專利名稱：環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置，更詳細(xì)而言，涉及在將基板搬入到激光處理裝置后，當(dāng)使基板旋轉(zhuǎn)時(shí)，可以防止氣體環(huán)境在旋轉(zhuǎn)途中紊亂的環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置。
背景技術(shù)：
先前以來(lái)，使線狀的激光照射于非晶質(zhì)半導(dǎo)體基板，同時(shí)使基板移動(dòng)，當(dāng)對(duì)基板全面施加激光處理時(shí)，為了使被激光照射的局部成為氣體環(huán)境，現(xiàn)有技術(shù)的激光處理裝置的氣體噴射單元，是從狹縫狀的氣體噴射口朝向基板噴出氣體(例如氮?dú)?(例如參照專利文獻(xiàn)1) O現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2008-294101號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
(發(fā)明要解決的問(wèn)題)圖11 圖15是說(shuō)明圖，用來(lái)表示以激光5沿著長(zhǎng)方形基板P的長(zhǎng)邊掃描基板P 的過(guò)程。另外，在圖11中，接近激光5和氣體噴射口 6的基板P的短邊稱為第1邊pl，依順時(shí)針?lè)较驅(qū)⑾乱粋€(gè)長(zhǎng)邊稱為第2邊p2，將下一個(gè)短邊稱為第3邊p3，將下一個(gè)長(zhǎng)邊稱為第 4 邊 p4。如圖11示意性所示，以激光5和氣體噴射口 6位于第1邊pl的中央部附近的方式，將基板P搬入到激光處理裝置。另外，在圖11中，以使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第1邊Pl的中央部外側(cè)的密封蓋8的端緣部的方式，將基板P搬入到激光處理裝置，但是也可以以激光5和氣體噴射口 6位于第1邊pl的中央部上或接近內(nèi)側(cè)的方式，將基板P 搬入到激光處理裝置。在圖11中，從氣體噴射口 6噴出的氣體，接觸到密封蓋8的端緣部，使被激光5照射的局部成為氣體環(huán)境。在利用激光5開(kāi)始基板P的掃描時(shí)，如圖11的箭頭yll所示，使基板P移動(dòng)，如圖 12所示，使激光5和氣體噴射口 6位于相當(dāng)于第1邊pl的左半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。其次，如圖12的箭頭xll所示，使基板P移動(dòng)，如圖13所示，對(duì)基板P的左半部分進(jìn)行激光處理。在對(duì)基板P的左半部分進(jìn)行激光處理后，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第3邊p3的左半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。其次，如圖13的箭頭yl2所示，使基板P移動(dòng)，并如圖14所示，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第3邊p3的右半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。其次，如圖14的箭頭xl2所示，使基板P移動(dòng)，并如圖15所示，對(duì)基板P的右半部分進(jìn)行激光處理。在對(duì)基板P的右半部分進(jìn)行激光處理后，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第1邊Pl的右半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。然后，如圖15的箭頭yl3所示，移動(dòng)基板P，使基板P回到圖11所示的位置。然后，從激光處理裝置搬出基板P。在利用激光5沿著基板P的短邊掃描基板P的情況下，如圖11所示，在將基板P 搬入到激光處理裝置后，使基板P以其中心作為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)90°，并如圖16所示，使激光5 和氣體噴射口 6位于突出到第2邊p2的中央部外側(cè)的密封蓋8的端緣部。然后，與利用激光5沿著基板P的長(zhǎng)邊掃描基板P的情況同樣地使基板P移動(dòng)，利用激光5沿著基板P的短邊掃描基板P。圖17表示如圖11所示將基板P搬入到激光處理裝置后，使基板P旋轉(zhuǎn)至如圖16 所示的位置的途中的狀態(tài)。當(dāng)如箭頭α旋轉(zhuǎn)時(shí)，氣體噴射口 6的端部N會(huì)突出到密封蓋8之外，會(huì)使氣體泄
漏ο因此，存在的問(wèn)題是，氣體環(huán)境會(huì)紊亂，在使基板P旋轉(zhuǎn)至如圖16所示的位置后至氣體環(huán)境穩(wěn)定需要花費(fèi)時(shí)間，不能立即開(kāi)始掃描。因此，本發(fā)明的目的在于提供在將基板搬入到激光處理裝置后，當(dāng)使基板旋轉(zhuǎn)時(shí)， 可以防止氣體環(huán)境在旋轉(zhuǎn)途中紊亂的環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置。(解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案)在第1觀點(diǎn)中，本發(fā)明提供一種環(huán)境穩(wěn)定化方法，其特征在于，用在激光處理裝置 (100)中，所述激光處理裝置(100)包括基板支撐單元0、11、12、13、14)，具有基板支撐面用來(lái)支撐具有第1邊(Pl)至第4邊(ρ4)的四邊形的基板(P)，而且可以使所述基板支撐面在平行于所述基板支撐面的2維方向直線移動(dòng)，而且可以使所述基板支撐面以垂直于所述基板支撐面的軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；四邊形的密封蓋(8)，以端緣部突出到被所述基板支撐面所支撐的基板(P)的周?chē)姆绞?，被設(shè)置在所述基板(P)和所述基板支撐面之間；激光源G)，用來(lái)使線狀的激光(5)照射于所述基板⑵；和狹縫狀的氣體噴射口(6)，朝向所述基板(P)噴出氣體(例如氮?dú)?，用來(lái)使被激光( 照射的局部成為氣體環(huán)境；在所述激光處理裝置(100)中，以使所述氣體噴射口(6)位于所述第1邊(pi)的中央部附近的方式支撐基板(P)，接著以使所述基板(P)的中心接近所述氣體噴射口(6)的方式使所述基板(P) 直線移動(dòng)，接著使所述基板(P)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在上述第1觀點(diǎn)的環(huán)境穩(wěn)定化方法中，當(dāng)使基板(P)旋轉(zhuǎn)時(shí)，氣體噴射口(6)的端部不會(huì)在密封蓋(8)之外。因此，氣體環(huán)境不會(huì)紊亂，而成為穩(wěn)定的狀態(tài)，在使基板(P)旋轉(zhuǎn)后，可以立即開(kāi)始掃描。另外，在初期位置，由于以氣體噴射口(6)位于第1邊(pi)的中央部附近的方式支撐基板(P)，所以不需要使基板(P)旋轉(zhuǎn)就可以立即開(kāi)始掃描。即，可以應(yīng)對(duì)從初期位置使基板(P)旋轉(zhuǎn)再開(kāi)始掃描的情況、和從初期位置不使基板(P)旋轉(zhuǎn)就開(kāi)始掃描的情況兩
者O作為初期位置，如果以氣體噴射口(6)位于基板(P)的中心附近的方式支撐基板 (P)，即使不直線移動(dòng)而是使基板(P)旋轉(zhuǎn)，氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。但是，在開(kāi)始掃描的情況下，由于必需以氣體噴射口(6)位于基板(P)任一邊附近的方式使基板(P)直線移動(dòng)，因而不優(yōu)選。另外，如果使密封蓋(8)足夠大，即使從初期位置不進(jìn)行直線移動(dòng)而是使基板(P) 旋轉(zhuǎn)，氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。但是，如果密封蓋(8)變大，則因?yàn)闀?huì)造成激光處理裝置的尺寸的大型化，因而不優(yōu)選。在第2觀點(diǎn)中，本發(fā)明提供一種環(huán)境穩(wěn)定化方法，其特征是在上述第1觀點(diǎn)的環(huán)境穩(wěn)定化方法中，使所述直線移動(dòng)和所述旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行。如果成為適當(dāng)?shù)臅r(shí)序，即使使直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行，在基板(P)的旋轉(zhuǎn)中， 氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。另外，與直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)順序地進(jìn)行的情況相比較，可以縮短所需要的時(shí)間。在第3觀點(diǎn)中，本發(fā)明提供一種激光處理裝置(100)，其特征在于包括基板支撐單元0、11、12、13、14)，具有基板支撐面用來(lái)支撐具有第1邊(pi)至第4邊(p4)的四邊形的基板(P)，而且可以使所述基板支撐面在平行于所述基板支撐面的2維方向直線移動(dòng)， 而且可以使所述基板支撐面以垂直于所述基板支撐面的軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；四邊形的密封蓋(8)，以端緣部突出到被所述基板支撐面所支撐的基板(P)的周?chē)姆绞?，被設(shè)置在所述基板(P)和所述基板支撐面之間；激光源G)，用來(lái)使線狀的激光( 照射于所述基板(P)； 狹縫狀的氣體噴射口(6)，朝向所述基板(P)噴出氣體(例如氮?dú)?，用來(lái)使被激光(5)照射的局部成為氣體環(huán)境；和控制單元00)，以使所述氣體噴射口(6)位于所述第1邊(pi) 的中央部附近的方式支撐基板(P)，以使所述基板(P)的中心接近所述氣體噴射口(6)的方式使所述基板(P)直線移動(dòng)，接著使所述基板(P)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在上述第3觀點(diǎn)的激光處理裝置(100)中，當(dāng)使基板⑵旋轉(zhuǎn)時(shí)，氣體噴射口(6) 的端部不會(huì)在密封蓋(8)之外。因此，氣體環(huán)境不會(huì)紊亂，而成為穩(wěn)定的狀態(tài)，在使基板(P) 旋轉(zhuǎn)后，可以立即開(kāi)始掃描。另外，在初期位置，由于以氣體噴射口(6)位于第1邊(pi)的中央部附近的方式支撐基板(P)，所以不需要使基板(P)旋轉(zhuǎn)就可以立即開(kāi)始掃描。即，可以應(yīng)對(duì)從初期位置使基板(P)旋轉(zhuǎn)再開(kāi)始掃描的情況、和從初期位置不使基板(P)旋轉(zhuǎn)就開(kāi)始掃描的情況兩
者O作為初期位置，如果以氣體噴射口(6)位于基板(P)的中心附近的方式支撐基板 (P)，即使不直線移動(dòng)而是使基板(P)旋轉(zhuǎn)，氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。但是，在開(kāi)始掃描的情況下，由于必需以氣體噴射口(6)位于基板(P)任一邊附近的方式使基板(P)直線移動(dòng)，因而不優(yōu)選。另外，如果使密封蓋(8)足夠大，即使從初期位置不進(jìn)行直線移動(dòng)而是使基板(P) 旋轉(zhuǎn)，氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。但是，如果密封蓋(8)變大，則因?yàn)闀?huì)造成激光處理裝置的尺寸的大型化，因而不優(yōu)選。在第4觀點(diǎn)中，本發(fā)明提供一種激光處理裝置(100)，其特征是在上述第3觀點(diǎn)的激光處理裝置(100)中，所述控制單元00)使所述直線移動(dòng)和所述旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行。如果成為適當(dāng)?shù)臅r(shí)序，即使使直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行，在基板(P)的旋轉(zhuǎn)中， 氣體噴射口(6)的端部也不會(huì)在密封蓋(8)之外。另外，與直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)順序地進(jìn)行的情況相比較，可以縮短所需要的時(shí)間。(發(fā)明的效果)
根據(jù)本發(fā)明的環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置，在將基板搬入到激光處理裝置后，當(dāng)使基板旋轉(zhuǎn)時(shí)，可以防止旋轉(zhuǎn)途中的氣體環(huán)境紊亂。因此，在使基板旋轉(zhuǎn)后可以立即開(kāi)始掃描，可以提高生產(chǎn)效率。


圖1是構(gòu)造說(shuō)明圖，用來(lái)表示實(shí)施例1涉及的激光退火裝置。圖2是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板搬入時(shí)的初期位置。圖3是示意性俯視圖，用來(lái)表示實(shí)施例1涉及的直線移動(dòng)步驟。圖4是示意性俯視圖，用來(lái)表示實(shí)施例1涉及的基板旋轉(zhuǎn)中的狀態(tài)。圖5是示意性俯視圖，用來(lái)表示實(shí)施例1涉及的旋轉(zhuǎn)后的狀態(tài)。圖6是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的左半部分的掃描開(kāi)始時(shí)的狀態(tài)。圖7是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的左半部分的掃描結(jié)束時(shí)的狀態(tài)。圖8是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的右半部分的掃描開(kāi)始時(shí)的狀態(tài)。圖9是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的右半部分的掃描結(jié)束時(shí)的狀態(tài)。圖10是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板搬出時(shí)的位置關(guān)系。圖11是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板搬入時(shí)的初期位置。圖12是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的左半部分的掃描開(kāi)始時(shí)的狀態(tài)。圖13是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的左半部分的掃描結(jié)束時(shí)的狀態(tài)。圖14是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的右半部分的掃描開(kāi)始時(shí)的狀態(tài)。圖15是示意性俯視圖，用來(lái)表示基板的右半部分的掃描結(jié)束時(shí)的狀態(tài)。圖16是示意性俯視圖，用來(lái)表示現(xiàn)有技術(shù)的基板旋轉(zhuǎn)后的狀態(tài)。圖17是示意性俯視圖，用來(lái)華
符號(hào)說(shuō)明
1激光通過(guò)窗
2旋轉(zhuǎn)臺(tái)
3局部密封盒
4激光源
5激光
6氣體噴射口
7處理室
8密封蓋
11,13軌道
12X臺(tái)
14Y臺(tái)
20控制裝置
100激光退火裝置
P基板。
以下，利用附圖所示的實(shí)施方式用來(lái)更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。另外，本發(fā)明并不只限于此種方式。-實(shí)施例1-圖1是構(gòu)造說(shuō)明圖，用來(lái)表示實(shí)施例1涉及的激光退火裝置100。該激光退火裝置100具備有處理室7，具有激光通過(guò)窗1和基板搬入出口 9 ；軌道11，被設(shè)置在處理室7的底面；X臺(tái)12，在軌道11上于X方向直線移動(dòng)；軌道13，被設(shè)置在X臺(tái)12的頂面；Y臺(tái)14，在軌道13上于y方向直線移動(dòng)；旋轉(zhuǎn)臺(tái)2，被支撐在Y臺(tái)14并水平旋轉(zhuǎn)；密封蓋8，被設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)2上；激光源4，用來(lái)對(duì)被載置在密封蓋8上的基板P 照射激光5 ；局部密封盒3，具有氣體噴射口 6，該氣體噴射口 6用來(lái)對(duì)基板P噴出氣體(例如氮?dú)?，使被激光5照射的局部成為氣體環(huán)境；和控制裝置20，用來(lái)控制激光源4的開(kāi)啟 /關(guān)閉和X臺(tái)12的直線移動(dòng)等。圖2是示意圖，用來(lái)說(shuō)明基板P、密封蓋8、激光5和氣體噴射口 6的位置關(guān)系?；錚是具有第1邊pi至第4邊p4的四邊形。密封蓋8也是四邊形，以端緣部突出到基板P的周?chē)姆绞捷d置基板P。激光5為線狀。氣體噴射口 6為狹縫狀。如圖2示意性所示，以激光5和氣體噴射口 6位于第1邊pi的中央部附近的方式， 從基板搬入出口 9搬入基板P。在圖2中，雖然以激光5和氣體噴射口 6位于突出到第1邊pi的中央部外側(cè)的密封蓋8的端緣部的方式，搬入基板P，但是也可以以激光5和氣體噴射口 6位于第1邊pi的中央部上或接近內(nèi)側(cè)的方式，搬入基板P。在圖2中，從氣體噴射口 6噴出的氣體與密封蓋8的端緣部接觸，使被激光5照射的局部成為氣體環(huán)境。另外，實(shí)際上設(shè)計(jì)成當(dāng)以基板P的第1邊pi與激光5的線平行并且基板P的中心和旋轉(zhuǎn)臺(tái)2的旋轉(zhuǎn)軸一致的方式搬入基板P時(shí)，激光5和氣體噴射口 6位于第1邊pi的中央部附近。沿著基板P的長(zhǎng)邊利用激光5對(duì)基板P進(jìn)行掃描的動(dòng)作，與參照?qǐng)D11 圖15所說(shuō)明的現(xiàn)有技術(shù)的動(dòng)作相同，在此處省略其說(shuō)明。參照?qǐng)D2 圖10，用來(lái)說(shuō)明沿著基板P的短邊利用激光5掃描基板P的動(dòng)作。如圖2的箭頭xl所示，使基板P直線移動(dòng)，并如圖3所示，使氣體噴射口 6接近基板P的中心。圖3的2點(diǎn)劃線是搬入時(shí)的基板位置。這時(shí)的直線移動(dòng)量的決定方法將在后面說(shuō)明。其次，如圖4所示，以基板P的中心作為旋轉(zhuǎn)軸，使基板P旋轉(zhuǎn)。即使如箭頭α進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，也不會(huì)使氣體噴射口 6突出到密封蓋8之外，所以可以穩(wěn)定地保持氣體環(huán)境。如圖5所示，當(dāng)完成使基板P旋轉(zhuǎn)90°時(shí)，則如圖5的箭頭yl所示，使基板P移動(dòng)，并如圖6所示，使激光5和氣體噴射口 6位于與第2邊p2的左半部分外側(cè)相當(dāng)?shù)拿芊馍w8的端緣部。其次，如圖6的箭頭x2所示，使基板P移動(dòng)，并如圖7所示，對(duì)基板P的左半部分進(jìn)行激光退火處理。在對(duì)基板P的左半部分進(jìn)行激光退火處理之后，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第4邊p4的左半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。其次，如圖7的箭頭y2所示，使基板P移動(dòng)，并如圖8所示，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第4邊p4的右半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。其次，如圖8的箭頭x3所示，使基板P移動(dòng)，并如圖9所示，對(duì)基板P的右半部分進(jìn)行激光退火處理。在對(duì)基板P的右半部分進(jìn)行激光退火處理之后，使激光5和氣體噴射口 6位于突出到第2邊p2的右半部分外側(cè)的密封蓋8的端緣部。最后，如圖9的箭頭y3所示，使基板P移動(dòng)，并使基板P回到圖10的位置。然后， 從激光退火裝置100搬出基板P。根據(jù)實(shí)施例1的激光退火裝置100，在搬入基板P后，當(dāng)使基板P旋轉(zhuǎn)90°時(shí)，在旋轉(zhuǎn)途中因?yàn)闅怏w噴射口 6的端部不會(huì)突出到密封蓋8之外，所以可以防止氣體環(huán)境在旋轉(zhuǎn)途中的紊亂。因此，在使基板P旋轉(zhuǎn)90°后至氣體環(huán)境穩(wěn)定，不需要等待時(shí)間，可以提高生產(chǎn)效率。-以使氣體噴射口6接近基板P的中心的方式使基板P進(jìn)行直線移動(dòng)的直線移動(dòng)
量-在圖2中，氣體噴射口 6和基板P的中心之間的距離設(shè)定為L(zhǎng)0，在圖5中，氣體噴射口 6和基板P的中心之間的距離設(shè)定為L(zhǎng)90，隨著氣體噴射口 6的長(zhǎng)度和寬度的調(diào)整值設(shè)定為A時(shí)，從圖3可以判定，直線移動(dòng)量=L0-L90+A。此處，在圖2中，氣體噴射口 6和基板P的中心之間的距離L0，為基板P的長(zhǎng)邊長(zhǎng)的1/2+第1邊pi和氣體噴射口 6的間隔。 另外，在圖5中，氣體噴射口 6和基板P的中心之間的距離L90，為基板P的短邊長(zhǎng)的1/2+ 第2邊p2和氣體噴射口 6的間隔。因此，直線移動(dòng)量=(基板P的長(zhǎng)邊長(zhǎng)-基板P的短邊長(zhǎng))/2+ (圖2中第1邊pi和氣體噴射口 6的間隔-圖5中第2邊p2和氣體噴射口 6的間隔)+A。-實(shí)施例2-控制單元20并行地進(jìn)行圖2所示的直線移動(dòng)xl和圖4所示的旋轉(zhuǎn)α。如果設(shè)定為適當(dāng)?shù)臅r(shí)序，則即使直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行，在基板P的旋轉(zhuǎn)中， 氣體噴射口 6的端部也不會(huì)在密封蓋8之外。而且，與直線移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)順序地進(jìn)行的情況相比較，可以縮短所需要的時(shí)間。(產(chǎn)業(yè)上的可利用性)本發(fā)明的環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置可以利用在例如非晶質(zhì)半導(dǎo)體基板的激光退火處理。
權(quán)利要求
1.一種環(huán)境穩(wěn)定化方法，其特征在于，用在激光處理裝置(100)中，所述激光處理裝置 (100)包括基板支撐單元0、11、12、13、14)，具有基板支撐面用來(lái)支撐具有第1邊( 1)至第4邊(p4)的四邊形的基板(P)，而且可以使所述基板支撐面在平行于所述基板支撐面的 2維方向直線移動(dòng)，而且可以使所述基板支撐面以垂直于所述基板支撐面的軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；四邊形的密封蓋(8)，以端緣部突出到被所述基板支撐面所支撐的基板(P)的周?chē)姆绞?，被設(shè)置在所述基板(P)和所述基板支撐面之間；激光源G)，用來(lái)使線狀的激光(5) 照射于所述基板(P)；和狹縫狀的氣體噴射口(6)，朝向所述基板(P)噴出氣體，用來(lái)使被激光(5)照射的局部成為氣體環(huán)境；在所述激光處理裝置(100)中，以使所述氣體噴射口(6) 位于所述第1邊(Pl)的中央部附近的方式支撐基板(P)，接著以使所述基板(P)的中心接近所述氣體噴射口(6)的方式使所述基板(P)直線移動(dòng)，接著使所述基板(P)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)境穩(wěn)定化方法，其特征在于，所述直線移動(dòng)和所述旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行。
3.一種激光處理裝置(100)，其特征在于包括基板支撐單元0、11、12、13、14)，具有基板支撐面用來(lái)支撐具有第1邊(Pl)至第4邊(p4)的四邊形的基板(P)，而且可以使所述基板支撐面在平行于所述基板支撐面的2維方向直線移動(dòng)，而且可以使所述基板支撐面以垂直于所述基板支撐面的軸為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；四邊形的密封蓋(8)，以端緣部突出到被所述基板支撐面所支撐的基板(P)的周?chē)姆绞?，被設(shè)置在所述基板(P)和所述基板支撐面之間；激光源G)，用來(lái)使線狀的激光(5)照射于所述基板(P)；狹縫狀的氣體噴射口 (6)，朝向所述基板(P)噴出氣體，用來(lái)使被激光( 照射的局部成為氣體環(huán)境；和控制單元 (20)，以使所述氣體噴射口(6)位于所述第1邊(pi)的中央部附近的方式支撐基板(P)，以使所述基板(P)的中心接近所述氣體噴射口(6)的方式使所述基板(P)直線移動(dòng)，接著使所述基板(P)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的激光處理裝置(100)，其特征在于，所述控制單元00)使所述直線移動(dòng)和所述旋轉(zhuǎn)并行地進(jìn)行。
全文摘要
本發(fā)明提供環(huán)境穩(wěn)定化方法及激光處理裝置，在將基板搬入到激光處理裝置后，當(dāng)使基板旋轉(zhuǎn)90°時(shí)，防止旋轉(zhuǎn)途中的氣體環(huán)境紊亂。以使氣體噴射口位于基板的第1邊的中央部附近的方式搬入基板，接著以基板的中心接近氣體噴射口的方式使基板直線移動(dòng)，接著以基板的中心作為旋轉(zhuǎn)軸使基板水平旋轉(zhuǎn)90°。由于在旋轉(zhuǎn)途中氣體噴射口的端部不會(huì)在密封蓋之外，所以可以防止氣體的泄漏而使氣體環(huán)境紊亂。
文檔編號(hào)H01L21/268GK102549719SQ201180003297
公開(kāi)日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2011年3月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月25日
發(fā)明者伊達(dá)昭夫, 武田直樹(shù) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日本制鋼所