一種提高滅弧室開斷能力的觸頭組件及滅弧室的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種提高滅弧室開斷能力的觸頭組件及滅弧室，觸頭組件包括動觸頭和靜觸頭，動觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個動觸頭切槽將動觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，靜觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，一個所述動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述靜觸瓣和/或一個所述靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述動觸瓣，當動觸頭和靜觸頭在分閘時，在動觸頭和靜觸頭之間的電流線路擴大了一倍，即增加了斷口的數(shù)量，增加了其開斷電流的能力，并且，在電流線路擴大一倍后，其周圍的磁場也變得更加均勻，進一步地增加了其開斷能力。
【專利說明】
一種提高滅弧室開斷能力的觸頭組件及滅弧室
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種提高滅弧室開斷能力的觸頭組件及滅弧室。
【背景技術(shù)】
[0002]為了提高真空滅弧室開斷電流的能力，現(xiàn)有的真空滅弧室的觸頭的結(jié)構(gòu)形式主要有橫向磁場觸頭和縱向磁場觸頭兩大類。橫向磁場觸頭結(jié)構(gòu)的特點是觸頭間磁場與主回路電流方向垂直，橫向磁場觸頭利用電流流過觸頭時產(chǎn)生的橫向磁場驅(qū)使集聚型真空電弧在觸頭表面高速運動，從而防止觸頭表面局部嚴重熔化;縱向磁場觸頭結(jié)構(gòu)的特點是觸頭間磁場與主回路電流方向平行，縱向磁場觸頭利用觸頭產(chǎn)生縱向磁場，使得電弧處于擴散狀態(tài)，防止電弧集聚。
[0003]但是現(xiàn)有的真空滅弧室的觸頭大都采用杯狀結(jié)構(gòu)包括杯狀動觸頭和杯狀靜觸頭，在杯狀觸頭采用橫向磁場時即其為杯狀橫磁觸頭時，杯狀動觸頭的杯壁上沿其周向方向設(shè)置有至少兩個動觸頭斜槽，動觸頭斜槽將杯狀動觸頭分成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，斜槽具有朝向杯狀靜觸頭的動觸頭斜槽槽口，杯狀靜觸頭的杯壁上與動觸頭斜槽對應(yīng)設(shè)置有靜觸頭斜槽，靜觸頭斜槽將杯狀靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，靜觸頭斜槽的傾斜方向與動觸頭斜槽的傾斜方向相反，靜觸頭斜槽具有朝向杯狀動觸頭的靜觸頭斜槽槽口，在杯狀觸頭采用縱向磁場時即其為杯狀縱磁觸頭時，杯狀靜觸頭和杯狀動觸頭的結(jié)構(gòu)相同，動觸頭斜槽的傾斜方向與靜觸頭斜槽的傾斜方向相同。在對杯狀靜觸頭和杯狀動觸頭安裝時，不管杯狀觸頭為橫向磁場觸頭還是縱向磁場觸頭，始終是一個動觸瓣對應(yīng)導(dǎo)通一個靜觸瓣，一個靜觸瓣對應(yīng)導(dǎo)通一個動觸瓣，導(dǎo)致安裝后的觸頭間存在著周圍磁場分布不均勻、開斷能力低的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種提高滅弧室開斷能力的觸頭組件；同時本發(fā)明的目的還在于提供一種使用該觸頭組件的滅弧室。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的一種觸頭組件的技術(shù)方案是:一種觸頭組件，包括動觸頭和靜觸頭，動觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個動觸頭切槽將動觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，靜觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，一個所述動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述靜觸瓣和/或一個所述靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述動觸瓣。
[0006]所述動觸頭和靜觸頭均包括杯狀的觸頭體和設(shè)于觸頭體端部的觸頭片，動觸頭切槽包括設(shè)于動觸頭的觸頭體上的動觸頭斜槽部分和設(shè)于動觸頭的觸頭片上的動觸頭觸頭片槽部分，靜觸頭切槽包括設(shè)于靜觸頭的觸頭體上的靜觸頭斜槽部分和設(shè)于靜觸頭的觸頭片上的靜觸頭觸頭片槽部分。
[0007]所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部之間以使一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部之間以使一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。
[0008]所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部的正中部，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部的正中部。
[0009]本發(fā)明的一種滅弧室的技術(shù)方案是:一種滅弧室，包括觸頭組件，觸頭組件包括動觸頭和靜觸頭，動觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個動觸頭切槽將動觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，靜觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，一個所述動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述靜觸瓣和/或一個所述靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述動觸瓣。
[0010]所述動觸頭和靜觸頭均包括杯狀的觸頭體和設(shè)于觸頭體端部的觸頭片，動觸頭切槽包括設(shè)于動觸頭的觸頭體上的動觸頭斜槽部分和設(shè)于動觸頭的觸頭片上的動觸頭觸頭片槽部分，靜觸頭切槽包括設(shè)于靜觸頭的觸頭體上的靜觸頭斜槽部分和設(shè)于靜觸頭的觸頭片上的靜觸頭觸頭片槽部分。
[0011]所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部之間以使一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部之間以使一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。
[0012]所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部的正中部，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部的正中部。
[0013]本發(fā)明的有益效果是:一個動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個靜觸瓣和/或一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個動觸瓣，當動觸頭和靜觸頭在分閘時，在動觸頭和靜觸頭之間的電流線路擴大了一倍，即增加了斷口的數(shù)量，增加了其開斷電流的能力，并且，在電流線路擴大一倍后，其周圍的磁場也變得更加均勻，進一步地增加了其開斷能力。
【附圖說明】
[0014]圖1為本發(fā)明的一種真空滅弧室的實施例一中的觸頭組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明的一種真空滅弧室的實施例二中的觸頭組件的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施方式作進一步說明。
[0016]本發(fā)明的一種真空滅弧室的具體實施例，如圖1、圖2所示，包括觸頭組件，觸頭組件包括動觸頭2、靜觸頭1、供動觸頭2安裝的動導(dǎo)電桿4和供靜觸頭I安裝的靜導(dǎo)電桿3。
[0017]—種真空滅弧室的實施例一，如圖1所示，動觸頭2和靜觸頭I均為杯狀橫向磁場觸頭，動觸頭2上沿圓周方向均勻設(shè)置有4個動觸頭切槽將動觸頭2分割成4個動觸瓣，動觸頭2包括杯狀的動觸頭觸頭體和設(shè)于動觸頭觸頭體端部的環(huán)形的動觸頭觸頭片6，各動觸頭切槽均包括設(shè)于動觸頭觸頭體的杯壁上的動觸頭斜槽部分9和設(shè)于動觸頭觸頭片6上的動觸頭觸頭片槽部分10，動觸頭斜槽部分9的臨近靜觸頭2的端部與動觸頭觸頭片槽部分10相交形成動觸頭切槽槽口。靜觸頭I上沿圓周方向均勻設(shè)置有4個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成4個靜觸瓣，靜觸頭I包括杯狀的靜觸頭觸頭體和設(shè)于靜觸頭觸頭體端部的環(huán)形的靜觸頭觸頭片5，各靜觸頭切槽均包括設(shè)于靜觸頭觸頭體的杯壁上的靜觸頭斜槽部分7和設(shè)于靜觸頭觸頭片5上的靜觸頭觸頭片槽部分8，靜觸頭斜槽部分7的臨近動觸頭的端部與靜觸頭觸頭片槽部分8相交形成靜觸頭切槽槽口，靜觸頭斜槽部分7的傾斜方向與動觸頭斜槽部分8的傾斜方向相反。一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。動觸頭切槽的臨近靜觸頭I的端部位于靜觸頭2上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部的正中部，即動觸頭切槽槽口位于對應(yīng)相鄰的兩個靜觸頭切槽槽口的正中部。靜觸頭切槽的臨近動觸頭2的端部位于動觸頭2上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭I的端部的正中部，即靜觸頭切槽槽口位于對應(yīng)相鄰的兩個動觸頭切槽槽口的正中部。也就是說動觸頭2與靜觸頭I沿圓周方向上旋轉(zhuǎn)45度進行安裝，靜觸頭切槽槽口與動觸頭切槽槽口采用錯槽設(shè)置，真空滅弧室的開斷能力提高了 15%左右。槽口錯槽設(shè)置后，在動觸頭2和靜觸頭I分閘時，二者之間的電流線路如圖1所示，由靜觸頭I上的4路電流線路a變成了8路電流線路al加a2，再流至動觸頭2上，增加了動觸頭2與靜觸頭I之間的斷口數(shù)量，提高了觸頭組件之間的開斷能力，從而提高了真空滅弧室的開斷電流能力，而且，由于每一路電流線路自身均會產(chǎn)生一個橫向磁場，因此電流線路的增加使得整個磁場更加均勻，使動觸頭觸頭片和靜觸頭觸頭片之間產(chǎn)生的電弧進一步擴散，進一步提高了觸頭組件的開斷能力。在其他實施例中，觸頭片上也可以不設(shè)置觸頭片槽，此時動觸頭斜槽部分形成動觸頭切槽，動觸頭斜槽部分的臨近靜觸頭的端部形成動觸頭切槽槽口，靜觸頭斜槽部分形成靜觸頭切槽，靜觸頭斜槽部分的臨近動觸頭的端部形成靜觸頭斜槽槽口。
[0018]本發(fā)明的一種真空滅弧室的具體實施例二，如圖2所示，動觸頭和靜觸頭均為杯狀縱向磁場觸頭，動觸頭2上沿圓周方向均勻設(shè)置有6個動觸頭切槽將動觸頭分割成6個動觸瓣，動觸頭2包括杯狀的動觸頭觸頭體和設(shè)于動觸頭觸頭體端部的盤形的動觸頭觸頭片12，各動觸頭切槽均包括設(shè)于動觸頭觸頭體的杯壁上的動觸頭斜槽部分15和設(shè)于動觸頭觸頭片12上的動觸頭觸頭片槽部分16，動觸頭斜槽部分15的臨近靜觸頭I的端部與動觸頭觸頭片槽部分16相交形成動觸頭切槽槽口。靜觸頭I上沿圓周方向均勻設(shè)置有6個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成6個靜觸瓣，靜觸頭I包括杯狀的靜觸頭觸頭體和設(shè)于靜觸頭觸頭體端部的環(huán)形的靜觸頭觸頭片11，各靜觸頭切槽均包括設(shè)于靜觸頭觸頭體的杯壁上的靜觸頭斜槽部分13和設(shè)于靜觸頭觸頭片11上的靜觸頭觸頭片槽部分14，靜觸頭斜槽部分13的臨近動觸頭2的端部與靜觸頭觸頭片槽部分14相交形成靜觸頭切槽槽口，靜觸頭斜槽部分13的傾斜方向與動觸頭斜槽部分15的傾斜方向相同。一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。動觸頭切槽的臨近靜觸頭I的端部位于靜觸頭I上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭2的端部的正中部，即動觸頭切槽槽口位于對應(yīng)相鄰的兩個靜觸頭切槽槽口的正中部。靜觸頭切槽的臨近動觸頭2的端部位于動觸頭2上的相鄰兩個動觸頭切槽靠近靜觸頭I的端部的正中部，即靜觸頭切槽槽口位于對應(yīng)相鄰的動觸頭切槽槽口的正中部。也就是說動觸頭2與靜觸頭I沿圓周方向上旋轉(zhuǎn)30度進行安裝，靜觸頭切槽槽口與動觸頭切槽槽口采用錯槽設(shè)置，真空滅弧室的開斷能力提高了 10%左右。槽口錯槽設(shè)置后，在動觸頭2和靜觸頭I分閘時，二者之間的電流線路如圖2所示，由靜觸頭I上的6路電流線路b變成了 12路電流線路bl加b2，再流至動觸頭2上，增加了動觸頭2與靜觸頭I之間的斷口數(shù)量，提高了觸頭組件之間的開斷能力，從而提高了真空滅弧室的開斷電流能力，而且電流線路的增加使得整個磁場更加均勻，使動觸頭觸頭片和靜觸頭觸頭片之間產(chǎn)生的電弧進一步擴散，進一步提高了觸頭組件的開斷能力。動觸頭觸頭片槽部分16和靜觸頭觸頭片槽部分14的作用均是為了減弱和防止在相應(yīng)的觸頭片上產(chǎn)生渦流。
[0019]在本發(fā)明的其他實施例中，動觸頭切槽與靜觸頭切槽的數(shù)量可根據(jù)實際需要進行調(diào)整，但是此時動觸頭切槽與靜觸頭切槽數(shù)量相等，此時動觸頭與靜觸頭之間旋轉(zhuǎn)的角度為任意相鄰的兩個動觸頭切槽槽口與杯狀動觸頭的中心點的各自連線所成夾角的二分之一，例如動觸頭切槽和靜觸頭切槽的數(shù)量也可以為3個，此時靜觸頭和動觸頭之間旋轉(zhuǎn)的角度為60度;在實施例一和實施例二中，動觸瓣之間的間距和靜觸瓣之間的間距相等，當然在其他實施例中也可以不相等，動觸瓣也可以在圓周方向上橫跨三個及以上的靜觸瓣，此時電流方向為由動觸頭流向靜觸頭，當然在其他實施例中靜觸瓣也可以在圓周方向上橫跨三個及以上的動觸瓣，此時電流方向為由靜觸頭流向動觸頭;觸頭片與觸頭體也可以一體設(shè)置;動觸頭和靜觸頭也可以為線圈式觸頭結(jié)構(gòu)，而不采用杯狀觸頭結(jié)構(gòu)。
[0020]—種觸頭組件的實施例與上述一種真空滅弧室的各實施例中的觸頭組件的實施例相同，此處不再贅述。
【主權(quán)項】
1.一種觸頭組件，包括動觸頭和靜觸頭，動觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個動觸頭切槽將動觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，靜觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，其特征在于:一個所述動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述靜觸瓣和/或一個所述靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述動觸瓣。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種觸頭組件，其特征在于:所述動觸頭和靜觸頭均包括杯狀的觸頭體和設(shè)于觸頭體端部的觸頭片，動觸頭切槽包括設(shè)于動觸頭的觸頭體上的動觸頭斜槽部分和設(shè)于動觸頭的觸頭片上的動觸頭觸頭片槽部分，靜觸頭切槽包括設(shè)于靜觸頭的觸頭體上的靜觸頭斜槽部分和設(shè)于靜觸頭的觸頭片上的靜觸頭觸頭片槽部分。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種觸頭組件，其特征在于:所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部之間以使一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部之間以使一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種觸頭組件，其特征在于:所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部的正中部，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部的正中部。5.—種滅弧室，包括觸頭組件，觸頭組件包括動觸頭和靜觸頭，動觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個動觸頭切槽將動觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的動觸瓣，靜觸頭上沿其周向設(shè)有至少兩個靜觸頭切槽將靜觸頭分割成相應(yīng)數(shù)量的靜觸瓣，其特征在于:一個所述動觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述靜觸瓣和/或一個所述靜觸瓣在圓周方向上橫跨至少兩個所述動觸瓣。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種滅弧室，其特征在于:所述動觸頭和靜觸頭均包括杯狀的觸頭體和設(shè)于觸頭體端部的觸頭片，動觸頭切槽包括設(shè)于動觸頭的觸頭體上的動觸頭斜槽部分和設(shè)于動觸頭的觸頭片上的動觸頭觸頭片槽部分，靜觸頭切槽包括設(shè)于靜觸頭的觸頭體上的靜觸頭斜槽部分和設(shè)于靜觸頭的觸頭片上的靜觸頭觸頭片槽部分。7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的一種滅弧室，其特征在于:所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部之間以使一個動觸瓣在圓周方向上橫跨兩個靜觸瓣，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部之間以使一個靜觸瓣在圓周方向上橫跨兩個動觸瓣。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種滅弧室，其特征在于:所述動觸頭切槽的臨近靜觸頭的端部位于靜觸頭上的相鄰兩個靜觸頭切槽靠近動觸頭的端部的正中部，所述靜觸頭切槽的臨近動觸頭的端部位于動觸頭上的相鄰兩個動觸頭斜槽靠近靜觸頭的端部的正中部。
【文檔編號】H01H33/664GK105914096SQ201610507995
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2016年7月1日
【發(fā)明人】李敏, 李文藝, 王曉琴, 舒小平, 高楠
【申請人】天津平高智能電氣有限公司, 平高集團有限公司, 國家電網(wǎng)公司