單元240的下方的空間返還第一阻擋構(gòu)件，所以通過利用沉積單元240下方的空間可以更加容易地進(jìn)行第一沉積單元240的維護(hù)。
[0146]根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法還可以包括:在第一阻擋構(gòu)件500的分離之后從底部沿著+Z方向抬起第二阻擋構(gòu)件以將第二阻擋構(gòu)件與包括上面固定的襯底400的移動單元300進(jìn)行結(jié)合，移動單元300處于在上面固定有襯底400的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)。第二阻擋構(gòu)件暴露待執(zhí)行沉積的襯底400的一部分，并且覆蓋襯底400的剩余部分。根據(jù)本發(fā)明的該其他示例性實(shí)施方式的方法還包括:在第二沉積單元、沉積組件和襯底400彼此相隔預(yù)定距離的狀態(tài)下，在相對于沉積組件相對地輸送包括固定在其上的襯底400的移動單元300 (其中移動單元300與第二阻擋構(gòu)件結(jié)合)期間，通過將從沉積組件排出的沉積材料沉積在襯底400上而形成層；以及從包括上面固定的襯底400的移動單元300沿著朝下方向(-Z方向)分離第二阻擋構(gòu)件，移動單元300處于固定有襯底的表面面朝下(-Z方向)的狀態(tài)。此外，根據(jù)本發(fā)明的其他示例性實(shí)施方式的方法還包括:在層的形成和第二阻擋構(gòu)件的分離之后，從包括上面固定的襯底400的移動單元300分離襯底400。
[0147]由此，在根據(jù)本發(fā)明的其他示例性實(shí)施方式的方法中，襯底400與移動單元300彼此結(jié)合一次、彼此分離一次，并且臨時(shí)地，第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件按順序地與移動單元300結(jié)合和分離，以便可以執(zhí)行沉積。此外，第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件一直設(shè)置在襯底400和/或移動單元300的下方。當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件分別于移動單元300結(jié)合時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件分別從移動單元300的下方朝向移動單元300升起，而當(dāng)?shù)谝蛔钃鯓?gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件分別從移動單元300分離時(shí)，第一阻擋構(gòu)件500和第二阻擋構(gòu)件分別從移動單元300朝下下降。由此，從第一阻擋構(gòu)件500和/或第二阻擋構(gòu)件脫落的材料不會到達(dá)襯底400和/或移動單元300。由此可以有效地防止因從第一阻擋構(gòu)件500和/或第二阻擋構(gòu)件脫落的材料導(dǎo)致的制造缺陷。由此，通過使用根據(jù)本發(fā)明的上述示例性實(shí)施方式中任一示例性實(shí)施方式的方法，可以有效地制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。
[0148]圖7是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，使用沉積設(shè)備制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的示意性剖面圖。
[0149]參照圖7，根據(jù)當(dāng)前示例性實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的多種元件被設(shè)置在襯底50上。襯底50可以是上面參照圖3描述的襯底400，例如，或者是襯底400的切除部。在示例性實(shí)施方式中，襯底50可以包括:如玻璃、塑料或金屬的透明材料。
[0150]諸如緩沖層51、柵極絕緣層53和層間絕緣層55的公共層可以被設(shè)置在襯底50的整個(gè)表面上。并且，包括溝道區(qū)52a、源接觸區(qū)52b和漏接觸區(qū)52c的圖案化的半導(dǎo)體層52可以被設(shè)置在襯底50上，并且，作為薄膜晶體管(“TFT”)的元件的柵電極54、源電極56和漏電極57可以與圖案化的半導(dǎo)體層提供在一起。
[0151]此外，覆蓋TFT的鈍化層58和設(shè)置在鈍化層58上并且具有大致平坦的上表面的平坦化層59可以被設(shè)置在襯底50的整個(gè)表面上。有機(jī)發(fā)光期間(“0LED”)包括:圖案化的像素電極61 ;與襯底50的整個(gè)表面大約對應(yīng)的相對電極63 ;以及具有多層結(jié)構(gòu)的中間層62，該中間層62介入于像素電極61與相對電極63之間并且包括可以設(shè)置在平坦化層59上的發(fā)光層。在另一不例性實(shí)施方式中，不同于圖7，中間層62可以包括與襯底50的大致整個(gè)表面對應(yīng)的公共層，并且其他層中的一些可以是圖案化的層，圖案化的層被圖案化成與像素電極61對應(yīng)。像素電極61可以通過通孔與TFT電連接。在另一示例性實(shí)施方式中，覆蓋像素電極61的邊緣并且限定有與各個(gè)像素區(qū)域?qū)?yīng)的開口的像素限定層60可以被設(shè)置在平坦化層59上，以與襯底50的大致整個(gè)表面對應(yīng)。
[0152]通過使用根據(jù)本發(fā)明的上述的示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備或者制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法，可以提供有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的元件中至少一些。
[0153]在示例性實(shí)施方式中，通過使用根據(jù)本發(fā)明的上述的示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備或者制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法，可以提供中間層62。在示例性實(shí)施方式中，空穴注入層(“HIL”)、空穴傳輸層(“HTL”)、發(fā)光層(“EML”)、電子傳輸層(“ETL”)、電子注入層(“EIL”)等可以包括在中間層62中，而中間層62是可以通過使用根據(jù)本發(fā)明的上述的示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備或者制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法提供的。
[0154]也就是說，當(dāng)形成中間層62的層中每個(gè)時(shí)，在沉積組件與用于沉積的襯底相隔預(yù)定距離的狀態(tài)下，可以在沉積組件中任一個(gè)與用于沉積的襯底相對于彼此移動期間執(zhí)行沉積。沉積組件包括沉積源、沉積源噴嘴單元和圖案化狹縫片，并且用于沉積的襯底為具有提供在其中的像素電極61的襯底。
[0155]當(dāng)在X-軸方向上排列的多個(gè)圖案化狹縫131被定義在如圖3和圖4所示的圖案化狹縫片中以通過使用圖案化狹縫片形成中間層62的一個(gè)層時(shí)，該層可以具有線性圖案。在示例性實(shí)施方式中，例如，該層可以是EML。
[0156]此外，當(dāng)使用通過使用根據(jù)本發(fā)明的上述的示例性實(shí)施方式的沉積設(shè)備或者制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法時(shí)，通過在形成中間層62的各個(gè)層并且使阻擋件之前抬起待與襯底50或襯底400結(jié)合的阻擋件并且在分離阻擋件時(shí)使得與襯底50或襯底400分離的阻擋件朝下下降，可以有效地防止從阻擋件落下的材料移動至襯底50或襯底400上。
[0157]如上所述，通過使用圖1的沉積設(shè)備或類似設(shè)備在大型表面襯底上執(zhí)行沉積時(shí)，沉積可以被精確地執(zhí)行在先前設(shè)定的區(qū)域中。由此，甚至對于包括40英寸或更大的襯底的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備而言，也可以精確地提供中間層62，由此提供高品質(zhì)的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。
[0158]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的上述示例性實(shí)施方式中一個(gè)或多個(gè)，可以實(shí)現(xiàn)能夠有效防止沉積工藝中的污染的沉積設(shè)備、通過使用該沉積設(shè)備制造有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備的方法以及通過使用該方法制造的有機(jī)發(fā)光顯示設(shè)備。
[0159]應(yīng)當(dāng)理解的是，本文中描述的示例性實(shí)施方式只應(yīng)被認(rèn)為是描述性含義，而不是以限制的目的。各個(gè)示例性實(shí)施方式內(nèi)的示例性實(shí)施方式或特征的描述通常應(yīng)被認(rèn)為是可用于其他示例性實(shí)施方式中的相似特征或示例性實(shí)施方式中。
[0160]雖然已參照附圖描述了本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)示例性實(shí)施方式，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)理解，在不背離由所附權(quán)利要求限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下可以對本發(fā)明中的細(xì)節(jié)和形式進(jìn)行多種變化。
【權(quán)利要求】
1.一種沉積設(shè)備，包括: 襯底結(jié)合單元，被配置成在移動單元的用于固定襯底的表面面朝上時(shí)將所述襯底設(shè)置在所述移動單元上； 第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元，被配置成抬起第一阻擋構(gòu)件并且將所述第一阻擋構(gòu)件與包括被固定的所述襯底的所述移動單元結(jié)合，所述移動單元處于固定有所述襯底的表面面朝下的狀態(tài)，其中所述第一阻擋構(gòu)件暴露所述襯底的待執(zhí)行沉積的部分； 第一沉積單元，包括一個(gè)或多個(gè)沉積組件，所述一個(gè)或多個(gè)沉積組件被配置成在所述第一阻擋構(gòu)件與包括被固定的所述襯底的所述移動單元結(jié)合的狀態(tài)下將材料沉積在所述襯底上； 第一阻擋構(gòu)件分離單元，被配置成從包括被固定的所述襯底的所述移動單元朝下分離所述第一阻擋構(gòu)件，所述移動單元處于固定有所述襯底的所述表面面朝下的狀態(tài)；以及 第一輸送單元，被配置成在第一方向上輸送包括被固定的所述襯底的所述移動單元，使得包括被固定的所述襯底的所述移動單元從所述襯底結(jié)合單元按順序通過所述第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元和所述第一沉積單元被輸送至所述第一阻擋構(gòu)件分離單元， 其中所述一個(gè)或多個(gè)沉積組件與所述襯底相隔預(yù)定距離，使得當(dāng)所述移動單元在所述第一方向上被輸送時(shí)，所述材料在所述第一沉積單兀中被沉積在所述襯底上。
2.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，其中 所述襯底結(jié)合單元被配置成在所述襯底被設(shè)置在所述移動單元上之后翻轉(zhuǎn)所述移動單元，使得固定有所述襯底的所述表面面朝下。
3.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，還包括: 襯底分離單元，被配置成從輸送自所述第一阻擋構(gòu)件分離單元的包括被固定的所述襯底的所述移動單元分離所述襯底。
4.如權(quán)利要求3所述的沉積設(shè)備，其中 被輸送至所述襯底分離單元的所述移動單元在固定有所述襯底的所述表面面朝下的狀態(tài)下被輸送，以及 所述襯底分離單元被配置成在從所述移動單元分離所述襯底之前翻轉(zhuǎn)所述移動單元，使得固定有所述襯底的所述表面面朝上。
5.如權(quán)利要求3所述的沉積設(shè)備，還包括: 第二輸送單元，用于在通過所述襯底分離單元從所述移動單元分離所述襯底之后將所述移動單元返還至所述襯底結(jié)合單元。
6.如權(quán)利要求5所述的沉積設(shè)備，其中 所述第二輸送單元被設(shè)置在所述第一輸送單元的上方。
7.如權(quán)利要求1所述的沉積設(shè)備，還包括: 第一阻擋構(gòu)件輸送單元，用于將通過所述第一阻擋構(gòu)件分離單元分離的所述第一阻擋構(gòu)件返還至所述第一阻擋構(gòu)件結(jié)合單元。
8.如權(quán)利要求7所述的沉積設(shè)備，其中 所述第一阻擋構(gòu)件輸送單元被設(shè)置在所述第一輸送單元的下方。
9.如權(quán)利要求7所述的沉積設(shè)備，其中所述第一阻擋構(gòu)件分離單元包括: 第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元，被配置成通過使用所述第一方向作為轉(zhuǎn)動軸線以先前設(shè)定的角度沿著第一轉(zhuǎn)動方向轉(zhuǎn)動所述被分離的第一阻擋構(gòu)件。
10.如權(quán)利要求9所述的沉積設(shè)備，其中 所述第一阻擋構(gòu)件轉(zhuǎn)動單元被配置成以約90度的角度轉(zhuǎn)動所述被分離的第一阻擋構(gòu)件。
【文檔編號】H01L51/56GK104347667SQ201410085414
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年3月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月9日
【發(fā)明者】孫鎮(zhèn)石 申請人:三星顯示有限公司