一種儲藏柜及控制方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種儲藏柜及控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，包括承托基片的承載平臺，其中，還包括：壓縮空氣源，用以形成壓縮空氣；空氣噴射裝置，設(shè)置于所述承載平臺上，并與所述壓縮空氣源連接，用于可控制的自所述承載平臺的承托面，向上方噴射來自所述壓縮空氣源的壓縮空氣，以托起所述承載平臺承托的基片，并使所述基片懸浮于所述承載平臺上方。其技術(shù)方案的有益效果是：減少了基片發(fā)生觸碰的機會；可避免基片被噴射的壓縮空氣托升得過高，造成壓縮空氣氣流不穩(wěn)定；可通過離子發(fā)生裝置，消除承載平臺、機械臂的承托部以及基片上的靜電。
【專利說明】一種儲藏柜及控制方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導體加工領(lǐng)域，尤其涉及一種應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)的儲藏柜及控制方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的半導體加工設(shè)備使用的自動物料搬送系統(tǒng)(AMHS, Automatic MaterialHandling System)通常需要采用儲藏柜(Stocker)來臨時放置等待進入半導體加工設(shè)備，或者從半導體加工設(shè)備流出的基片。
[0003]通常在AMHS中使用的儲藏柜一般會具有一用以承托基片的承載平臺，當基片由AMHS中的機械臂(Robot)的承托部(Arm)承托至承載平臺的承載面時,如圖1至圖3所示，承載平臺I上設(shè)置的多個支撐腳(Pin)IO在系統(tǒng)控制下向上升起，對基片O形成支撐，此時機械臂的承托部4從支撐腳10的排列空隙中水平的移動并撤出基片O與承載平臺I之間，隨后支撐腳10放下，使基片置于承載平臺I的承托面11上。
[0004]當承載平臺上的基片需要移走時，先由承載平臺上的支撐腳向上升起，將承載平臺上的基片托起，隨后，機械臂的承托部水平的伸入基片與承載平臺之間后向上升起，使機械臂的承托部形成對基片的支撐，機械臂移動帶走基片，承載平臺上的支撐腳放下。
[0005]上述現(xiàn)有的實施方式中，無論是基片放入儲藏柜，還是基片從儲藏柜中移走，都需要由承載平臺上的支撐腳與基片進行觸碰，這種觸碰可能造成基片損傷，同時可能造成靜電風險(ESD, Electro-Static discharge)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對現(xiàn)有的儲減柜存在的上述問題，現(xiàn)提供一種旨在減少基片進出時發(fā)生觸碰的儲藏柜及控制方法。
[0007]具體技術(shù)方案如下:
[0008]一種儲藏柜，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，包括承托基片的承載平臺，其中，還包括:
[0009]壓縮空氣源，用以形成壓縮空氣；
[0010]空氣噴射裝置，設(shè)置于所述承載平臺上，并與所述壓縮空氣源連接，用于可控制的自所述承載平臺的承托面，向上方噴射來自所述壓縮空氣源的壓縮空氣，以托起所述承載平臺承托的基片，并使所述基片懸浮于所述承載平臺上方。
[0011]優(yōu)選的，所述承載平臺的承托面設(shè)置有匹配所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部的凹槽。
[0012]優(yōu)選的，所述壓縮空氣源主要由一空氣壓縮機形成。
[0013]優(yōu)選的，所述空氣噴射裝置主要由設(shè)置于所述承載平臺的承托面上的噴氣嘴以及控制所述噴氣嘴噴射壓縮空氣和不噴射壓縮空氣的控制裝置形成，所述噴氣嘴頂部齊平于或者低于所述承載平臺的承托面。[0014]優(yōu)選的，所述壓縮空氣源設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整所述壓縮空氣的壓力。
[0015]優(yōu)選的，所述空氣噴射裝置設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整噴出所述壓縮空氣的壓力。
[0016]優(yōu)選的，所述空氣噴射裝置通過管道與所述壓縮空氣源連接，所述管道上設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整所述壓縮空氣的壓力。
[0017]優(yōu)選的，所述噴氣嘴均布于所述承載平臺承托所述基片時與所述基片重合的范圍內(nèi)。
[0018]優(yōu)選的，還包括離子發(fā)生裝置，所述離子發(fā)生裝置連接于所述壓縮空氣源及所述空氣噴射裝置之間，用于電離所述壓縮空氣源形成的壓縮空氣以產(chǎn)生離子風。
[0019]優(yōu)選的，所述離子發(fā)生裝置的控制部分與所述空氣噴射裝置連接，用以控制所述離子發(fā)生裝置于所述空氣噴射裝置噴射壓縮空氣時工作。
[0020]一種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，其中，包括以下步驟，
[0021]步驟al、所述儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于所述承載平臺的承托面上的基片浮起；
[0022]步驟a2、所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部伸入所述基片與所述承載平臺之間，并向上托起所述基片；
[0023]步驟a3、所述空氣噴射裝置停止噴射壓縮空氣。
[0024]一種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，其中，包括以下步驟，
[0025]步驟bl、所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部承托基片移動至所述儲藏柜的承載平臺上方；
[0026]步驟b2、所述儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于所述承托部上的基片浮起；
[0027]步驟b3、所述機械臂水平移動，使所述承托部從所述承載平臺與所述基片之間離開；
[0028]步驟b4、所述承載平臺通過一壓力調(diào)整裝置調(diào)整所述空氣噴射裝置噴射出的壓縮空氣的壓力，使所述壓縮空氣的壓力逐步減小直至停止噴射，以使所述基片與所述承載平臺的距離逐漸縮小直至所述基片與所述承載平臺的承托面接觸，并由所述承托面對所述基片形成支撐。
[0029]一種自動物料搬送系統(tǒng)，其中，包括上述儲藏柜。
[0030]一種自動物料搬送系統(tǒng)，其中，采用上述儲藏柜的控制方法。
[0031]上述技術(shù)方案的有益效果是:
[0032]1、通過空氣噴射裝置噴射壓縮空氣于基片放置及移走時對基片形成臨時支撐，減少了基片發(fā)生觸碰的機會；
[0033]2、通過于承載平臺的承托面上設(shè)置匹配自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部的凹槽，使空氣噴射裝置在不必將基片托升得很高的情況下，機械臂的承托部即可伸入承載平臺與基片之間，從而避免基片被噴射的壓縮空氣托升得過高，造成壓縮空氣氣流不穩(wěn)定;[0034]3、通過設(shè)置離子發(fā)生裝置，消除承載平臺、機械臂的承托部以及基片上的靜電。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0035]圖1-圖3為現(xiàn)有的儲藏柜與機械臂配合將基片放置于承載平臺上時的過程圖；
[0036]圖4為本發(fā)明的儲藏柜的承載平臺的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0037]圖5-圖7為本發(fā)明的儲藏柜與機械臂配合將基片放置于承載平臺上時的過程圖；
[0038]圖8為本發(fā)明的一種儲藏柜的控制方法的步驟流程框圖；
[0039]圖9為本發(fā)明的另一種儲藏柜的控制方法的步驟流程框圖。
【具體實施方式】
[0040]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0041]需要說明的是，在不沖突的情況下，本發(fā)明中的實施例及實施例中的特征可以相
互組合。
[0042]如圖4所示，一種儲藏柜，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，包括承托基片的承載平臺1，其中，還包括壓縮空氣源2，用以形成壓縮空氣；空氣噴射裝置，設(shè)置于承載平臺I上，并與壓縮空氣源2連接，用于可控制的自承載平臺I的承托面11，向上方噴射來自壓縮空氣源2的壓縮空氣，以托起承載平臺I承托的基片0，并使基片O懸浮于承載平臺I上方。
[0043]本發(fā)明最基本的思想是，以空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，代替現(xiàn)有技術(shù)中的支撐腳，以使基片O在放上承載平臺I和從承載平臺I上移走時能夠減少觸碰的發(fā)生，從而降低基片O發(fā)生損壞的可能性，以及降低因觸碰造成ESD風險的可能性。
[0044]上述技術(shù)方案的具體工作過程為:
[0045]當需要將基片O由自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部4上卸載至儲藏柜的承載平臺I上時，如圖5-圖7所示的過程，首先機械臂的承托部4承托基片O移動至儲藏柜的承載平臺I上方；空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于承托部4上的基片O浮起；機械臂水平移動，使承托部4從承載平臺I與基片O之間離開；承載平臺I停止空氣噴射裝置噴射出壓縮空氣，以使基片O與承載平臺I的承托面11接觸，并由承托面11對基片O形成支撐。
[0046]當需要將基片O由承載平臺I的承托面11上移動至自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部4上時，首先，承載平臺I通過空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于承載平臺I的承托面11上的基片O浮起；機械臂的承托部4伸入基片O與承載平臺I之間，并向上托起基片O ;空氣噴射裝置停止噴射壓縮空氣。
[0047]在一種較優(yōu)的實施方式中，壓縮空氣源2可主要由一空氣壓縮機形成，但是空氣壓縮機并非形成壓縮空氣源2的唯一實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)想到的以及可以利用到的形成壓縮空氣源2的實施方式都應當包含在本發(fā)明的技術(shù)方案中。
[0048]于上述技術(shù)方案基礎(chǔ)上，壓縮空氣源2可設(shè)置有壓力調(diào)整裝置(未于圖中示出)，壓力調(diào)整裝置用以調(diào)整壓縮空氣的壓力。如當需要將承載平臺I上的基片O托起時，可通過壓力調(diào)整裝置調(diào)整，使壓縮空氣的壓力逐步增大，以起到穩(wěn)定的托起基片O的目的，以防止突然的強力的壓縮空氣噴出使基片O發(fā)生跳動甚至發(fā)生翻轉(zhuǎn)；又如，當需要將自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部4上的基片O置于承載平臺I上時，可先通過壓力調(diào)整裝置調(diào)整，使壓縮空氣的壓力逐步增大，以實現(xiàn)穩(wěn)定的將機械臂的承托部4上的基片O托起，待機械臂撤離后，再通過壓力調(diào)整裝置調(diào)整，使壓縮空氣的壓力逐步縮小，以實現(xiàn)使基片O穩(wěn)定的降落到承載平臺I的承托面11上，以防止突然的空氣壓力消失造成基片O跌落進而產(chǎn)生損壞。需要說明的是，壓力調(diào)整裝置也可以設(shè)置于空氣噴射裝置上，或者設(shè)置于連接壓縮空氣源2和空氣噴射裝置的管道上。
[0049]在一種較優(yōu)的實施方式中，空氣噴射裝置可主要由設(shè)置于承載平臺I的承托面11上的噴氣嘴3以及控制噴氣嘴3噴射壓縮空氣和不噴射壓縮空氣的控制裝置(未于圖中示出)形成，噴氣嘴3頂部齊平于或者低于承載平臺I的承托面11。噴氣嘴3設(shè)置的數(shù)量可根據(jù)需要承托的基片O的大小來確定，當需要承托的基片O較大時，可布設(shè)較多的噴氣嘴3，以使壓縮空氣均勻的被噴出，使基片O在被托起或者被降下的過程中可保持姿態(tài)穩(wěn)定。在此基礎(chǔ)上，噴氣嘴3可均布于承載平臺I承托基片O時與基片O重合的范圍內(nèi)。
[0050]在繼承上述實施方式的同時，本發(fā)明還有一種較優(yōu)的實施方式，其中，承載平臺I的承托面11設(shè)置有匹配自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部4的凹槽12。設(shè)置凹槽12的目的在于，使機械臂的承托部4在移動到所述承載平臺I上方時可部分的嵌入承載平臺I中，從而使空氣噴射裝置在不必將基片O托升得很高的情況下，機械臂的承托部4即可伸入承載平臺I與基片O之間，從而避免基片O被噴射的壓縮空氣托升得過高，造成壓縮空氣氣流不穩(wěn)定從而影響基片O的姿態(tài)。
[0051]在繼承上述實施方式的同時，本發(fā)明還有一種較優(yōu)的實施方式，其中，還包括離子發(fā)生裝置5，離子發(fā)生裝置5連接于壓縮空氣源2及空氣噴射裝置之間，用于電離壓縮空氣源2形成的壓縮空氣以產(chǎn)生離子風。通過設(shè)置離子發(fā)生裝置5產(chǎn)生離子風，借助壓縮空氣的壓力將離子風噴射至承載平臺1、機械臂的承托部4以及基片O上，以消除承載平臺1、機械臂的承托部4以及基片O上的可能產(chǎn)生的靜電。在此基礎(chǔ)上，離子發(fā)生裝置5的控制部分可與空氣噴射裝置連接，用以控制離子發(fā)生裝置5于空氣噴射裝置噴射壓縮空氣時工作。
[0052]本發(fā)明的技術(shù)方案中還包括一種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，如圖8所示，其中，包括以下步驟，
[0053]步驟al、儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于承載平臺的承托面上的基片浮起；
[0054]步驟a2、自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部伸入基片與承載平臺之間，并向上托起基片；
[0055]步驟a3、空氣噴射裝置停止噴射壓縮空氣。
[0056]上述技術(shù)方案中，步驟al可通過設(shè)置一壓力調(diào)整裝置，調(diào)整空氣噴射裝置噴射的壓縮空氣的壓力使壓縮空氣的壓力逐步增大，使基片于承載平臺上平穩(wěn)的浮起?？諝鈬娚溲b置噴射的壓縮空氣可來自一壓縮空氣源。
[0057]本發(fā)明的技術(shù)方案中還包括一種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，如圖9所示，其中，包括以下步驟，[0058]步驟bl、自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部承托基片移動至儲藏柜的承載平臺上方；
[0059]步驟b2、儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于承托部上的基片浮起；
[0060]步驟b3、機械臂水平移動，使承托部從承載平臺與基片之間離開；
[0061]步驟b4、承載平臺通過一壓力調(diào)整裝置調(diào)整空氣噴射裝置噴射出的壓縮空氣的壓力，使壓縮空氣的壓力逐步減小直至停止噴射，以使基片與承載平臺的距離逐漸縮小直至基片與承載平臺的承托面接觸，并由承托面對基片形成支撐。
[0062]上述技術(shù)方案中，步驟b2可通過壓力調(diào)整裝置，調(diào)整空氣噴射裝置噴射的壓縮空氣的壓力，使壓縮空氣的壓力逐步增大，使基片于機械臂的承托部上平穩(wěn)的浮起?？諝鈬娚溲b置噴射的壓縮空氣可來自一壓縮空氣源。
[0063]需要說明的是，上述提及的兩種儲藏柜的控制方法可單獨的被應用于自動物料搬送系統(tǒng)中，也可以同時被應用于同一自動物料搬送系統(tǒng)。
[0064]本發(fā)明的技術(shù)方案中還包括一種自動物料搬送系統(tǒng)，其中，包括上述提及的儲藏柜。
[0065]本發(fā)明的技術(shù)方案中還包括一種自動物料搬送系統(tǒng)，其中，采用上述提及的儲藏柜的控制方法。
[0066]以上所述僅為本發(fā)明較佳的實施例，并非因此限制本發(fā)明的實施方式及保護范圍，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，應當能夠意識到凡運用本發(fā)明說明書及圖示內(nèi)容所作出的等同替換和顯而易見的變化所得到的方案，均應當包含在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種儲藏柜，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，包括承托基片的承載平臺，其特征在于，還包括: 壓縮空氣源，用以形成壓縮空氣； 空氣噴射裝置，設(shè)置于所述承載平臺上，并與所述壓縮空氣源連接，用于可控制的自所述承載平臺的承托面，向上方噴射來自所述壓縮空氣源的壓縮空氣，以托起所述承載平臺承托的基片，并使所述基片懸浮于所述承載平臺上方。
2.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述承載平臺的承托面設(shè)置有匹配所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部的凹槽。
3.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述壓縮空氣源主要由一空氣壓縮機形成。
4.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述空氣噴射裝置主要由設(shè)置于所述承載平臺的承托面上的噴氣嘴以及控制所述噴氣嘴噴射壓縮空氣和不噴射壓縮空氣的控制裝置形成，所述噴氣嘴頂部齊平于或者低于所述承載平臺的承托面。
5.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述壓縮空氣源設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整所述壓縮空氣的壓力。
6.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述空氣噴射裝置設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整噴出所述壓縮空氣的壓力。
7.如權(quán)利要求1所述儲藏柜，其特征在于，所述空氣噴射裝置通過管道與所述壓縮空氣源連接，所述管道上設(shè)置有壓力調(diào)整裝置，用以調(diào)整所述壓縮空氣的壓力。
8.如權(quán)利要求4所述儲藏柜，其特征在于，所述噴氣嘴均布于所述承載平臺承托所述基片時與所述基片重合的范圍·內(nèi)。
9.如權(quán)利要求1-8中任一所述儲藏柜，其特征在于，還包括離子發(fā)生裝置，所述離子發(fā)生裝置連接于所述壓縮空氣源及所述空氣噴射裝置之間，用于電離所述壓縮空氣源形成的壓縮空氣以產(chǎn)生離子風。
10.如權(quán)利要求9所述儲藏柜，其特征在于，所述離子發(fā)生裝置的控制部分與所述空氣噴射裝置連接，用以控制所述離子發(fā)生裝置于所述空氣噴射裝置噴射壓縮空氣時工作。
11.一種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，其特征在于，包括以下步驟， 步驟al、所述儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于所述承載平臺的承托面上的基片浮起； 步驟a2、所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部伸入所述基片與所述承載平臺之間，并向上托起所述基片； 步驟a3、所述空氣噴射裝置停止噴射壓縮空氣。
12.—種儲藏柜的控制方法，應用于半導體加工設(shè)備的自動物料搬送系統(tǒng)，其特征在于，包括以下步驟， 步驟bl、所述自動物料搬送系統(tǒng)的機械臂的承托部承托基片移動至所述儲藏柜的承載平臺上方； 步驟b2、所述儲藏柜的承載平臺通過一空氣噴射裝置噴射壓縮空氣，使處于所述承托部上的基片浮起； 步驟b3、所述機械臂水平移動，使所述承托部從所述承載平臺與所述基片之間離開；步驟b4、所述承載平臺通過一壓力調(diào)整裝置調(diào)整所述空氣噴射裝置噴射出的壓縮空氣的壓力，使所述壓縮空氣的壓力逐步減小直至停止噴射，以使所述基片與所述承載平臺的距離逐漸縮小直至所述基片與所述承載平臺的承托面接觸，并由所述承托面對所述基片形成支撐。
13.—種自動物料搬送系統(tǒng)，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-10中任一所述儲藏柜。
14. 一種自動物料搬送系統(tǒng)，其特征在于，采用如權(quán)利要求11或12所述儲藏柜的控制方法。
【文檔編號】H01L21/677GK103824792SQ201410073158
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2014年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月28日
【發(fā)明者】楊東倫 申請人:上海和輝光電有限公司