化學(xué)清洗裝置制造方法
【專利摘要】一種化學(xué)清洗裝置，包括：用于盛放化學(xué)清洗液的儲(chǔ)液箱；位于所述儲(chǔ)液箱頂部的主送管道，所述主送管道自所述儲(chǔ)液箱外部通入所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部，且所述主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部的若干分液管道，所述分液管道的一端與所述主送管道連通，所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸且高于化學(xué)清洗液的液面，所述分液管道與主送管道之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)側(cè)壁表面的引流裝置，所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，且所述分液管道到引流裝置之間的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。所述化學(xué)清洗裝置的清洗效果得到提高。
【專利說(shuō)明】化學(xué)清洗裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種化學(xué)清洗裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有的半導(dǎo)體制造工藝中，當(dāng)經(jīng)過(guò)刻蝕工藝之后，形成有半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的晶圓表面容易產(chǎn)生雜質(zhì)和聚合物殘留，而這些殘留的雜質(zhì)和聚合物容易對(duì)后續(xù)的處理工藝造成影響，例如沉積工藝。因此，為了排除這些雜質(zhì)或聚合物，需要在各工藝步驟之間進(jìn)行清洗工藝?；瘜W(xué)濕法清洗是目前較為常用的清洗晶圓表面的方法之一。
[0003]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的一種化學(xué)清洗裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，包括:
[0004]用于盛放化學(xué)清洗液的儲(chǔ)液箱100，所述儲(chǔ)液箱100內(nèi)盛放有清洗液110 ；
[0005]用于清洗晶圓的處理腔室101，所述處理腔室101內(nèi)具有待處理晶圓，所述晶圓表面形成有半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)；
[0006]位于所述儲(chǔ)液箱100頂部的輸液管道102，所述輸液管道102的另一端與處理腔室101的底部連接，用于將處理腔室101排出的清洗液110輸入儲(chǔ)液箱100內(nèi)；
[0007]位于所述儲(chǔ)液箱100底部的輸出管道103，所述輸出管道103的另一端與處理腔室101的頂部連接，用于將儲(chǔ)液箱100中的清洗液110輸送至處理腔室101，以對(duì)處理腔室101中的晶圓進(jìn)行化學(xué)清洗工藝；
[0008]與所述輸出管道103連接的過(guò)濾裝置104，用于去除清洗液110中的雜質(zhì)，使經(jīng)過(guò)過(guò)濾裝置的清洗液110能夠進(jìn)入處理腔室101繼續(xù)用于清洗晶圓；
[0009]與所述輸出管道103連接的加熱裝置105，用于使經(jīng)過(guò)過(guò)濾的清洗液110加熱至適合用于晶圓清洗的溫度。
[0010]然而，采用現(xiàn)有的化學(xué)清洗裝置進(jìn)行清洗之后，容易使形成于晶圓表面的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形貌不良。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]本發(fā)明解決的問(wèn)題是提供一種化學(xué)清洗裝置，提高化學(xué)清洗裝置的清洗效果。
[0012]為解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提供一種化學(xué)清洗裝置，包括:儲(chǔ)液箱，所述儲(chǔ)液箱用于盛放化學(xué)清洗液；位于所述儲(chǔ)液箱頂部的主送管道，用于將化學(xué)清洗液自儲(chǔ)液箱外部輸送至儲(chǔ)液箱內(nèi)部，所述主送管道自所述儲(chǔ)液箱外部通入所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部，且所述主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部的若干分液管道，所述分液管道的一端與所述主送管道連通，所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸且高于化學(xué)清洗液的液面，用于將主送管道內(nèi)的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道內(nèi)，并通過(guò)所述分液管道向儲(chǔ)液箱內(nèi)輸送化學(xué)清洗液，所述分液管道與主送管道之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)側(cè)壁表面的引流裝置，用于分散所述分液管道送出的化學(xué)清洗液，并使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱內(nèi)，所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，且所述分液管道到引流裝置之間的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)；位于所述儲(chǔ)液箱底部的輸出管道，用于將儲(chǔ)液箱中的化學(xué)清洗液輸送出所述儲(chǔ)液箱。
[0013]可選的，所述引流裝置包括:若干垂直設(shè)置于儲(chǔ)液箱側(cè)壁表面的引流層，若干引流層之間相互平行，所述引流層相對(duì)于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面傾斜，相鄰引流層之間構(gòu)成引流溝槽。
[0014]可選的，所述引流裝置還包括:位于至少一道引流溝槽內(nèi)的至少一個(gè)引流通道，所述引流通道的兩端分別與兩道引流溝槽相互貫通。
[0015]可選的，當(dāng)位于同一引流溝槽內(nèi)的引流通道數(shù)量大于1時(shí)，位于同一引流溝槽內(nèi)的引流通道之間的距離為5厘米?15厘米。
[0016]可選的，位于相鄰兩道弓|流溝槽內(nèi)的引流通道的位置相互交錯(cuò)。
[0017]可選的，所述引流通道的側(cè)壁與引流層連接，且所述引流通道的側(cè)壁垂直于儲(chǔ)液箱的側(cè)壁表面。
[0018]可選的，所述引流層表面具有若干凸部。
[0019]可選的，所述凸部的形狀為圓形、矩形、錐形中的一種或多種。
[0020]可選的，相鄰兩層引流層之間的距離為8厘米?12厘米。
[0021]可選的，所述引流裝置環(huán)繞所述儲(chǔ)液箱的內(nèi)側(cè)壁表面一周；所述引流裝置的底部等于或高于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面。
[0022]可選的，還包括:位于所述儲(chǔ)液箱的內(nèi)側(cè)壁表面的臺(tái)階裝置，所述臺(tái)階裝置的底部設(shè)置于所述儲(chǔ)液箱的底部，所述臺(tái)階裝置的頂部低于或等于所述引流裝置的底部，所述臺(tái)階裝置自儲(chǔ)液箱底部向頂部逐級(jí)遞減，所述臺(tái)階裝置的頂部高于或等于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面。
[0023]可選的，所述儲(chǔ)液箱為圓柱形，所述分液管道的數(shù)量為1?2 π r/L，其中，r為所述儲(chǔ)液箱的半徑，L為相鄰分液管道向引流裝置延伸一端之間的距離，且若干分液管道之間的夾角相等。
[0024]可選的，所述相鄰分液管道向引流裝置延伸一端之間的距離L為31.7厘米?34.9厘米。
[0025]可選的，所述分液管道到引流裝置的預(yù)設(shè)距離為4.8厘米?7.3厘米。
[0026]可選的，當(dāng)所述分液管道向引流裝置輸出化學(xué)清洗液的速率越快，所述分液管道朝向引流裝置的一端到化學(xué)清洗液的液面之間距離越小。
[0027]可選的，所述儲(chǔ)液箱包括內(nèi)壁和外壁，所述內(nèi)壁和外壁之間具有密閉空腔，所述空腔內(nèi)具有氮?dú)狻?br> [0028]可選的，所述輸出管道與過(guò)濾裝置連接，所述過(guò)濾裝置用于過(guò)濾去除化學(xué)清洗液中的雜質(zhì)。
[0029]可選的，還包括:處理腔室，所述輸出管道與所述處理腔室連接，使儲(chǔ)液箱中的化學(xué)清洗液通過(guò)輸出管道進(jìn)入處理腔室，以進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。
[0030]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的技術(shù)方案具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0031]所述若干分液管道與主送管道伸入儲(chǔ)液箱的一端連通，能夠?qū)⑼ㄟ^(guò)主送管道自儲(chǔ)液箱外部輸送如內(nèi)部的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道中；而所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸，且所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，因此自分液管道送出的化學(xué)清洗液能夠落入引流裝置內(nèi)，使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的分散和引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱底部，從而能夠避免因流入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的流速過(guò)大而形成大量泡沫的問(wèn)題，使得氧氣等雜質(zhì)難以混入所述化學(xué)清洗液內(nèi)部，使得化學(xué)清洗液純凈。而且，所述分液管道向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸的一端且高于化學(xué)清洗液的液面，能夠避免因所述分液管道浸潰在化學(xué)清洗液內(nèi)而造成的污染。因此，置于所述化學(xué)清洗裝置中的化學(xué)清洗液純凈、清洗效果好，經(jīng)過(guò)清洗的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形貌能夠保持良好。
[0032]進(jìn)一步，所述引流裝置包括:若干垂直設(shè)置于儲(chǔ)液箱側(cè)壁表面的引流層，若干引流層之間相互平行，所述引流層相對(duì)于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面傾斜，相鄰引流層之間構(gòu)成引流溝槽；位于至少一道引流溝槽內(nèi)的至少一個(gè)引流通道，所述引流通道的兩端分別與兩道引流溝槽相互貫通。所述引流溝槽和所述引流通道均用于使化學(xué)清洗液通過(guò)，因此，即使所述化學(xué)清洗液輸出所述分液管道時(shí)的速率較大，經(jīng)過(guò)引流裝置的分散和引導(dǎo)之后，所述流入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的流速會(huì)被減緩，從而使進(jìn)入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的流速穩(wěn)定，避免所述化學(xué)清洗液形成泡沫，繼而保證了所述儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液內(nèi)不具有氧氣等雜質(zhì)。
[0033]進(jìn)一步，所述引流層表面具有若干凸部，所述凸部能夠在引導(dǎo)和分散化學(xué)清洗液的同時(shí)，過(guò)濾去除所述化學(xué)清洗液中的固體雜質(zhì)，使得流入所述儲(chǔ)液箱底部的化學(xué)清洗液更為純凈，清洗效果更佳。
[0034]進(jìn)一步，所述分液管道與主送管道之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)，而所述主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度也可調(diào)，從而針對(duì)分液管道輸出化學(xué)清洗液的不同流速，能夠通過(guò)調(diào)節(jié)所述分液管道與主送管道之間的夾角、以及主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度，減少所述化學(xué)清洗液進(jìn)入儲(chǔ)液箱內(nèi)所產(chǎn)生的泡沫；具體的，使所述分液管道向引流裝置輸出化學(xué)清洗液的速率越快時(shí)，所述分液管道朝向引流裝置的一端到化學(xué)清洗液的液面之間距離越小，能夠抑制進(jìn)入儲(chǔ)液箱底部的化學(xué)清洗液產(chǎn)生泡沫。因此，無(wú)論所述化學(xué)清洗液的輸出速率如何變化，均不會(huì)使經(jīng)過(guò)引流裝置進(jìn)入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液產(chǎn)生泡沫或混入雜質(zhì)。
[0035]進(jìn)一步，位于所述儲(chǔ)液箱的內(nèi)側(cè)壁表面的臺(tái)階裝置，所述臺(tái)階裝置的底部設(shè)置于所述儲(chǔ)液箱的底部，所述臺(tái)階裝置的頂部低于或等于所述引流裝置的底部，且所述臺(tái)階裝置自儲(chǔ)液箱底部向頂部逐級(jí)遞減，則自引流裝置底部流出的化學(xué)清洗液流到所述臺(tái)階裝置的表面，使得所述化學(xué)清洗液得到進(jìn)一步的緩沖，能夠進(jìn)一步避免所述化學(xué)清洗液內(nèi)產(chǎn)生泡沫或混入雜質(zhì)。
[0036]進(jìn)一步，所述儲(chǔ)液箱包括內(nèi)壁和外壁，所述內(nèi)壁和外壁之間具有密閉空腔，所述空腔內(nèi)具有氮?dú)?，所述空腔?nèi)的氮?dú)饽軌蛱岣邇?chǔ)液箱內(nèi)的密封性能，避免儲(chǔ)液箱外部的空氣滲入所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部，進(jìn)一步避免了儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液內(nèi)混入氧氣，保證了化學(xué)清洗液的純凈，使得經(jīng)過(guò)清洗之后的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形貌良好。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0037]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的一種化學(xué)清洗裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0038]圖2是采用含有氧氣的清洗液對(duì)處理腔室內(nèi)的待處理晶圓進(jìn)行清洗時(shí)的示意圖；
[0039]圖3是一種化學(xué)清洗裝置的實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0040]圖4是本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)清洗裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0041]圖5是圖4中的引流裝置沿AA’方向剖面的局部結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0042]如【背景技術(shù)】所述，采用現(xiàn)有的化學(xué)清洗裝置進(jìn)行清洗之后，容易使形成于晶圓表面的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形貌不良。
[0043]經(jīng)過(guò)研究發(fā)現(xiàn)，由于現(xiàn)有的化學(xué)清洗裝置中，儲(chǔ)液箱的密封性較差，容易使儲(chǔ)液箱中的清洗液中混入雜質(zhì)，例如氧氣，造成清洗液的清洗能力下降，并使清洗后的晶圓和半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)表面形貌不良。
[0044]具體的，請(qǐng)繼續(xù)參考圖1，當(dāng)圖1所述的化學(xué)清洗裝置用于清洗刻蝕金屬(例如銅)之后的殘留物，則所采用的化學(xué)清洗工藝為ΝΑΝΟ (高速氮?dú)夂退?清洗制程，清洗液至少由高速通入的氮?dú)夂退旌隙桑咚偻ㄈ氲牡獨(dú)庠谒心軌蛐纬搔?+離子，所述ΝΗ4+離子能夠去除刻蝕金屬之后產(chǎn)生的雜質(zhì)。由于清洗液中至少由氮?dú)夂退纬?，因此，除了輸液管?02與所述儲(chǔ)液箱100的頂部連接之外，至少還需要自所述儲(chǔ)液箱外部通過(guò)輸氣管道106輸送氮?dú)庵了鰞?chǔ)液箱100內(nèi)的清洗液110內(nèi)，以補(bǔ)足清洗液110內(nèi)因經(jīng)過(guò)清洗而流失的ΝΗ4+離子。
[0045]然而，與所述儲(chǔ)液箱100連通的這些用于輸入氣體或液體的管道(輸氣管道106和輸液管道102)容易降低所述儲(chǔ)液箱100的密封性能，從而使空氣中的氧氣混入所述儲(chǔ)液箱100內(nèi)部。而且，為了提高儲(chǔ)液箱100和處理腔室101之間的清洗液110的循環(huán)速率，自輸液管道102向儲(chǔ)液箱100內(nèi)排放清洗液110的流速較大，容易導(dǎo)致自輸液管道102排放到儲(chǔ)液箱100內(nèi)的清洗液110產(chǎn)生大量的泡沫，所述泡沫會(huì)攜帶儲(chǔ)液箱100內(nèi)的氧氣進(jìn)入清洗液110內(nèi)部，并使得氧氣溶解于清洗液110內(nèi)。當(dāng)所述含有氧氣的清洗液110進(jìn)入處理腔室101并對(duì)待處理晶圓進(jìn)行清洗時(shí)，容易造成待處理晶圓表面的形貌質(zhì)量下降。
[0046]具體請(qǐng)參考圖2，圖2是以含有氧氣的清洗液110對(duì)處理腔室101內(nèi)的待處理晶圓120進(jìn)行清洗時(shí)的示意圖。所述待處理晶圓120表面具有經(jīng)過(guò)光刻工藝和刻蝕工藝的金屬互連結(jié)構(gòu)121，所述金屬互連結(jié)構(gòu)121的材料為銅；由于在光刻工藝中，容易造成同一待處理晶圓120表面的不同位置具有電勢(shì)差，因此，在所述待處理晶圓120表面具有第一區(qū)域I和第二區(qū)域II，所述第一區(qū)域I的電勢(shì)高于第二區(qū)域II的電勢(shì)。當(dāng)所述清洗液110中帶有氧氣時(shí)，氧氣會(huì)使金屬互連結(jié)構(gòu)121表面的銅氧化為銅離子；由于第一區(qū)域I的電勢(shì)高于第二區(qū)域II的電勢(shì)，所述銅離子容易受到電場(chǎng)力的作用而向第二區(qū)域II遷移，并在第二區(qū)域II還原為銅而沉積在金屬互連結(jié)構(gòu)121表面，從而造成第二區(qū)域II的金屬互連結(jié)構(gòu)121表面高于第一區(qū)域I的金屬互連結(jié)構(gòu)121表面。因此，經(jīng)過(guò)所述含有氧氣的清洗液110的清洗，形成于待處理晶圓120表面的金屬互連結(jié)構(gòu)121表面形貌的質(zhì)量下降，不利于所形成的芯片或半導(dǎo)體器件的性能穩(wěn)定。
[0047]為了解決自輸液管道向儲(chǔ)液箱內(nèi)排放清洗液時(shí)產(chǎn)生大量的泡沫問(wèn)題，如圖3所示的一種化學(xué)清洗裝置被提出，即將輸液管道102a通入儲(chǔ)液箱100內(nèi)部，且所述輸液管道102a伸入清洗液110底部；其中，所述伸入儲(chǔ)液箱100內(nèi)部的輸液管道102a側(cè)壁表面具有若干通孔130，所述通孔130能夠使輸液管道102內(nèi)的清洗液110輸出。所述輸液管道102a能夠減少在清洗液110內(nèi)形成大量氣泡沫；然而，由于所述輸液管道102a伸入清洗液110底部，容易造成儲(chǔ)液箱100內(nèi)的清洗液110表面和底部的化學(xué)濃度不一致，不利于對(duì)輸出儲(chǔ)液箱100的清洗液110濃度的控制；而且，清洗液110底部的濃度較高，容易使清洗液中的化學(xué)物質(zhì)在儲(chǔ)液箱100底部沉積；此外，由于所述輸液管道102a長(zhǎng)時(shí)間浸潰于清洗液110內(nèi)，容易造成所述輸液管102a道的腐蝕，從而增加了處于儲(chǔ)液箱100內(nèi)的清洗液110的雜質(zhì)，不利于對(duì)待處理晶圓的清洗。
[0048]為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明提出了一種化學(xué)清洗裝置，包括:用于盛放化學(xué)清洗液的儲(chǔ)液箱；位于所述儲(chǔ)液箱頂部的主送管道，所述主送管道自所述儲(chǔ)液箱外部通入所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部，且所述主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部的若干分液管道，所述分液管道的一端與所述主送管道連通，所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸，用于將主送管道內(nèi)的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道內(nèi)，所述分液管道與主送管道之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)；位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)側(cè)壁表面的引流裝置，用于分散所述分液管道送出的化學(xué)清洗液，并使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱內(nèi)。
[0049]其中，所述若干分液管道與主送管道伸入儲(chǔ)液箱的一端連通，能夠?qū)⑼ㄟ^(guò)主送管道自儲(chǔ)液箱外部輸送如內(nèi)部的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道中；而所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸，且所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，因此自分液管道送出的化學(xué)清洗液能夠落入引流裝置內(nèi)，使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的分散和引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱底部，從而能夠避免因流入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的流速過(guò)大而形成大量泡沫的問(wèn)題，使得氧氣等雜質(zhì)難以混入所述化學(xué)清洗液內(nèi)部，使得化學(xué)清洗液純凈。而且，所述分液管道向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸的一端且高于化學(xué)清洗液的液面，能夠避免因所述分液管道浸潰在化學(xué)清洗液內(nèi)而造成的污染。因此，置于所述化學(xué)清洗裝置中的化學(xué)清洗液純凈、清洗效果好，經(jīng)過(guò)清洗的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形貌能夠保持良好。
[0050]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施例做詳細(xì)的說(shuō)明。
[0051]圖4至圖5是本發(fā)明實(shí)施例的化學(xué)清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0052]請(qǐng)參考圖4，所述化學(xué)清洗裝置包括:
[0053]儲(chǔ)液箱200，所述儲(chǔ)液箱200用于盛放化學(xué)清洗液201 ；
[0054]位于所述儲(chǔ)液箱200頂部的主送管道202，用于將化學(xué)清洗液自儲(chǔ)液箱200外部輸送至儲(chǔ)液箱200內(nèi)部，所述主送管道202自所述儲(chǔ)液箱200外部通入所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)部，且所述主送管道202伸入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的長(zhǎng)度可調(diào)；
[0055]位于所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)部的若干分液管道203，所述分液管道203的一端與所述主送管道202連通，所述分液管道203的另一端向儲(chǔ)液箱200的側(cè)壁方向延伸且高于化學(xué)清洗液201的液面，用于將主送管道200內(nèi)的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道203內(nèi)，并通過(guò)所述分液管道203向儲(chǔ)液箱200內(nèi)輸送化學(xué)清洗液201，所述分液管道203與主送管道202之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)；
[0056]位于所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)側(cè)壁表面的引流裝置204，用于分散所述分液管道203送出的化學(xué)清洗液，并使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置204的引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱200內(nèi)，所述分液管道203朝向儲(chǔ)液箱200側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置204覆蓋的范圍內(nèi)，且所述分液管道203到引流裝置204之間具有預(yù)設(shè)距離；
[0057]位于所述儲(chǔ)液箱200底部的輸出管道205，用于將儲(chǔ)液箱200中的化學(xué)清洗液201輸送出所述儲(chǔ)液箱200。
[0058]需要說(shuō)明的是，在本實(shí)施例中，所述化學(xué)清洗裝置中還包括處理腔室(未示出)，所述處理腔室用于放置待處理晶圓，所述待處理晶圓需要進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。在本實(shí)施例中，所述待處理晶圓表面形成有金屬互連結(jié)構(gòu)，所述金屬互連結(jié)構(gòu)通過(guò)刻蝕工藝形成；由于現(xiàn)有針對(duì)金屬的刻蝕工藝容易在待處理晶圓和金屬互連結(jié)構(gòu)表面產(chǎn)生副產(chǎn)物或聚合物，因此需要在刻蝕工藝之后，對(duì)所述金屬互連結(jié)構(gòu)進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。本實(shí)施例中的金屬互連結(jié)構(gòu)材料為銅，用于化學(xué)清洗工藝的化學(xué)清洗液201包括水、以及混合入水中的氮?dú)猓龅獨(dú)饽軌蛟谒行纬蒒H4+離子，所述NH4+離子能夠去除刻蝕銅之后所殘留的副產(chǎn)物或聚合物。
[0059]所述主送管道202與所述處理腔室連接，用于將處理腔室內(nèi)已經(jīng)過(guò)清洗的化學(xué)清洗液201輸送至所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)。其次，所述輸出管道205也與所述處理腔室連接，使儲(chǔ)液箱200中的化學(xué)清洗液201通過(guò)輸出管道205進(jìn)入處理腔室，由所述輸出管道205輸出的化學(xué)清洗液201用于對(duì)置于處理腔室內(nèi)的待處理晶圓進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。
[0060]所述輸出管道205中連接有至少一個(gè)過(guò)濾裝置207，所述過(guò)濾裝置207用于去除自儲(chǔ)液箱200中輸出的化學(xué)清洗液201中的雜質(zhì)、污染物、氧氣，經(jīng)過(guò)所述過(guò)濾裝置207過(guò)濾的化學(xué)清洗液201被輸入到處理裝置中進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。此外，所述輸出管道205中還連接有加熱裝置(未示出)，所述加熱裝置用于使輸送至處理裝置中的化學(xué)清洗液201的溫度達(dá)到適宜清洗的溫度。
[0061]所述儲(chǔ)液箱200用于盛放化學(xué)清洗液201。本實(shí)施例中，所述儲(chǔ)液箱200為圓柱形。儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201經(jīng)過(guò)過(guò)濾之后被輸送到處理腔室中以進(jìn)行清洗工藝，而所述處理腔室中經(jīng)過(guò)清洗的化學(xué)清洗液201被輸送回所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)，使得儲(chǔ)液箱200和處理腔室之間的化學(xué)清洗液201構(gòu)成循環(huán)。
[0062]本實(shí)施例中，所述化學(xué)清洗裝置還包括輸氣管道(未示出)，所述輸氣管道自所述儲(chǔ)液箱200外部通過(guò)所述儲(chǔ)液箱200的頂部進(jìn)入所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)部，并通入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液201的液面以下；所述輸氣管道用于向儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201內(nèi)通入氮?dú)?，所述氮?dú)饽軌蚺c化學(xué)清洗液中的水生產(chǎn)NH4+離子，從而補(bǔ)充在處理腔室被消耗的NH4+離子。
[0063]雖然所述儲(chǔ)液箱200為封閉結(jié)構(gòu)，然而由于所述主送管道202和輸氣管道均需要從所述儲(chǔ)液箱200外部通入內(nèi)部，因此所述儲(chǔ)液箱200難以完全密封，容易使空氣滲入所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)部，使儲(chǔ)液箱200內(nèi)具有氧氣；而一旦所述氧氣混入所述化學(xué)清洗液201中后，所述化學(xué)清洗液201容易對(duì)待處理晶圓表面的金屬互連結(jié)構(gòu)的形貌造成損害。因此，本實(shí)施例中的化學(xué)清洗裝置能夠避免氧氣混入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201內(nèi)，保證了經(jīng)過(guò)清洗的待處理晶圓表面形貌良好，且化學(xué)清洗液201的清洗能力良好。
[0064]本實(shí)施例中，所述儲(chǔ)液箱200包括內(nèi)壁200a和外壁200b，所述內(nèi)壁200a和外壁200b之間具有密閉空腔200c，所述空腔200c內(nèi)具有氮?dú)猓皇顾隹涨?00c內(nèi)的氮?dú)鈿鈮焊哂诖髿鈮?，則所述氮?dú)饽軌蛞种苾?chǔ)液箱200外部的空氣進(jìn)入儲(chǔ)液箱200內(nèi)，從而減少了儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201表面的氧氣含量，保證了化學(xué)清洗液201的純凈。
[0065]所述主送管道202伸入所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)部一端與若干分液管道203連通，使通過(guò)主送管道202進(jìn)入儲(chǔ)液箱200內(nèi)部的化學(xué)清洗液201分別進(jìn)入若干分液管道203中，并自所述分液管道203向儲(chǔ)液箱200側(cè)壁延伸的一端輸出至引流裝置內(nèi)204。本實(shí)施例中，所述分液管道203到引流裝置204的具有預(yù)設(shè)距離為4.8厘米?7.3厘米。由于所述分液管道203到引流裝置204之間的距離較小，因此所述化學(xué)清洗液201自分液管道輸送至引流裝置的過(guò)程中，難以激起泡沫，因此能夠避免泡沫將氧氣帶入化學(xué)清洗液201內(nèi)部，使所述化學(xué)清洗液201能夠保持純凈。此外，所述分液管道203向引流裝置204方向延伸的一端的端口平面與所述引流裝置表面相配合，使分液管道203輸出的化學(xué)清洗液201能夠進(jìn)入引流裝置204內(nèi)。
[0066]所述分液管道203的數(shù)量為1?2 π r/L，其中，r為所述儲(chǔ)液箱200的半徑，L為相鄰分液管道203向引流裝置204延伸一端之間的距離；較佳的，所述相鄰分液管道203向引流裝置204延伸一端之間的距離L為31.7厘米?34.9厘米，則相鄰分液管道203輸出的化學(xué)清洗液201不會(huì)相互影響而生成泡沫，同時(shí)又能盡可能保證輸出化學(xué)清洗液201的速率較大；因此，當(dāng)所述儲(chǔ)液箱200的半徑越大，所述分液管道203的數(shù)量越多。此外，若干分液管道203之間的夾角相等，若干分液管道203向儲(chǔ)液箱200側(cè)壁延伸的一端高度相同，即若干分液管道203均勻分布，使化學(xué)清洗液201能夠均勻輸送至引流裝置204內(nèi)。需要說(shuō)明的是，所述主送管道202伸入儲(chǔ)液箱200的一端密閉，僅與若干分液管道203連通，使化學(xué)清洗液201完全通過(guò)分液管道203輸出。
[0067]所述分液管道203與主送管道202之間具有夾角，且所述分液管道203與主送管道202之間可動(dòng)連接，使所述夾角大小可調(diào)。此外，所述主送管道201伸入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的長(zhǎng)度也可調(diào)。因此，所述分液管道203向引流裝置204延伸的一端高度能夠調(diào)整。需要說(shuō)明的是，無(wú)論所述分液管道203與主送管道202之間的夾角如何調(diào)整，均需要所述分液管道203向引流裝置204延伸的一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置204的范圍內(nèi)，以確?；瘜W(xué)清洗液201充分輸送至引流裝置204內(nèi)。而且，無(wú)論所述分液管道203與主送管道202如何調(diào)整，所述無(wú)論所述分液管道203與主送管道202均高于化學(xué)清洗液201的液面。
[0068]通過(guò)調(diào)節(jié)分液管道203與主送管道202之間的夾角、以及主送管道202伸入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的長(zhǎng)度，能夠調(diào)整分液管道203向引流裝置204延伸的一端與化學(xué)清洗液201的液面之間的距離，而且，所述距離根據(jù)化學(xué)清洗液201的流速而變化，以抑制化學(xué)清洗液201進(jìn)入儲(chǔ)液箱200后產(chǎn)生泡沫。具體的，當(dāng)所述分液管道203向引流裝置204輸出化學(xué)清洗液的速率越快，則使分液管道203朝向引流裝置204的一端到化學(xué)清洗液201的液面之間距離越小，因此，無(wú)論所述化學(xué)清洗液201的輸出速率如何變化，均不會(huì)使進(jìn)入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201產(chǎn)生泡沫。
[0069]在本實(shí)施例中，所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)還設(shè)置有臺(tái)階裝置206，所述臺(tái)階裝置206位于儲(chǔ)液箱200的內(nèi)側(cè)壁表面，所述臺(tái)階裝置206的底部位于所述儲(chǔ)液箱200的底部，所述臺(tái)階裝置206的頂部低于或等于所述引流裝置204的底部，而且，所述臺(tái)階裝置206自儲(chǔ)液箱200底部向頂部逐級(jí)遞減，所述臺(tái)階裝置206的頂部高于或等于儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201的液面。
[0070]化學(xué)清洗液201自分液管道203輸出之后進(jìn)入所述引流裝置204內(nèi)，并自引流裝置204的底部流到所述臺(tái)階裝置206的表面，使得進(jìn)入儲(chǔ)液箱200底部的化學(xué)清洗液201能夠得到進(jìn)一步的緩沖，從而進(jìn)一步避免在化學(xué)清洗液201內(nèi)產(chǎn)生泡沫，進(jìn)而保證了化學(xué)清洗液201的純凈。
[0071]需要說(shuō)明的是，所述引流裝置204和臺(tái)階裝置206的材料為不與化學(xué)清洗液201發(fā)生反應(yīng)的材料，所述引流裝置204和臺(tái)階裝置206的材料能夠與儲(chǔ)液箱200的材料一致；或者，所述引流裝置204或臺(tái)階裝置206采用聚合物材料，所述聚合物材料包括聚氯乙烯、聚丙烯、耐酸酚醛、聚四乙烯中的一種或多種組合，所述聚合物材料耐腐蝕，能夠使引流裝置204或臺(tái)階裝置206在化學(xué)清洗液201中保持化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定。
[0072]所述引流裝置204環(huán)繞所述儲(chǔ)液箱200的內(nèi)側(cè)壁表面一周，所述引流裝置204的底部等于或高于儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201的液面。所述引流裝置204能夠分散并緩沖自分液管道203輸出的化學(xué)清洗液201，以防止進(jìn)入儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201產(chǎn)生泡沫，進(jìn)而避免了所述泡沫將液面上方的氣體帶入化學(xué)清洗液201內(nèi)部，從而保證化學(xué)清洗液201的清洗能力。以下將結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明。
[0073]請(qǐng)參考圖5，圖5是圖4中的引流裝置沿AA’方向剖面的局部結(jié)構(gòu)示意圖。
[0074]所述引流裝置204包括:若干垂直設(shè)置于儲(chǔ)液箱200側(cè)壁表面的引流層204a，若干引流層204a之間相互平行，所述引流層204a相對(duì)于儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201的液面傾斜，相鄰引流層204a之間構(gòu)成引流溝槽204b。其中，相鄰兩層引流層204a之間的距離為8厘米?12厘米，即所述引流溝槽204b的寬度為8厘米?12厘米。在其他實(shí)施例中，所述引流層204a還能夠相對(duì)于儲(chǔ)液箱200側(cè)壁表面具有角度。
[0075]其次，所述引流裝置204中還包括:位于至少一道引流溝槽204b內(nèi)的至少一個(gè)引流通道204c，所述引流通道204c的兩端分別與兩道引流溝槽204b相互貫通。本實(shí)施例中，若干引流溝槽204b內(nèi)均具有若干引流通道204c。需要說(shuō)明的是，相鄰兩道引流溝槽204b內(nèi)的引流通道204c的位置交錯(cuò)，從而能夠使進(jìn)入引流裝置204內(nèi)的化學(xué)清洗液201通過(guò)的路徑更長(zhǎng)，則更有利于分散和緩沖所述化學(xué)清洗液201，避免所述化學(xué)清洗液201內(nèi)產(chǎn)生泡沫。
[0076]其中，當(dāng)位于同一引流溝槽204b內(nèi)的引流通道204c數(shù)量大于1時(shí)，位于同一引流溝槽204b內(nèi)的相鄰引流通道204c之間距離為5厘米?15厘米。需要說(shuō)明的是，當(dāng)所述儲(chǔ)液箱200的側(cè)壁周長(zhǎng)越長(zhǎng)、或所述引流溝槽204b的長(zhǎng)度越長(zhǎng)，則位于該引流溝槽204b內(nèi)的數(shù)量越多。
[0077]在本實(shí)施例中，所述引流通道204c的側(cè)壁與引流層204a連接，且所述引流通道204c的側(cè)壁垂直于儲(chǔ)液箱200的側(cè)壁表面，即所述引流溝槽204b和引流通道204c的開(kāi)口朝向分液管道203，使分液管道203輸出的化學(xué)清洗液201能夠進(jìn)入引流溝槽204b和引流通道204c內(nèi)。本實(shí)施例中，所述引流通道204c與化學(xué)清洗液201的液面方向垂直。在其他實(shí)施例中，所述引流通道204c還能夠相對(duì)于化學(xué)清洗液201的液面傾斜。
[0078]所述引流溝槽204b和所述引流通道204c均用于使化學(xué)清洗液201通過(guò)，自分液管道203輸出的化學(xué)清洗液201通過(guò)所述引流溝槽204b和所述引流通道204c分散和引導(dǎo)之后，流速會(huì)被減緩，使得流入儲(chǔ)液箱200底部的流速穩(wěn)定，從而有效地避免了在化學(xué)清洗液201內(nèi)形成泡沫，繼而保證了所述儲(chǔ)液箱200內(nèi)的化學(xué)清洗液201純凈，所述化學(xué)清洗液201的清洗能力良好，以所述化學(xué)清洗液201清洗待處理晶圓之后，所述待處理晶圓表面的形貌良好。
[0079]在本實(shí)施例中，所述引流層204a表面還具有若干凸部(未示出)，所述凸部均勻分布于各引流層204表面，所述凸部的形狀為圓形、矩形、錐形中的一種或多種。所述凸部能夠使化學(xué)清洗液201流過(guò)引流層204表面時(shí)，阻止所述化學(xué)清洗液201內(nèi)的固體雜質(zhì)通過(guò)，即所述凸部起到過(guò)濾作用，從而使使得流入所述儲(chǔ)液箱200底部的化學(xué)清洗液201更為純凈，清洗效果更佳。
[0080]本實(shí)施例的化學(xué)清洗裝置中，所述若干分液管道與主送管道伸入儲(chǔ)液箱的一端連通，能夠?qū)⑼ㄟ^(guò)主送管道自儲(chǔ)液箱外部輸送如內(nèi)部的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道中；而所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸，且所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，因此自分液管道送出的化學(xué)清洗液能夠落入引流裝置內(nèi)，使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的分散和引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱底部，從而能夠避免因流入儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的流速過(guò)大而形成大量泡沫的問(wèn)題，使得氧氣等雜質(zhì)難以混入所述化學(xué)清洗液內(nèi)部，使得化學(xué)清洗液純凈。而且，所述分液管道向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸的一端且高于化學(xué)清洗液的液面，能夠避免因所述分液管道浸潰在化學(xué)清洗液內(nèi)而造成的污染。因此，置于所述化學(xué)清洗裝置中的化學(xué)清洗液純凈、清洗效果好，經(jīng)過(guò)清洗的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)形貌能夠保持良好。
[0081 ] 雖然本發(fā)明披露如上，但本發(fā)明并非限定于此。任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動(dòng)與修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以權(quán)利要求所限定的范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種化學(xué)清洗裝置，其特征在于，包括: 儲(chǔ)液箱，所述儲(chǔ)液箱用于盛放化學(xué)清洗液； 位于所述儲(chǔ)液箱頂部的主送管道，用于將化學(xué)清洗液自儲(chǔ)液箱外部輸送至儲(chǔ)液箱內(nèi)部，所述主送管道自所述儲(chǔ)液箱外部通入所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部，且所述主送管道伸入儲(chǔ)液箱內(nèi)的長(zhǎng)度可調(diào)； 位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)部的若干分液管道，所述分液管道的一端與所述主送管道連通，所述分液管道的另一端向儲(chǔ)液箱的側(cè)壁方向延伸且高于化學(xué)清洗液的液面，用于將主送管道內(nèi)的化學(xué)清洗液分流至若干分液管道內(nèi)，并通過(guò)所述分液管道向儲(chǔ)液箱內(nèi)輸送化學(xué)清洗液，所述分液管道與主送管道之間具有夾角，且所述夾角大小可調(diào)； 位于所述儲(chǔ)液箱內(nèi)側(cè)壁表面的引流裝置，用于分散所述分液管道送出的化學(xué)清洗液，并使所述化學(xué)清洗液通過(guò)所述引流裝置的引導(dǎo)流入儲(chǔ)液箱內(nèi)，所述分液管道朝向儲(chǔ)液箱側(cè)壁一端的活動(dòng)范圍在所述引流裝置覆蓋的范圍內(nèi)，且所述分液管道到引流裝置具有預(yù)設(shè)距離； 位于所述儲(chǔ)液箱底部的輸出管道，用于將儲(chǔ)液箱中的化學(xué)清洗液輸送出所述儲(chǔ)液箱。
2.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述引流裝置包括:若干垂直設(shè)置于儲(chǔ)液箱側(cè)壁表面的引流層，若干引流層之間相互平行，所述引流層相對(duì)于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面傾斜，相鄰引流層之間構(gòu)成引流溝槽。
3.如權(quán)利要求2所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述引流裝置還包括:位于至少一道引流溝槽內(nèi)的至少一個(gè)引流通道，所述引流通道的兩端分別與兩道引流溝槽相互貫通。
4.如權(quán)利要求3所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，當(dāng)位于同一引流溝槽內(nèi)的引流通道數(shù)量大于I時(shí)，位于同一引流溝槽內(nèi)的引流通道之間的距離為5厘米?15厘米。
5.如權(quán)利要求3所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，位于相鄰兩道引流溝槽內(nèi)的引流通道的位置相互交錯(cuò)。
6.如權(quán)利要求3所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述引流通道的側(cè)壁與引流層連接，且所述引流通道的側(cè)壁垂直于儲(chǔ)液箱的側(cè)壁表面。
7.如權(quán)利要求2所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述引流層表面具有若干凸部。
8.如權(quán)利要求7所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述凸部的形狀為圓形、矩形、錐形中的一種或多種。
9.如權(quán)利要求2所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，相鄰兩層引流層之間的距離為8厘米?12厘米。
10.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述引流裝置環(huán)繞所述儲(chǔ)液箱的內(nèi)側(cè)壁表面一周；所述引流裝置的底部等于或高于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面。
11.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，還包括:位于所述儲(chǔ)液箱的內(nèi)側(cè)壁表面的臺(tái)階裝置，所述臺(tái)階裝置的底部設(shè)置于所述儲(chǔ)液箱的底部，所述臺(tái)階裝置的頂部低于或等于所述引流裝置的底部，所述臺(tái)階裝置自儲(chǔ)液箱底部向頂部逐級(jí)遞減，所述臺(tái)階裝置的頂部高于或等于儲(chǔ)液箱內(nèi)的化學(xué)清洗液的液面。
12.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)液箱為圓柱形，所述分液管道的數(shù)量為I?2 31 r/L,其中，r為所述儲(chǔ)液箱的半徑，L為相鄰分液管道向引流裝置延伸一端之間的距離，且若干分液管道之間的夾角相等。
13.如權(quán)利要求12所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述相鄰分液管道向引流裝置延伸一端之間的距離L為31.7厘米?34.9厘米。
14.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述分液管道到引流裝置的預(yù)設(shè)距離為4.8厘米?7.3厘米。
15.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，當(dāng)所述分液管道向引流裝置輸出化學(xué)清洗液的速率越快，所述分液管道朝向引流裝置的一端到化學(xué)清洗液的液面之間距離越小。
16.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述儲(chǔ)液箱包括內(nèi)壁和外壁，所述內(nèi)壁和外壁之間具有密閉空腔，所述空腔內(nèi)具有氮?dú)狻?br> 17.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，所述輸出管道與過(guò)濾裝置連接，所述過(guò)濾裝置用于過(guò)濾去除化學(xué)清洗液中的雜質(zhì)。
18.如權(quán)利要求1所述化學(xué)清洗裝置，其特征在于，還包括:處理腔室，所述輸出管道與所述處理腔室連接，使儲(chǔ)液箱中的化學(xué)清洗液通過(guò)輸出管道進(jìn)入處理腔室，以進(jìn)行化學(xué)清洗工藝。
【文檔編號(hào)】H01L21/67GK104425310SQ201310401334
【公開(kāi)日】2015年3月18日 申請(qǐng)日期:2013年9月5日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月5日
【發(fā)明者】徐俊 申請(qǐng)人:中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司