專利名稱：太陽能硅片制造工藝用傳輸載板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及太陽能硅片制造工藝用的等離子設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板。
背景技術(shù)：
太陽能電池硅片在電池制造工藝中有一系列生產(chǎn)工序，其中有等離子干法刻蝕， 等離子成膜(PECVD)等。為了增加單位時(shí)間內(nèi)硅片的處理量，一般用大面積處理工藝來完成。也就是說，很多娃片(125x125mm或156x156mm)可以同時(shí)放置在一塊載板上。處理這種硅片的設(shè)備通常用平板式電極產(chǎn)生等離子體。載板可以靜態(tài)放置在其中的一個(gè)電極上， 直到工藝完成后再取出來(跳躍式)，載板也可以連續(xù)傳輸經(jīng)過離子源工藝區(qū)(鏈?zhǔn)?。為了獲得均勻處理的硅片(刻蝕或鍍膜)，通常需要均勻的氣體分布，它包括氣體均勻進(jìn)入(showering)和均勻抽出。氣體均勻的進(jìn)入可以設(shè)計(jì)在平行電極板的另一板上， 該電極板帶有均勻分布的小孔，氣體均勻進(jìn)入每一個(gè)小孔即可實(shí)現(xiàn)。氣體抽出通常是在載板的四周，因?yàn)闅怏w必須從中間走到邊緣，那么一定存在一個(gè)濃度梯度。隨著載板變大(一次處理硅片的能力增加)，這種濃度梯度就增加，處理硅片的均勻性就變差。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有的技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板，包括輸送載板和娃片，娃片陣列排放在輸送載板上，所述的輸送載板外周設(shè)有一圈輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，輸送載板表面設(shè)置有硅片放置槽陣列，所述的硅片放置槽陣列由橫向筋和縱向筋分隔而成，橫向筋或縱向筋上開有抽氣夾縫，每個(gè)硅片放置槽內(nèi)均設(shè)有4個(gè)氣壓平衡孔； 所述的輸送載板之間采用互補(bǔ)式連接。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，進(jìn)一步包括，所述的輸送載板之間的連接方式為前一塊輸送載板的下凸臺(tái)與后一塊輸送載板的上凸臺(tái)疊合。本發(fā)明的有益效果是，本發(fā)明通過夾縫，使氣體可以從硅片周圍抽出，不需要從載板邊緣抽出，這樣使得抽氣在每一塊硅片之間是均勻的，另外互補(bǔ)式連接保證了載板能夠均衡、平穩(wěn)地運(yùn)行。


下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。圖I是本發(fā)明硅片在輸送載板上的分布圖2是本發(fā)明輸送載板上表面硅片放置槽結(jié)構(gòu)圖3是本發(fā)明硅片抽空狹縫的結(jié)構(gòu)圖4是本發(fā)明的載板之間的互補(bǔ)連接結(jié)構(gòu)圖；圖中I、輸送載板，2、娃片,3、娃片放置槽陣列,4、娃片放置槽,5、抽氣夾縫,6、氣壓平衡孔，7、輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，9、橫向筋，10、縱向筋，11、下凸臺(tái)，12、上凸臺(tái)。
具體實(shí)施例方式如圖I、圖2、圖3所示，一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板，包括輸送載板I和娃片2,娃片2陣列排放在輸送載板I上，所述的輸送載板2外周設(shè)有一圈輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)7, 輸送載板I表面設(shè)置有硅片放置槽陣列3，所述的硅片放置槽陣列3由橫向筋9和縱向筋 10分隔而成，橫向筋9或縱向筋10上開有抽氣夾縫5,每個(gè)娃片放置槽4內(nèi)均設(shè)有4個(gè)氣壓平衡孔6 ;所述的輸送載板I之間采用互補(bǔ)式連接。所述的載板主體，采用鋁合金材料、 石墨材料，或陶瓷材料進(jìn)行精密機(jī)械加工，表面采取噴細(xì)砂和深度鈍化處理。放置的硅片2， 規(guī)格可以是125xl25_或156x156mm。所述的輸送載板2外周設(shè)有一圈輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)7,它的目的是讓載板能夠連續(xù)被傳動(dòng)，載板輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)7能保證載板能夠均衡、平穩(wěn)運(yùn)行。硅片放置槽4保證了硅片在生產(chǎn)工序中不相互疊合?？v向筋10或橫向筋9也可以選擇性地開有抽氣夾縫，可以在放置槽四邊筋上都開口，也可以限制在對(duì)位的兩根筋上，通過夾縫， 氣體可以從硅片周圍抽出，不需要從載板邊緣抽出。這樣使抽氣在每一塊硅片之間是均勻的。硅片裝載/卸載的氣壓平衡孔6，確保了硅片快速裝載/卸載時(shí)不因產(chǎn)生負(fù)壓而破碎。 本輸送載板的另一個(gè)設(shè)計(jì)發(fā)明點(diǎn)是在載板之間的互補(bǔ)式連接，可避免影響氣流的均勻性， 保證了載板能夠均衡、平穩(wěn)地運(yùn)行。如圖4所示，所述的輸送載板I之間的連接方式為前一塊輸送載板I的下凸臺(tái)11 與后一塊輸送載板I的上凸臺(tái)12疊合，使氣體不能從他們之間抽出。防止了前后載板之間產(chǎn)生的不均勻氣流使硅片制成的絨面不均勻。另外，載板在等離子干法制絨腔體時(shí)前后緊密相接也能增加產(chǎn)能。以下為本發(fā)明的一個(gè)具體應(yīng)用實(shí)例在比太科技的干法制絨體系里(產(chǎn)品型號(hào)” 太梭”)，載板是IMX IM的鋁板制成。其上開有36個(gè)硅片放置槽陣列，每個(gè)硅片槽是 157x157mm，槽深度是O. 5mm.這樣的槽位使硅片在里面不會(huì)移位。硅片和硅片之間的筋1mm。在筋上開設(shè)Imm寬的夾縫。夾縫的長度是150臟，接近硅片的長度。可在四邊筋上都開口，也可限制在對(duì)位的兩根筋上。載板下面是腔體真空抽氣空。這樣，氣流就通過載板上的夾縫進(jìn)入腔體抽氣空。雖然載板很大，但是抽氣仍然可以均勻地通過載板。通過以上設(shè)計(jì)，硅片和硅片自己刻蝕的均勻性可以達(dá)到3%。不用這樣的發(fā)明，氣流從載板邊緣抽走，硅片之間的刻蝕均勻性是10%。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本發(fā)明的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，其架構(gòu)形式能夠靈活多變，可以派生系列產(chǎn)品。只是做出若干簡(jiǎn)單推演或替換，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本發(fā)明由所提交的權(quán)利要求書確定的專利保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板，包括輸送載板(I)和硅片(2)，硅片(2)陣列排放在輸送載板(I)上，其特征是，所述的輸送載板(2)外周設(shè)有一圈輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)(7)，輸送載板(I)表面設(shè)置有硅片放置槽陣列(3)，所述的硅片放置槽陣列(3)由橫向筋(9)和縱向筋(10)分隔而成,橫向筋(9)或縱向筋(10)上開有抽氣夾縫(5),每個(gè)娃片放置槽(4)內(nèi)均設(shè)有4個(gè)氣壓平衡孔(6);所述的輸送載板(I)之間采用互補(bǔ)式連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的太陽能硅片制造工藝用傳輸載板，其特征是，所述的輸送載板(I)之間的連接方式為前一塊輸送載板(I)的下凸臺(tái)(I I)與后一塊輸送載板(I)的上凸臺(tái)(12)疊合。
全文摘要
本發(fā)明涉及太陽能硅片制造工藝用的等離子設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種太陽能硅片制造工藝用傳輸載板，包括輸送載板和硅片，硅片陣列排放在輸送載板上，所述的輸送載板外周設(shè)有一圈輸送導(dǎo)向結(jié)構(gòu)，輸送載板表面設(shè)置有硅片放置槽陣列，所述的硅片放置槽陣列由橫向筋和縱向筋分隔而成，橫向筋或縱向筋上開有抽氣夾縫，每個(gè)硅片放置槽內(nèi)均設(shè)有4個(gè)氣壓平衡孔，所述的輸送載板之間采用互補(bǔ)式連接，前一塊輸送載板的下凸臺(tái)與后一塊輸送載板的上凸臺(tái)疊合。本發(fā)明通過夾縫，使氣體可以從硅片周圍抽出，不需要從載板邊緣抽出，這樣使得抽氣在每一塊硅片之間是均勻的，另外互補(bǔ)式連接保證了載板能夠均衡、平穩(wěn)地運(yùn)行。
文檔編號(hào)H01L21/677GK102610698SQ20121008753
公開日2012年7月25日 申請(qǐng)日期2012年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年3月29日
發(fā)明者上官泉元, 劉勇, 黃培思 申請(qǐng)人:常州比太科技有限公司