專利名稱：一種蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及濕法刻蝕的技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉 及一種蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備。
背景技術(shù)：
濕法刻蝕工藝主要是指采用液態(tài)化學(xué)藥品對刻蝕物進行去除的刻蝕技術(shù)。濕法刻蝕是用適當(dāng)?shù)目涛g液，與刻蝕物進行化學(xué)反應(yīng)，改變刻蝕物的結(jié)構(gòu)，使無光刻膠覆蓋的部分脫離基片表面，而把有光刻膠覆蓋的區(qū)域保存下來，這樣便在基片表面得到了所需要的圖形。濕法刻蝕設(shè)備中是在濕法刻蝕槽內(nèi)利用酸性液體對基板進行刻蝕，生產(chǎn)過程中，酸性液體揮發(fā)而成的酸霧逐漸附著在濕法刻蝕槽的蓋板上，附著在蓋板上的酸性小液滴將逐漸凝結(jié)成大的酸性液滴，當(dāng)大的酸性液滴掉落到基板上時，將導(dǎo)致對基板的刻蝕不均勻，
影響產(chǎn)品良率。

實用新型內(nèi)容為解決上述問題，本實用新型提供一種蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備，用于解決濕法刻蝕基板時，酸性液滴落在基板上導(dǎo)致對基板的刻蝕不均勻、產(chǎn)品良率低的問題。為此，本實用新型提供一種蓋板，其中包括上蓋板和下蓋板。其中，所述上蓋板和下蓋板對合設(shè)置，對合設(shè)置的所述上蓋板和下蓋板的周邊密閉，所述上蓋板和下蓋板之間保留預(yù)設(shè)空間。其中，所述上蓋板設(shè)置有排氣管口，所述排氣管口連接到外部抽氣裝置。其中，所述下蓋板上設(shè)置有通孔。其中，所述下蓋板與所述上蓋板相對應(yīng)一側(cè)的表面為凹凸結(jié)構(gòu)，所述通孔貫穿所述凹凸結(jié)構(gòu)中的凸起位置。其中，所述凹凸結(jié)構(gòu)包括至少兩排凸件，相鄰兩排凸件之間為凹槽。其中，所述通孔為圓形孔，所述圓形孔的直徑在3_15mm之間。本實用新型還提供一種濕法刻蝕槽，其中包括上述的任意一種蓋板。本實用新型還提供一種濕法刻蝕設(shè)備，其中包括上述的濕法刻蝕槽。本實用新型具有下述有益效果本實用新型提供的蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備實施例中，將酸霧通過下蓋板的通孔和上蓋板的排氣管口抽離出濕法刻蝕槽，避免酸霧在上蓋板和下蓋板的表面凝結(jié)成酸性液滴而掉落到基板上，防止酸性液滴對基板刻蝕的影響，使對基板的刻蝕更均勻，從而提聞廣品良率。

圖I為本實用新型蓋板第一實施例立體圖；[0017]圖2為圖I中A-A方向的切面圖；圖3為圖I所示蓋板中的下蓋板的立體圖；圖4為本實用新型蓋板第二實 施例的立體圖；圖5為圖4中B-B方向的切面圖；圖6為圖4所示蓋板中上蓋板的立體圖；圖7為圖4所示蓋板中下蓋板的立體圖。
具體實施方式
為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本實用新型的技術(shù)方案，
以下結(jié)合附圖對本實用新型提供的蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備進行詳細描述。圖I為本實用新型蓋板第一實施例立體圖，圖2為圖I中A-A方向的切面圖，圖3為圖I蓋板中的下蓋板的立體圖。如圖1、2和3所示，本實施例蓋板包括上蓋板101、下蓋板102，在上蓋板101上設(shè)置有排氣管ロ 1011，排氣管ロ 1011用于連接到外部的抽氣機等裝置，排氣管ロ 1011可以位于上蓋板101的任ー側(cè)面；在下蓋板102上設(shè)置有通孔1021 ；上蓋板101和下蓋板102對合后，上蓋板101和下蓋板102之間保留預(yù)設(shè)空間，通孔1021通過預(yù)設(shè)空間與排氣管ロ 1011連通，并且對合后的上蓋板101和下蓋板102的周邊密閉。圖4為本實用新型蓋板第二實施例的立體圖，圖5為圖4中B-B方向的切面圖，圖6為圖4所示蓋板中上蓋板的立體圖，圖7為圖4所示蓋板中下蓋板的立體圖。如圖4、5、6和7所示，本實施例中的下蓋板102與上蓋板101相對應(yīng)ー側(cè)的表面為凹凸結(jié)構(gòu)，通孔1021貫穿于下蓋板102，以將濕法刻蝕槽與上蓋板101中的排氣管ロ 1011連通。在本實施例中，下蓋板102上的凹凸結(jié)構(gòu)中的凸起位置包括至少兩排規(guī)則的凸件1022，相鄰兩排凸件1022之間為凹槽1023，通孔1021貫穿于凸件1022。在實際應(yīng)用中，將上蓋板101和下蓋板102對合后放置在濕法刻蝕槽上，其中，上蓋板101和下蓋板102的周邊密閉，二者之間保留預(yù)設(shè)空間，預(yù)設(shè)空間包括上蓋板101與凸件1022之間的空間以及上蓋板101與凹槽1023之間的空間，上蓋板101的排氣管ロ 1011與外部的抽氣裝置連接，其中，上蓋板101和下蓋板102的周邊契合密閉，以使上蓋板101和下蓋板102之間的預(yù)設(shè)空間只通過排氣管ロ 1011與外部抽氣裝置連通。在濕法刻蝕槽中對基板進行刻蝕エ藝過程時，濕法刻蝕槽的上部將充滿酸霧，開啟抽氣機以使上蓋板101和下蓋板102之間的空間相對于濕法刻蝕槽空間保持負壓狀態(tài)，以使下蓋板102附近的酸霧能通過下蓋板102的通孔1021、上蓋板102的排氣管ロ 1011而被抽離出濕法刻蝕槽，凹槽1023可以回收凝結(jié)在上蓋板102的酸性液滴，并在后續(xù)的抽氣過程中將酸性液滴抽離出上蓋板101和下蓋板102之間的預(yù)設(shè)空間，以防止上蓋板102上的酸性液滴落入濕法刻蝕槽。本實施例中，將酸霧通過下蓋板的通孔和上蓋板的排氣管ロ抽離出濕法刻蝕槽，避免酸霧在上蓋板和下蓋板的表面凝結(jié)成酸性液滴而掉落到基板上，防止酸性液滴對基板刻蝕的影響，使對基板的刻蝕更均勻，從而提高產(chǎn)品良率。在實際應(yīng)用中，通孔1021為圓形孔，圓形孔的直徑在3_15mm之間，通孔1021也可以為其它形狀，如六角形通孔等。本實用新型還提供一種濕法刻蝕槽，包括圖I或圖2所示的蓋板。[0030]本實用新型還提供一種濕法刻蝕設(shè)備，包括抽氣機和濕法刻蝕槽,濕法刻蝕槽包括圖I或圖2所示的蓋板，將上蓋板101和下蓋板102對合后放置在濕法刻蝕槽上，上蓋板101和下蓋板102的周邊密閉，以防止?jié)穹涛g槽中的酸霧從上蓋板101和下蓋板102周邊的縫隙泄露出去，通過抽氣機抽取氣體使上蓋板101和下蓋板102之間的預(yù)設(shè)空間為負壓，以將濕法刻蝕槽中靠近下蓋板102的酸霧抽離出去，利于對酸霧進行處理以防止酸霧污染環(huán)境，又避免酸霧在下蓋板102的表面凝結(jié)成酸性液滴而掉落到基板上，減少酸性液滴對 基板刻蝕的影響，以使對基板的刻蝕更均勻，從而可以提高產(chǎn)品良率?？梢岳斫獾氖?，以上實施方式僅僅是為了說明本實用新型的原理而采用的示例性實施方式，然而本實用新型并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本實用新型的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.ー種蓋板，其特征在于包括上蓋板和下蓋板。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的蓋板，其特征在于，所述上蓋板和下蓋板對合設(shè)置，對合設(shè)置的所述上蓋板和下蓋板的周邊密閉，所述上蓋板和下蓋板之間保留預(yù)設(shè)空間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蓋板，其特征在于，所述上蓋板設(shè)置有排氣管ロ，所述排氣管ロ連接到外部抽氣裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蓋板，其特征在于，所述下蓋板上設(shè)置有通孔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蓋板，其特征在干，所述下蓋板與所述上蓋板相對應(yīng)ー側(cè)的表面為凹凸結(jié)構(gòu)，所述通孔貫穿所述凹凸結(jié)構(gòu)中的凸起位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蓋板，其特征在于，所述凹凸結(jié)構(gòu)包括至少兩排凸件，相鄰兩排凸件之間為凹槽。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的蓋板，其特征在于，所述通孔為圓形孔，所述圓形孔的直徑在3-15mm之間。
8.—種濕法刻蝕槽,其特征在于包括權(quán)利要求1-7任一所述的蓋板。
9.一種濕法刻蝕設(shè)備，其特征在于包括權(quán)利要求8所述的濕法刻蝕槽。
專利摘要本實用新型提供一種蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備，其中包括上蓋板和下蓋板，所述上蓋板和下蓋板對合設(shè)置。本實用新型提供的蓋板、濕法刻蝕槽和濕法刻蝕設(shè)備，將酸霧通過下蓋板的通孔和上蓋板的排氣管口抽離，避免酸霧在上蓋板和下蓋板的表面凝結(jié)成酸性液滴而掉落到基板上，防止酸性液滴對基板刻蝕的影響，使對基板的刻蝕更均勻，從而提高產(chǎn)品良率。
文檔編號H01L21/67GK202363434SQ201120516758
公開日2012年8月1日 申請日期2011年12月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月12日
發(fā)明者劉劍釗, 吳代吾, 周伯柱, 張洪波, 王世凱, 耿軍, 訾玉寶, 鄭載潤 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司