一種可以降低晶圓表面沾污的倒片的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，該倒片機(jī)包括槽體、以及設(shè)置在該槽體內(nèi)的倒片翻轉(zhuǎn)裝置，該倒片翻轉(zhuǎn)裝置包括支架和底板，該底板通過轉(zhuǎn)軸安裝在支架上，該底板的一側(cè)安裝有一把手，推動該把手可使底板繞轉(zhuǎn)軸擺動。本實(shí)用新型在晶圓轉(zhuǎn)移過程中晶圓完全浸沒在水中，晶圓通過重力自然滑落到清洗花籃中，除花籃外晶圓不與其他物體接觸，最大限度降低了晶圓沾污機(jī)會，提高了晶圓清洗效果。
【專利說明】一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種倒片機(jī)，尤其涉及一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在晶圓加工過程中，需要進(jìn)行多次清洗。通常清洗需要將晶圓從花籃轉(zhuǎn)入專用清洗籃內(nèi)，清洗后再轉(zhuǎn)回清潔花籃中。傳統(tǒng)倒片一般暴露在空氣中，在晶圓轉(zhuǎn)移過程中晶圓表面容易干燥、易受環(huán)境沾污造成晶圓難于清洗。傳統(tǒng)倒片機(jī)推桿設(shè)計經(jīng)常接觸晶圓邊緣，容易造成晶圓邊緣沾污。嚴(yán)重影響晶圓表面清洗效果和生產(chǎn)效率。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，使晶圓自花籃轉(zhuǎn)移至清洗花籃時保持表面濕潤，不受空氣環(huán)境沾污，能有效降低晶圓在空氣中暴露時間，降低空氣環(huán)境沾污機(jī)會，并消除倒片機(jī)沾污晶圓邊緣的問題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，該倒片機(jī)包括槽體、以及設(shè)置在該槽體內(nèi)的倒片翻轉(zhuǎn)裝置，該倒片翻轉(zhuǎn)裝置包括支架和底板，該底板通過轉(zhuǎn)軸安裝在支架上，該底板的一側(cè)安裝有一把手，推動該把手可使底板繞轉(zhuǎn)軸擺動。
[0006]所述底板的上表面分為左、右兩個區(qū)域，轉(zhuǎn)軸安裝兩個區(qū)域的之間的位置上。
[0007]所述底板的兩個區(qū)域上均設(shè)有數(shù)個定位孔和限位塊，限位塊固定在定位孔上用于限位花籃和清洗花籃。
[0008]所述限位塊固定的位置與花籃和清洗花籃的定位標(biāo)示相匹配。
[0009]所述槽體的上部設(shè)有溢流口，下部設(shè)有進(jìn)液口和排液口。
[0010]本實(shí)用新型的倒片機(jī)適于承載5英寸、6英寸、8英寸或12英寸的晶圓。
[0011]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:
[0012]本實(shí)用新型在晶圓轉(zhuǎn)移過程中晶圓完全浸沒在水中，晶圓通過重力自然滑落到清洗花籃中，除花籃外晶圓不與其他物體接觸，最大限度降低了晶圓沾污機(jī)會，提高了晶圓清洗效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型倒片機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2為本實(shí)用新型倒片翻轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0016]如圖1所示，本實(shí)用新型的倒片機(jī)包括槽體I和倒片翻轉(zhuǎn)裝置2，倒片翻轉(zhuǎn)裝置2設(shè)置在槽體I內(nèi)部，該倒片翻轉(zhuǎn)裝置2包括支架3和底板4，該底板4通過轉(zhuǎn)軸5安裝在支架3上，該底板4的一側(cè)安裝有一把手6，推動該把手6可使底板4繞轉(zhuǎn)軸5擺動。
[0017]如圖2所示，底板4分為左、右兩個區(qū)域，轉(zhuǎn)軸5安裝在兩個區(qū)域的之間的位置上。底板4的左右兩個區(qū)域分別用來承載花籃和清洗花籃。該兩個區(qū)域上分別設(shè)有用來限位花籃和清洗花籃的數(shù)個定位孔7和限位塊8。通過將限位塊固定在合適的定位孔上，使得限位塊的位置與花籃和清洗花籃的定位標(biāo)示相匹配。另外，還可以根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整底板的大小和定位孔的位置，以適用于多種尺寸的晶圓，本實(shí)用新型的倒片機(jī)適于承載5英寸、6英寸、8英寸或12英寸等尺寸的晶圓。
[0018]如圖1所示，槽體上部設(shè)有溢流口 9，槽體下部設(shè)有進(jìn)、排液口 10，進(jìn)、排液口可以設(shè)置在槽體底部并共用一口，工程上可以采用三通和閥門分別實(shí)現(xiàn)進(jìn)液和排液功能。另外，進(jìn)液口和排液口還可以分別設(shè)置在槽體的不同位置，沒有特別限制。
[0019]本實(shí)用新型中，槽體的材質(zhì)可以為聚丙烯(PP)、不銹鋼、聚四氟乙烯烷氧基樹脂(PFA)或聚四氟乙烯(PTFE)等材料，倒片翻轉(zhuǎn)裝置的底板的材質(zhì)可以為聚丙烯(PP)、聚四氟乙烯烷氧基樹脂(PFA)或聚四氟乙烯(PTFE)等材料。
[0020]本實(shí)用新型在使用過程中，將槽體中注滿水，將盛放晶圓的花籃放在倒片翻轉(zhuǎn)裝置底板的一側(cè)，使花籃定位標(biāo)示進(jìn)入底板限位塊中，在另一側(cè)放置清洗花籃。推動握把使底板傾斜，晶圓會在自身重力的作用下從花籃中自然滑落至另一側(cè)的清洗花籃中。操作過程中花籃與晶圓完全浸沒在水中，除花籃外沒有物體與晶圓接觸，最大限度降低了晶圓沾污機(jī)會，提高了晶圓清洗效果。
【權(quán)利要求】
1.一種可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，該倒片機(jī)包括槽體、以及設(shè)置在該槽體內(nèi)的倒片翻轉(zhuǎn)裝置，該倒片翻轉(zhuǎn)裝置包括支架和底板，該底板通過轉(zhuǎn)軸安裝在支架上，該底板的一側(cè)安裝有一把手，推動該把手可使底板繞轉(zhuǎn)軸擺動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，所述底板的上表面分為左、右兩個區(qū)域，轉(zhuǎn)軸安裝兩個區(qū)域的之間的位置上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，所述底板的兩個區(qū)域上均設(shè)有數(shù)個定位孔和限位塊，限位塊固定在定位孔上用于限位花籃和清洗花ITTt.0
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，所述限位塊固定的位置與花籃和清洗花籃的定位標(biāo)示相匹配。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，所述槽體的上部設(shè)有溢流口，下部設(shè)有進(jìn)液口和排液口。
6.根據(jù)權(quán)利要求1?5中任一項所述的可以降低晶圓表面沾污的倒片機(jī)，其特征在于，所述倒片機(jī)適于承載5英寸、6英寸、8英寸或12英寸的晶圓。
【文檔編號】H01L21/677GK203607381SQ201320735701
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年11月19日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月19日
【發(fā)明者】寧永鐸, 邊永智, 趙晶, 史訓(xùn)達(dá), 趙偉, 張靜, 張亮 申請人:有研半導(dǎo)體材料股份有限公司