太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及單晶硅行業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，特別是太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽。
【背景技術(shù)】
[0002]單晶硅太陽能電池，是以高純的單晶硅棒為原料的太陽能電池，是當(dāng)前開發(fā)得最快的一種太陽能電池。將單晶硅棒切成片，厚度在180微米-220微米之間。硅片經(jīng)過拋磨、清洗等工序，制成待加工的原料硅片?，F(xiàn)有的清洗槽都是堿性環(huán)境，需要將PH值保持在12.5?12.6范圍內(nèi)，當(dāng)使用過一段時間后，都是憑工人的經(jīng)驗對清洗槽內(nèi)的pH值進(jìn)行調(diào)整，通過泵，使加藥室內(nèi)的堿液經(jīng)連通管進(jìn)入清洗槽內(nèi)，但是人工經(jīng)驗有時不準(zhǔn)確，并且操作繁瑣，影響工作效率。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實用新型設(shè)計了太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，增設(shè)了 PH儀表，準(zhǔn)確控制清洗槽內(nèi)環(huán)境，并實時做出調(diào)整。
[0004]本實用新型采用的技術(shù)方案是，太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，包括清洗槽和加藥室，所述的清洗槽與加藥室通過連通管相連通，所述的加藥室與連通管的連接位置設(shè)置有加液泵，關(guān)鍵是:還包括PH儀表，所述的pH儀表設(shè)置在清洗槽的側(cè)壁上，所述的清洗槽內(nèi)設(shè)置有加熱棒。
[0005]所述的清洗槽的側(cè)壁上設(shè)置有溫控系統(tǒng)。
[0006]所述的溫控系統(tǒng)包括溫度儀和感應(yīng)開關(guān)。
[0007]所述的pH儀表為pH探頭。
[0008]本實用新型的有益效果是，該裝置增設(shè)了 pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應(yīng)清洗槽內(nèi)的溫度，并通過感應(yīng)開關(guān)控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]附圖中，I是清洗槽，2是加藥室，3是連通管，4是加熱棒，5是加液泵，6是溫控系統(tǒng)，7是pH儀表。
【具體實施方式】
[0011]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進(jìn)一步說明。
[0012]具體實施例，如圖1所示，太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，包括清洗槽I和加藥室2，為了便于給清洗槽I加液，所述的清洗槽I與加藥室2通過連通管3相連通，所述的加藥室2與連通管3的連接位置設(shè)置有加液泵5，加液泵5為加液提供動力裝置，為了實時監(jiān)測清洗槽I內(nèi)藥液的PH值，該裝置還包括pH儀表7，所述的pH儀表7為pH探頭，可以直接顯示藥液的PH值，清洗槽I需要將pH值保持在12.5?12.6范圍內(nèi)，可以合理控制加藥量，避免硅片表面的藥物過多而出現(xiàn)藥物殘留，影響后期硅片植絨環(huán)節(jié)，所述的pH儀表7設(shè)置在清洗槽I的側(cè)壁上，為了控制清洗槽I內(nèi)藥液的溫度，所述的清洗槽I的側(cè)壁上設(shè)置有溫控系統(tǒng)6，所述的溫控系統(tǒng)6包括溫度儀和感應(yīng)開關(guān)，所述的清洗槽I內(nèi)設(shè)置有加熱棒8，溫度儀感應(yīng)清洗槽I內(nèi)的溫度，當(dāng)清洗槽I內(nèi)溫度低于40-50攝氏度時，通過感應(yīng)開關(guān)控制加熱棒8給液體加熱。該裝置增設(shè)了 pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應(yīng)清洗槽內(nèi)的溫度，并通過感應(yīng)開關(guān)控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。
【主權(quán)項】
1.太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，包括清洗槽(I)和加藥室(2)，所述的清洗槽(I)與加藥室(2)通過連通管(3)相連通，所述的加藥室(2)與連通管(3)的連接位置設(shè)置有加液泵(5)，其特征在于:還包括pH儀表(7)，所述的pH儀表(7)設(shè)置在清洗槽(I)的側(cè)壁上，所述的清洗槽(I)內(nèi)設(shè)置有加熱棒(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，其特征在于:所述的清洗槽(I)的側(cè)壁上設(shè)置有溫控系統(tǒng)(6)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，其特征在于:所述的溫控系統(tǒng)(6)包括溫度儀和感應(yīng)開關(guān)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，其特征在于:所述的PH儀表(7)為pH探頭。
【專利摘要】太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽，包括清洗槽和加藥室，所述的清洗槽與加藥室通過連通管相連通，所述的加藥室與連通管的連接位置設(shè)置有加液泵，關(guān)鍵是：還包括pH儀表，所述的pH儀表設(shè)置在清洗槽的側(cè)壁上，所述的清洗槽內(nèi)設(shè)置有加熱棒。本實用新型涉及單晶硅行業(yè)技術(shù)領(lǐng)域，特別是太陽能硅片清洗環(huán)節(jié)用的清洗槽。本實用新型的有益效果是，該裝置增設(shè)了pH儀表，pH儀表能直接顯示藥液的pH值，可以很直觀地使工人看出是否需要加入堿液或加入多少堿液合適，溫度儀感應(yīng)清洗槽內(nèi)的溫度，并通過感應(yīng)開關(guān)控制加熱棒給液體加熱，提高了工作效率和精確度。
【IPC分類】H01L21-66, H01L21-67
【公開號】CN204577406
【申請?zhí)枴緾N201520164350
【發(fā)明人】陳世杰, 朱琛浩, 田會藏, 陳旭, 王聰
【申請人】寧晉賽美港龍電子材料有限公司
【公開日】2015年8月19日
【申請日】2015年3月23日