專利名稱：一種真空滅弧室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電力開(kāi)關(guān)，具體是指一種應(yīng)用在真空斷路器和真空負(fù)荷開(kāi)關(guān)等電力開(kāi)關(guān)中的真空滅弧室。
背景技術(shù)：
真空滅弧室是中、高壓電力開(kāi)關(guān)的核心部件，廣泛應(yīng)用于電力的輸配電控制系統(tǒng)中，其工作原理是，依靠密封在真空室中的觸頭來(lái)實(shí)現(xiàn)電力電路的通斷功能，并且一旦切斷電路電源，真空滅弧室就能迅速地熄弧并抑制電流，避免觸電或其他意外事故的發(fā)生。現(xiàn)有真空滅弧室的觸頭一般都包括有動(dòng)觸頭和靜觸頭，工作時(shí)，動(dòng)觸頭在導(dǎo)電桿的帶動(dòng)下與靜觸頭相接觸和相分離，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)合閘和分閘功能，由于在工作過(guò)程中，動(dòng)觸頭相對(duì)靜觸頭進(jìn)行移動(dòng)，因而動(dòng)觸頭的機(jī)械壽命較短，進(jìn)而降低真空滅弧室的工作穩(wěn)定性。此外，由于現(xiàn)有真空滅弧室的動(dòng)觸頭與靜處頭之間一般都形成單斷口結(jié)構(gòu)，因而造成真空滅弧室的開(kāi)斷電 壓相對(duì)較低且在同等電壓下產(chǎn)生的電弧較大，進(jìn)而影響到真空滅弧室的性能。另外，雖然在現(xiàn)有技術(shù)中也存在有一種雙斷口結(jié)構(gòu)的真空滅弧室，如專利號(hào)為ZL201020653072. 3 (授權(quán)公告號(hào)CN201886961U)的中國(guó)實(shí)用新型專利所公開(kāi)的一種《三相旋轉(zhuǎn)型雙斷口真空滅弧室》，它包括有一根絕緣軸，該絕緣軸的一端與外部動(dòng)力源相連，另一端伸進(jìn)三相盤(pán)式旋轉(zhuǎn)型雙斷口真空滅弧室與外緣帶有三個(gè)導(dǎo)體連桿的絕緣盤(pán)相連接，每個(gè)導(dǎo)體連桿的兩端設(shè)有動(dòng)觸頭，靜觸頭固定在滅弧室的內(nèi)周壁上，一個(gè)導(dǎo)體連桿端面上的兩個(gè)動(dòng)觸頭和固定在滅弧室的內(nèi)周壁上的兩個(gè)靜觸頭形成一相雙斷口結(jié)構(gòu)，三組動(dòng)、靜觸頭形成三相雙斷口結(jié)構(gòu)。雖然該雙斷口結(jié)構(gòu)的真空滅弧室能實(shí)現(xiàn)較高的開(kāi)斷電壓，但是，由于其絕緣軸從真空室內(nèi)向外穿出，且工作時(shí)通過(guò)旋轉(zhuǎn)絕緣軸來(lái)帶動(dòng)動(dòng)觸頭進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，因而不僅真空腔的真空度難以得到保證，而且也會(huì)縮短動(dòng)觸頭及真空滅弧室的機(jī)械壽命。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀，提供一種機(jī)械壽命較長(zhǎng)、開(kāi)斷電壓較高并且在同等電壓下產(chǎn)生電弧較小的真空滅弧室。本實(shí)用新型解決上述技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為該真空滅弧室，包括具有真空內(nèi)腔的絕緣外殼和多個(gè)觸頭組件，其特征在于所述的多個(gè)觸頭組件分別固定于所述絕緣外殼，多個(gè)觸頭組件包含有第一觸頭組件和第二觸頭組件，其中第一觸頭組件由位于所述絕緣外殼內(nèi)腔中的第一觸頭和一端與第一觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼端部的第一導(dǎo)電桿構(gòu)成，第二觸頭組件由位于所述絕緣外殼中的第二觸頭和一端與第二觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼側(cè)壁的第二導(dǎo)電桿構(gòu)成，同時(shí)在所述的絕緣外殼內(nèi)還設(shè)置有能同時(shí)與第一、第二觸頭相接觸或分離的連接頭，一能沿所述絕緣外殼軸向移動(dòng)的連桿一端與上述連接頭相絕緣連接，另一端穿過(guò)一密封件后外露于所述的絕緣外殼。作為真空滅弧室的三工位方案，所述的觸頭組件還包含有第三觸頭組件，該第三觸頭組件由位于所述絕緣外殼中的第三觸頭和一端與第三觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼側(cè)壁的第三導(dǎo)電桿構(gòu)成，在所述的連接頭與所述的第一觸頭相分離的狀態(tài)下，所述的第三觸頭通過(guò)所述的連接頭能與所述的第二觸頭相連接。這樣，通過(guò)設(shè)置第三觸頭組件后，真空滅弧室在實(shí)現(xiàn)合閘和隔離功能外，還能實(shí)現(xiàn)接地功能。所述的連接頭可以采用多種結(jié)構(gòu)形式，優(yōu)選地，所述的連接頭設(shè)計(jì)成工字形，該連接頭的上端面位于第一觸頭和第二觸頭之間，該連接頭的下端面位于第二觸頭和第三觸頭之間，中間部穿設(shè)在第二觸頭的通孔中。連接頭采用工字形結(jié)構(gòu)后，便于實(shí)現(xiàn)三工位操作。進(jìn)一步優(yōu)選,所述的連桿通過(guò)絕緣桿與所述的連接頭相固定，所述絕緣桿穿梭在第三觸頭的穿孔中。由于絕緣桿不帶電，因而將其設(shè)于真空腔內(nèi)，不僅可以減小真空滅弧室的爬電距離，而且還利于減小真空滅弧室的體積。作為雙工位方案，所述的連接頭可以采用多種結(jié)構(gòu)形式，優(yōu)選地，所述的連接頭設(shè)
計(jì)成工字形，該連接頭的上端面位于第一觸頭和第二觸頭之間，該連接頭的下端面位于第二觸頭的下方，中間部穿設(shè)在第二觸頭的通孔中。作為上述任一方案的優(yōu)選，所述的絕緣外殼包括殼體以及位于殼體兩端的上端蓋和下端蓋，所述的密封件為波紋管，所述的連桿另一端穿過(guò)所述波紋管后外露于所述下端蓋，所述的第一導(dǎo)電桿另一端外露并固定在所述上端蓋上。為了對(duì)連桿軸向移動(dòng)起到較好的導(dǎo)向作用，所述的下端蓋上還設(shè)有供所述連桿穿過(guò)的導(dǎo)套。為了使第一導(dǎo)電桿能較好地固定在上端蓋上，所述的上端蓋內(nèi)表面還固定有供所述第一導(dǎo)電桿穿過(guò)的輔助塊。為了對(duì)第二觸頭組件起到較好的支撐作用，所述的殼體包括上瓷套、下瓷套和連接在上、下瓷套之間且支撐所述第二觸頭組件的連接環(huán)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于首先，由于該真空滅弧室中第一觸頭組件的第一導(dǎo)電桿和和第二觸頭組件的第二導(dǎo)電桿均為靜導(dǎo)電桿，第一觸頭和第二觸頭均為靜觸頭，因而該兩觸頭組件的機(jī)械壽命較長(zhǎng)；其次，由于位于絕緣外殼內(nèi)的連接頭在連桿的驅(qū)動(dòng)下能同時(shí)與第一、第二觸頭相接觸或分離，因而真空滅弧室能形成雙斷口結(jié)構(gòu)，從而具有較高的開(kāi)斷電壓，并且在同等電壓下產(chǎn)生的電弧較小。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例在合閘狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例在分閘狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例在接地狀態(tài)時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖1至圖3中任一圖的俯視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。如圖1至圖4所示，本實(shí)施例中的真空滅弧室包括具有真空內(nèi)腔的絕緣外殼和固定于絕緣外殼的第一觸頭組件、第二觸頭組件及第三觸頭組件。其中，絕緣外殼包括殼體以及位于殼體兩端的上端蓋91和下端蓋92，而殼體又具體包括上瓷套93、下瓷套94和連接在上、下瓷套之間的連接環(huán)95，該連接環(huán)95用來(lái)支撐上述的第二觸頭組件。第一觸頭組件包括第一觸頭11和第一導(dǎo)電桿12，該第一觸頭11位于絕緣外殼內(nèi)，第一導(dǎo)電桿12的一端與該第一觸頭11相固定，另一端軸向外露并固定在絕緣外殼上端蓋91上，并且，為了使第一導(dǎo)電桿12能較好地固定于上端蓋91,在上端蓋91內(nèi)表面還固定有供第一導(dǎo)電桿12穿過(guò)的輔助塊10。第二觸頭組件包括第二觸頭21和第二導(dǎo)電桿22，該第二觸頭21位于絕緣外殼內(nèi)，第二導(dǎo)電桿22的一端與該第二觸頭21相固定，另一端側(cè)向外露并固定在絕緣外殼側(cè)壁的連接環(huán)95上。第三觸頭組件包括第三觸頭31和第三導(dǎo)電桿32，該第三觸頭31位于絕緣外殼內(nèi)，第三導(dǎo)電桿32的一端于該第三觸頭31相固定,另一端側(cè)向外露并固定在絕緣外殼的下端蓋92上。另外，雖然本實(shí)施例中的第一觸頭11與第一導(dǎo)電桿12、第二觸頭21與第二導(dǎo)電桿22以及第三觸頭31與第三導(dǎo)電桿32均為一體件。本實(shí)施例中，為了實(shí)現(xiàn)真空滅弧室的三工位操作，在絕緣外殼內(nèi)設(shè)置有能同時(shí)與第一觸頭11和第二觸頭21相接觸或分離的連接頭4。本實(shí)施例中的連接頭4呈工字形設(shè)計(jì)，該連接頭4的上端面位于第一觸頭11和第二觸頭21之間，該連接頭4的下端面位于第 二觸頭21和第三觸頭31之間，連接頭4的中間部穿設(shè)在第二觸頭21的通孔中。該連接頭4通過(guò)絕緣桿6與連桿5相固定，其中絕緣桿6穿梭在第三觸頭31的穿孔內(nèi)，由于絕緣桿6不帶電，因而在絕緣外殼內(nèi)設(shè)置絕緣桿6后，有利于減小真空滅弧室的爬電距離，同時(shí)也有利于縮小真空滅弧室的體積。連桿5的下端穿過(guò)波紋管7后露出于絕緣外殼的下端蓋92，并且，為了對(duì)連桿5的軸向移動(dòng)起到較好的導(dǎo)向作用，下端蓋92上還設(shè)有供連桿5穿過(guò)的導(dǎo)套8。該真空滅弧室的工作過(guò)程如下在合閘狀態(tài)下，第一觸頭11和第二觸頭21通過(guò)連接頭4相連接，此時(shí)，連接頭4與第三觸頭31相分離；從合閘狀態(tài)轉(zhuǎn)向分閘狀態(tài)的過(guò)程中，連桿5向下進(jìn)行軸向移動(dòng)，并進(jìn)而帶動(dòng)連接頭4向下移動(dòng)，并且在分閘狀態(tài)下，連接頭4同時(shí)與第一觸頭11、第二觸頭21及第三觸頭31相分離；從分閘狀態(tài)轉(zhuǎn)向接地狀態(tài)的過(guò)程中，連桿5進(jìn)一步向下進(jìn)行軸向移動(dòng)，并進(jìn)一步帶動(dòng)連接頭4向下移動(dòng)，并且在接地狀態(tài)下，第二觸頭21與第三觸頭31通過(guò)連接頭4相連接，此時(shí)，連接頭4與第一觸頭11相分離。盡管以上詳細(xì)地描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，但是應(yīng)該清楚地理解，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，除了上述三工位的真空滅弧室外，本實(shí)用新型也可以采用兩工位的真空弧滅弧室，即觸頭組件為第一觸頭組件和第二觸頭組件。也就是凡在真空滅弧室中通過(guò)單獨(dú)絕緣的能移動(dòng)的連桿實(shí)現(xiàn)三個(gè)或二個(gè)觸頭的分合，以及在該精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種真空滅弧室，包括具有真空內(nèi)腔的絕緣外殼和多個(gè)觸頭組件，其特征在于所述的多個(gè)觸頭組件分別固定于所述絕緣外殼，多個(gè)觸頭組件包含有第一觸頭組件和第二觸頭組件，其中第一觸頭組件由位于所述絕緣外殼內(nèi)腔中的第一觸頭(11)和一端與第一觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼端部的第一導(dǎo)電桿(12)構(gòu)成，第二觸頭組件由位于所述絕緣外殼中的第二觸頭(21)和一端與第二觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼側(cè)壁的第二導(dǎo)電桿(22)構(gòu)成，同時(shí)在所述的絕緣外殼內(nèi)還設(shè)置有能同時(shí)與第一、第二觸頭相接觸或分離的連接頭(4)，一能沿所述絕緣外殼軸向移動(dòng)的連桿(5) —端與上述連接頭(4)相絕緣連接，另一端穿過(guò)一密封件后外露于所述的絕緣外殼。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于所述的觸頭組件還包含有第三觸頭組件，該第三觸頭組件由位于所述絕緣外殼中的第三觸頭(31)和一端與第三觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼側(cè)壁的第三導(dǎo)電桿(32)構(gòu)成，在所述的連接頭(4)與所述的第一觸頭(11)相分離的狀態(tài)下，所述的第三觸頭(31)通過(guò)所述的連接頭(4)能與所述的第二觸頭(21)相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于所述的連接頭(4)設(shè)計(jì)成工字形，該連接頭(4)的上端面位于第一觸頭(11)和第二觸頭(21)之間，該連接頭(4)的下端面位于第二觸頭(21)和第三觸頭(31)之間，中間部穿設(shè)在第二觸頭(21)的通孔中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空滅弧室，其特征在于所述的連桿(5)通過(guò)絕緣桿(6)與所述的連接頭(4)相固定，所述絕緣桿￠)穿梭在第三觸頭(31)的穿孔中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室，其特征在于所述的連接頭(4)設(shè)計(jì)成工字形，該連接頭(4)的上端面位于第一觸頭(11)和第二觸頭(21)之間，該連接頭(4)的下端面位于第二觸頭(21)的下方，中間部穿設(shè)在第二觸頭(21)的通孔中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一權(quán)利要求所述的真空滅弧室，其特征在于所述的絕緣外殼包括殼體以及位于殼體兩端的上端蓋(91)和下端蓋(92)，所述的密封件為波紋管(7)，所述的連桿(5)另一端穿過(guò)所述波紋管后外露于所述下端蓋(92)，所述的第一導(dǎo)電桿(12)另一端外露并固定在所述上端蓋(91)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空滅弧室，其特征在于所述的下端蓋(92)上還設(shè)有供所述連桿(5)穿過(guò)的導(dǎo)套⑶。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空滅弧室，其特征在于所述的上端蓋(91)內(nèi)表面還固定有供所述第一導(dǎo)電桿(12)穿過(guò)的輔助塊(10)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空滅弧室，其特征在于所述的殼體包括上瓷套(93)、下瓷套(94)和連接在上、下瓷套之間且支撐所述第二觸頭組件的連接環(huán)(95)。
專利摘要一種真空滅弧室，包括具有真空內(nèi)腔的絕緣外殼、第一觸頭組件和第二觸頭組件，第一觸頭組件包括位于絕緣外殼內(nèi)腔中的第一觸頭和一端與第一觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼端部的第一導(dǎo)電桿構(gòu)成，第二觸頭組件由位于絕緣外殼中的第二觸頭和一端與第二觸頭相固定、另一端外露并固定于絕緣外殼側(cè)壁的第二導(dǎo)電桿構(gòu)成，沿絕緣外殼軸向移動(dòng)的連桿帶動(dòng)絕緣外殼內(nèi)的連接頭同時(shí)與第一、第二觸頭相接觸或分離，并且，還包括有第三觸頭組件以實(shí)現(xiàn)三工位操作。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過(guò)連接頭與第一、第二觸頭同時(shí)分離而形成雙斷口結(jié)構(gòu)，開(kāi)斷電壓較高且在同等電壓下產(chǎn)生的電弧較小，此外，第一、第二觸頭均為靜觸頭，兩觸頭組件的機(jī)械壽命較長(zhǎng)。
文檔編號(hào)H01H33/664GK202839451SQ20122050530
公開(kāi)日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月27日
發(fā)明者王永法 申請(qǐng)人:王永法