顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種顯示裝置，其目的在于，減小填充劑（42）的氣泡（48）對(duì)圖像顯示造成的影響。該顯示裝置具有：由包含光控制元件（16）的多個(gè)層構(gòu)成的電路基板（10）；與電路基板（10）相對(duì)的對(duì)置基板（30）；以包圍光控制元件（16）的方式設(shè)置在電路基板（10）與對(duì)置基板（30）之間的密封件（38）；填充于至少由電路基板（10）、對(duì)置基板（30）和由密封件（38）構(gòu)成的密封面圍成的密封空間中的填充劑（42）。密封面具有：由密封件（38）的內(nèi)表面形成的內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面（44）；和自電路基板（10）、對(duì)置基板（30）和密封件（38）中的至少一個(gè)與拐角面（44）鄰接形成的凸面（46）。
【專利說(shuō)明】顯示裝置【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]顯示裝置具有利用一對(duì)基板夾著控制光的元件的構(gòu)造。例如，在有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置中，在TFT (Thin Film Transistor，薄膜晶體管)基板上，以與處于該基板上的OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光二極管)元件部相對(duì)的方式粘貼有對(duì)置基板。在該構(gòu)造中，為了確保形成于TFT基板上的OLED元件部的可靠性，在OLED元件上利用SiN等形成密封膜，并且，為了減少由于內(nèi)部反射引起的光損失，隔著填充劑粘貼對(duì)置基板。
[0003]一般而言，填充劑滴在設(shè)于TFT基板的周緣部的凸?fàn)顕痰膬?nèi)側(cè)，以使填充劑不會(huì)溢出到圍堤外側(cè)。該情況下，難以向圍堤構(gòu)造的內(nèi)側(cè)無(wú)間隙地完全填滿填充劑，存在氣泡殘留的問(wèn)題。當(dāng)氣泡進(jìn)入顯示區(qū)域時(shí)，會(huì)對(duì)圖像的顯示造成影響。作為應(yīng)對(duì)填充劑的氣泡的對(duì)策，有專利文獻(xiàn)I及2。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)丈獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2007-233117號(hào)公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2005-302740號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0009]專利文獻(xiàn)I中公開(kāi)有一種技術(shù)，即，利用層疊于TFT基板上的膜形成突起，由此，抑制填充劑夾雜氣泡，但由于是利用層疊膜形成突起，因此其高度有限制，存在效果不明顯的問(wèn)題。
[0010]專利文獻(xiàn)2中提出了一種結(jié)構(gòu)，即，不是連續(xù)地形成相當(dāng)于圍堤的凸部，而是通過(guò)在角部進(jìn)行分割而空出間隙，故意使填充劑向外側(cè)溢出。但是，使填充劑溢出的結(jié)構(gòu)，增加了去除所溢出的填充劑的工序，因此不實(shí)用。
[0011]本發(fā)明的目的在于，減小在放入有填充劑的密封空間中殘留的氣泡對(duì)圖像顯示造成的影響。
[0012]用于解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)手段
[0013]( I)本發(fā)明提供一種顯示裝置，其特征在于，具有:電路基板，其由包含光控制元件的多個(gè)層構(gòu)成；對(duì)置基板，其空出間隔地與上述電路基板的設(shè)置有上述光控制元件的面相對(duì)；密封件，其以包圍上述光控制元件的方式設(shè)置在上述電路基板與上述對(duì)置基板之間；和填充劑，其填充于至少由上述電路基板、上述對(duì)置基板和由上述密封件構(gòu)成的密封面圍成的密封空間中，上述密封面具有:由上述密封件的內(nèi)表面形成的內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面；和自上述電路基板、上述對(duì)置基板和上述密封件中的至少一個(gè)與上述拐角面鄰接而形成的凸面。根據(jù)本發(fā)明，填充劑所包含的氣泡由于具有在與密封面接觸的狀態(tài)下穩(wěn)定的性質(zhì)，因此集中于拐角面的內(nèi)側(cè)。因?yàn)樵诠战敲娴膬?nèi)側(cè)由凸面形成多個(gè)區(qū)劃區(qū)域，所以氣泡被分散在各個(gè)區(qū)劃區(qū)域。由此，即使在密封空間殘留有氣泡的情況下，也能夠減小氣泡，從而能夠減小氣泡對(duì)圖像顯示造成的影響。
[0014](2)在(I)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述凸面自上述密封件的內(nèi)表面形成，以從上述電路基板到上述對(duì)置基板的高度，從上述拐角面向上述密封空間的內(nèi)部方向突出，上述密封件包括上述凸面在內(nèi)整體連續(xù)地形成為一體。
[0015](3)在(2)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述密封件的上述內(nèi)表面與外表面之間的寬度在上述凸面變寬。
[0016](4)在(2)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述密封件在外表面與形成于上述內(nèi)表面的上述凸面相對(duì)應(yīng)地具有凹面。
[0017](5)在(4)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述密封件沿著以起點(diǎn)與終點(diǎn)一致且不中斷并且不兩次以上通過(guò)相同線的方式描繪的線延伸。
[0018](6)在(I)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述電路基板的表面根據(jù)層疊的層不同而形成為凹凸?fàn)?，上述凸面與上述電路基板的上述表面的相對(duì)低的面鄰接形成。
[0019](7)在(6)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述凸面位于與上述對(duì)置基板空出空隙的位置，上述凸面與上述對(duì)置基板之間的上述空隙為上述密封空間的一部分。
[0020](8)在(6)或(7)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述電路基板具有最上層和由上述最上層覆蓋的金屬層，上述凸面形成于上述最上層的覆蓋上述金屬層的部分。
[0021](9)在(8)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述金屬層以通過(guò)與上述密封件重疊的位置的方式配置。
[0022]( 10)在(I)所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述凸面形成于上述對(duì)置基板上。
[0023]( 11)在(10 )所述的顯示裝置，其特征也可以是，上述對(duì)置基板具有:避開(kāi)上述拐角面的內(nèi)側(cè)的區(qū)域配置的濾色片層；和設(shè)置于與上述濾色片層重疊的位置的間隔物，上述凸面由在上述拐角面的內(nèi)側(cè)的上述區(qū)域設(shè)置的與上述間隔物相同材料的層形成。
[0024](12)在(11)所述的顯示裝置，其特征也可以是，由上述間隔物形成的上述凸面位于與上述電路基板空出空隙的位置，上述凸面與上述電路基板之間的上述空隙為上述密封空間的一部分。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1是圖2所示的顯示裝置的1-1線剖面圖。
[0026]圖2是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置的平面圖。
[0027]圖3是圖2所示的密封件的角部的放大圖。
[0028]圖4是表示圖3所示的密封件的變形例的圖。
[0029]圖5是表示圖4所示的密封件的變形例的圖。
[0030]圖6是表示圖3所示的密封件的其它變形例的圖。
[0031]圖7是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的顯示裝置的剖面圖。
[0032]圖8是圖7所示的密封件的角部及金屬層的平面圖。
[0033]圖9是表示圖8所示的金屬層的變形例的圖。
[0034]圖10是表不圖8所不的金屬層的其它變形例的圖。[0035]圖11是表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的顯示裝置的剖面圖。
[0036]圖12是表示圖11所示的密封件的角部及凸面的平面圖。
[0037]圖13是表示圖12所示的凸面的變形例的圖。
[0038]圖14是表示圖12所示的凸面的其它變形例的圖。
[0039]附圖標(biāo)記的說(shuō)明
[0040]10電路基板、12第一基板、14電路層、16光控制元件、18下部電極、20反射層、22堤岸層、24有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層、26上部電極、28密封膜、30對(duì)置基板、32第二基板、34黑矩陣層、36濾色片層、38密封件、38A密封件、38B密封件、38C密封件、40密封空間、42填充劑、44拐角面、46凸面、46A凸面、46C凸面、48氣泡、50A凹面、52凸部、52C凸部、210電路基板、214電路層、224有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層、230對(duì)置基板、238密封件、240密封空間、240A密封空間、240B密封空間、242填充劑、244拐角面、246凸面、254金屬層、254A金屬層、254B金屬層、256最上層、310電路基板、330對(duì)置基板、336濾色片層、338密封件、338A密封件、338B密封件、340密封空間、344拐角面、346凸面、346A凸面、346B凸面、358間隔物、LlA線、LlB線、L2線、L3線。
【具體實(shí)施方式】
[0041]下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。
[0042][第一實(shí)施方式]
[0043]圖1是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置的剖面圖。在本實(shí)施方式中，顯示裝置是有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光顯示裝置，但也可以是液晶顯示裝置等其它顯示裝置。顯示裝置可以用于電視接收機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)用監(jiān)視器、筆記本式個(gè)人計(jì)算機(jī)、PDA (Personal DigitalAssistant，掌上電腦)、攜帶電話、數(shù)碼相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)，汽車導(dǎo)航用監(jiān)視器等。
[0044]顯示裝置具有電路基板10。電路基板10由多個(gè)層構(gòu)成。多個(gè)層中的I層是由玻璃等構(gòu)成的第一基板12。在第一基板12上形成有包含未圖示的薄膜晶體管等電路的電路層14。利用多個(gè)層中的至少I層構(gòu)成光控制元件16。
[0045]在本實(shí)施方式中，光控制元件16是有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光元件。以與未圖示的薄膜晶體管的源電極(或漏電極)連接的方式形成有下部電極18 (例如成為像素電極的陽(yáng)極)。在下部電極18下具有反射光的反射層20。以使下部電極18的一部分露出的方式形成有由絕緣體構(gòu)成的堤岸(bank)層22。以在堤岸層22的開(kāi)口與下部電極18接觸的方式形成有有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層24。有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層24至少包含發(fā)光層，例如，已知有從下部電極18開(kāi)始依次層疊空穴注入層、空穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層的結(jié)構(gòu)。在有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層24上形成有上部電極26 (例如成為共用電極的陰極)。上部電極26由密封膜(密封膜)28覆蓋。密封膜28由例如無(wú)機(jī)材料(例如SiN、SiO、SiON)等形成。另外，密封膜28也可以使無(wú)機(jī)材料和有機(jī)材料層疊而形成。圖1的顯示裝置中，從電路基板10射出的光為單色。因此，有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層24在圖像顯示區(qū)域形成為連續(xù)的膜。
[0046]顯不裝直具有對(duì)直基板30。對(duì)直基板30與電路基板10空出間隔，且與電路基板10的設(shè)置有光控制元件16的面相對(duì)。在本實(shí)施例中，對(duì)置基板30由多個(gè)層構(gòu)成。多個(gè)層中的I層是由玻璃等構(gòu)成的第二基板32。在第二基板32上形成有黑矩陣層34。在第二基板32上還形成有濾色片層36。濾色片層36的一部分載置于黑矩陣層34上。因?yàn)槭褂昧藶V色片層36，所以在本實(shí)施例中有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層24發(fā)出白色的光。
[0047]圖2是表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置的平面圖。另外，圖1是圖2所示的顯示裝置的1-1線剖面圖。在電路基板10與對(duì)置基板30之間，以包圍光控制元件16的方式設(shè)置有密封件38。利用密封件38將空間密封。詳細(xì)而言，密封空間40是至少由電路基板10、對(duì)置基板30和由密封件38構(gòu)成的密封面圍成的空間。在密封空間40中填充有填充劑42。填充劑42由例如透明樹(shù)脂等構(gòu)成。
[0048]圖3是圖2所示的密封件38的角部的放大圖。凸面46由自密封件38的內(nèi)表面形成，形成從密封件38的一部分向密封空間40 —側(cè)突出的突出部的面構(gòu)成。密封件38包含凸面46在內(nèi)整體連續(xù)地形成為一體。密封件38的內(nèi)表面與外表面之間的寬度W在形成凸面46的部位變寬。
[0049]密封面包含內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面44。內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面44由密封件38的內(nèi)表面形成。密封面包含凸面46。凸面46從電路基板10、對(duì)置基板30和密封件38中的至少一個(gè)(本實(shí)施方式中，只有密封件38)起，以與拐角面44鄰接的方式形成。如圖1所示，凸面46以從電路基板10到對(duì)置基板30的高度，從拐角面44向密封空間40的內(nèi)部方向突出。密封空間40在拐角面44的內(nèi)側(cè)被凸面46分成多個(gè)區(qū)劃區(qū)域。填充劑42在多個(gè)區(qū)劃區(qū)域的各區(qū)劃區(qū)域可以有氣泡48。
[0050]根據(jù)本實(shí)施方式，氣泡48由于具有在與密封面接觸的狀態(tài)下穩(wěn)定的性質(zhì)，因此集中于拐角面44的內(nèi)側(cè)。在拐角面44的內(nèi)側(cè)，由凸面46形成多個(gè)區(qū)劃區(qū)域，因此，氣泡48被分散在各個(gè)區(qū)劃區(qū)域中。由此，在產(chǎn)生了氣泡48的情況，能夠減小氣泡48，從而能夠減小氣泡48對(duì)圖像顯示造成的影響。另外，通過(guò)在密封后使填充劑42固化，能夠防止氣泡48的移動(dòng)。
[0051]圖4是表示圖3所示的密封件38的變形例的圖。在該例子中，密封件38A在外表面與形成于內(nèi)表面的凸面46A對(duì)應(yīng)地具有凹面50A。密封件38A沿著以起點(diǎn)與終點(diǎn)一致且不中斷并且不兩次以上通過(guò)相同線的方式描繪的線LlA延伸。沿著密封件38A延伸的線LlA以鈍角彎曲。
[0052]圖5是表示圖4所示的密封件38的變形例的圖。該實(shí)施例中，在密封件38B所沿著延伸的線LlB彎曲成直角方面，與圖4所示的實(shí)施例不同。
[0053]圖6是表示圖3所示的密封件35的其它變形例的圖。在圖3所示的實(shí)施例中，凸面46成為由四棱柱的三個(gè)側(cè)面構(gòu)成的形狀，但在圖6所示的實(shí)施例中，凸面46C成為由圓柱的側(cè)面的一部分構(gòu)成的凸曲面。另外，在圖3所示的實(shí)施例中，密封件38的外表面在與凸面46相反的外表面，具有由三棱柱的兩個(gè)側(cè)面構(gòu)成的凸部52，但在圖6所示的實(shí)施例中，密封件38C的外表面在與凸面46C相反的外表面，具有由圓柱的側(cè)面的一部分構(gòu)成的凸部52C。
[0054][第二實(shí)施方式]
[0055]圖7是表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的顯示裝置的剖面圖。在該例中，不使用圖1所示的濾色片層36，而在該部分填充有填充劑242。多個(gè)有機(jī)場(chǎng)致發(fā)光層224分別發(fā)出多種顏色(例如，紅、綠及藍(lán))的光。
[0056]電路基板210具有金屬層254。金屬層254例如為配線。金屬層254以通過(guò)與密封件238重疊的位置的方式配置。電路層214的最上層256可以由與圖1所示的密封膜28相同的材料形成，且覆蓋金屬層254。電路基板210的表面根據(jù)層疊的層不同而形成為凹凸?fàn)睢Ｗ钌蠈?56以從不存在金屬層254的區(qū)域放置到金屬層254上的方式配置，由此，在最上層256的表面形成臺(tái)階256a。由以構(gòu)成臺(tái)階256a的方式立起的最上層256的表面形成凸面246。凸面246與電路基板210的表面的相對(duì)低的面鄰接形成。凸面246位于與對(duì)置基板230空出空隙的位置。凸面246與對(duì)置基板230之間的空隙為密封空間240的一部分。其它詳情與第一實(shí)施方式中說(shuō)明的內(nèi)容相當(dāng)。
[0057]圖8是圖7所示的密封件238的角部和金屬層254的平面圖。在密封件238的內(nèi)表面，內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面244為凹曲面，在外表面，拐角面244的相反側(cè)的部分為凸曲面。密封件238沿著以起點(diǎn)與終點(diǎn)一致且不中斷并且不兩次以上通過(guò)相同線的方式描繪的L2延伸。金屬層254包括:與密封件238重疊的部分；和從密封件238向密封空間240突出的部分(用于形成圖7所示的凸面246的部分)。金屬層254的向密封空間240突出的部分為如圖8所示描繪凸?fàn)钋€的平面形狀。
[0058]圖9是表不圖8所不的金屬層254的變形例的圖。在該實(shí)施例中，金屬層254A的向密封空間240A突出的部分為由夾著矩形的I個(gè)角的兩邊構(gòu)成的平面形狀。
[0059]圖10是表示圖8所示的金屬層254的其它變形例的圖。在該實(shí)施例中，金屬層254B的向密封空間240B突出的部分為由矩形的三個(gè)邊構(gòu)成的平面形狀。
[0060][第三實(shí)施方式]
[0061]圖11是表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的顯示裝置的剖面圖。在該例中，對(duì)置基板330包括避開(kāi)密封件338的拐角面344內(nèi)側(cè)的區(qū)域配置的濾色片層336。對(duì)置基板330具有設(shè)置于與濾色片層336重疊的位置的間隔物358。由間隔物358維持電路基板310與對(duì)置基板330的間隔。
[0062]凸面346形成于對(duì)置基板330上。構(gòu)成凸面346的突出部由設(shè)置于拐角面344的內(nèi)側(cè)區(qū)域且與間隔物358相同材料的層形成。間隔物358和用于形成凸面346的層可以同時(shí)形成。由與間隔物358相同材料的層形成的凸面346位于與電路基板310空出空隙的位置。凸面346與電路基板310之間的空隙為密封空間340的一部分。其它詳情與第一實(shí)施方式中說(shuō)明的內(nèi)容相當(dāng)。
[0063]圖12是表示圖11所示的密封件338的角部及凸面346的平面圖。密封件338在內(nèi)表面，內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面344為凹曲面，在外表面，拐角面344的相反側(cè)的部分為凸曲面。密封件338沿著以起點(diǎn)與終點(diǎn)一致且不中斷并且不兩次以上通過(guò)相同線的方式描繪的線L3延伸。用于形成凸面346的層與密封件338密接，從密封件338突出的前端面為凸?fàn)畹那?。凸?46的從密封件338突出的部分為描繪凸?fàn)钋€的平面形狀。
[0064]圖13是表示圖12所示的凸面346的變形例的圖。在該實(shí)施例中，用于形成凸面346A的層與密封件338A密接，從密封件338A突出的前端面由夾著棱柱側(cè)面的I個(gè)角部的兩個(gè)面構(gòu)成。凸面346A的從密封件338A突出的部分為由夾著矩形的I個(gè)角的兩個(gè)邊構(gòu)成的平面形狀。
[0065]圖14是表示圖12所示的凸面346的其它變形例的圖。在該實(shí)施例中，用于形成凸面346B的層與密封件338B密接，從密封件338B突出的前端面由棱柱側(cè)面中的3個(gè)側(cè)面構(gòu)成。凸面346B的從密封件338B突出的部分為由矩形的三個(gè)邊構(gòu)成的平面形狀。
[0066]本發(fā)明不限定于上述實(shí)施方式，可以進(jìn)行各種變形。例如，實(shí)施方式中說(shuō)明的結(jié)構(gòu)可以利用實(shí)質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)、起到相同的作用效果的結(jié)構(gòu)或可以實(shí)現(xiàn)相同目的的結(jié)構(gòu)置換。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示裝置，其特征在于，具有: 電路基板，其由包含光控制元件的多個(gè)層構(gòu)成； 對(duì)置基板，其空出間隔地與所述電路基板的設(shè)置有所述光控制元件的面相對(duì)； 密封件，其以包圍所述光控制元件的方式設(shè)置在所述電路基板與所述對(duì)置基板之間；和 填充劑，其填充于至少由所述電路基板、所述對(duì)置基板和由所述密封件構(gòu)成的密封面圍成的密封空間中， 所述密封面具有:由所述密封件的內(nèi)表面形成的內(nèi)轉(zhuǎn)角形狀的拐角面；和自所述電路基板、所述對(duì)置基板和所述密封件中的至少一個(gè)與所述拐角面鄰接而形成的凸面。
2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述凸面自所述密封件的內(nèi)表面形成，以從所述電路基板到所述對(duì)置基板的高度，從所述拐角面向所述密封空間的內(nèi)部方向突出， 所述密封件包括所述凸面在內(nèi)整體連續(xù)地形成為一體。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于， 所述密封件的所述內(nèi)表面與外表面之間的寬度在所述凸面變寬。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于， 所述密封件在外表面與形成于所述內(nèi)表面的所述凸面相對(duì)應(yīng)地具有凹面。
5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其特征在于， 所述密封件沿著以起點(diǎn)與終點(diǎn)一致且不中斷并且不兩次以上通過(guò)相同線的方式描繪的線延伸。
6.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述電路基板的表面根據(jù)層疊的層不同而形成為凹凸?fàn)睿? 所述凸面與所述電路基板的所述表面的相對(duì)低的面鄰接形成。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示裝置，其特征在于， 所述凸面位于與所述對(duì)置基板空出空隙的位置， 所述凸面與所述對(duì)置基板之間的所述空隙為所述密封空間的一部分。
8.如權(quán)利要求6或7所述的顯示裝置，其特征在于， 所述電路基板具有最上層和由所述最上層覆蓋的金屬層， 所述凸面形成于所述最上層的覆蓋所述金屬層的部分。
9.如權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其特征在于， 所述金屬層以通過(guò)與所述密封件重疊的位置的方式配置。
10.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述凸面形成于所述對(duì)置基板上。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于， 所述對(duì)置基板具有:避開(kāi)所述拐角面的內(nèi)側(cè)的區(qū)域配置的濾色片層；和設(shè)置于與所述濾色片層重疊的位置的間隔物， 所述凸面由在所述拐角面的內(nèi)側(cè)的所述區(qū)域設(shè)置的與所述間隔物相同材料的層形成。
12.如權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其特征在于， 由所述間隔物形成的所述凸面位于與所述電路基板空出空隙的位置，所述凸面與所述電路基板之間的所述空隙為所述密封空間的一部分。
【文檔編號(hào)】H01L27/32GK103839969SQ201310587447
【公開(kāi)日】2014年6月4日 申請(qǐng)日期:2013年11月20日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月20日
【發(fā)明者】佐藤敏浩, 永田徹也, 佐佐木亨 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日本顯示器