專(zhuān)利名稱(chēng):分體式波導(dǎo)隔離器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種隔離器,特別是涉及一種分體式波導(dǎo)隔離器。
背景技術(shù):
現(xiàn)有傳統(tǒng)的分體式波導(dǎo)隔離器的隔離腔為整體腔,腔體內(nèi)部平整度差,尺寸不易保證,安裝非常不方便,效率低,且誤差大,容易造成安裝不一致的情況。有鑒于上述現(xiàn)有的分體式波導(dǎo)隔離器存在的缺陷,本設(shè)計(jì)人,積極加以研究創(chuàng)新, 以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的分體式波導(dǎo)隔離器,采用分體式設(shè)計(jì),使其更具有實(shí)用性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于,克服現(xiàn)有的分體式波導(dǎo)隔離器存在的缺陷,而提供一種新型結(jié)構(gòu)的分體式波導(dǎo)隔離器,所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其采用分體式設(shè)計(jì)的隔離腔,安裝方便,效率高,從而更加適于實(shí)用,且具有產(chǎn)業(yè)上的利用價(jià)值。本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是采用以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依據(jù)本發(fā)明提出的分體式波導(dǎo)隔離器,包括隔離腔和微波鐵氧體,所述隔離腔包括上腔體和下腔體,所述上腔體和所述下腔體通過(guò)自身的卡槽和凹槽進(jìn)行定位固定,在所述上腔體和所述下腔體的相對(duì)面上還分別對(duì)應(yīng)設(shè)有上金屬匹配塊和下金屬匹配塊,所述微波鐵氧體夾在所述上金屬匹配塊和所述下金屬匹配塊之間,所述微波鐵氧體與所述上金屬匹配塊之間設(shè)置有上介質(zhì)膜,所述微波鐵氧體與所述下金屬匹配塊之間設(shè)置有下介質(zhì)膜,吸收體設(shè)置在上腔體的凹槽內(nèi),所述吸收體與所述上腔體的凹槽相貼合,所述上腔體和所述下腔體上還分別設(shè)置有磁場(chǎng)腔,所述磁場(chǎng)腔內(nèi)均設(shè)置有永磁體,所述永磁體分別對(duì)應(yīng)通過(guò)上蓋板和下蓋板對(duì)應(yīng)封裝在所述上腔體和所述下腔體內(nèi)。前述的分體式波導(dǎo)隔離器,其中,所述上腔體上設(shè)置有安裝孔。前述的分體式波導(dǎo)隔離器,其中,所述下腔體上設(shè)置有安裝孔。前述的分體式波導(dǎo)隔離器,其中,所述下腔體上的安裝孔和所述上腔體上的安裝孔等大。前述的分體式波導(dǎo)隔離器,其中,所述微波鐵氧體為三角柱形含鎳TT2-101/3000 耐功率鐵氧體。前述的分體式波導(dǎo)隔離器,其中,所述上介質(zhì)膜和所述下介質(zhì)膜為三角形聚四氟乙烯介質(zhì)膜。借由上述技術(shù)方案,本發(fā)明分體式波導(dǎo)隔離器至少具有下列優(yōu)點(diǎn)
將隔離腔采用上腔體和下腔體分體式結(jié)構(gòu),便于安裝,提高了工作效率,微波鐵氧體分別與所述上金屬匹配塊和所述下金屬匹配塊之間分別對(duì)應(yīng)設(shè)置上介質(zhì)膜和下介質(zhì)膜,避免了鐵氧體與上金屬匹配塊以及下金屬匹配塊的接觸。通過(guò)在上腔體和下腔體上設(shè)置安裝孔,更便于固定本發(fā)明的分體式波導(dǎo)隔離器。綜上所述,本發(fā)明特殊結(jié)構(gòu)的分體式波導(dǎo)隔離器,其具有上述諸多的優(yōu)點(diǎn)及實(shí)用價(jià)值,從而更加適于實(shí)用。上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述,為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段, 并可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施,以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。
圖1為本發(fā)明所述的分體式波導(dǎo)隔離器的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、下腔體;2、上腔體;5、微波鐵氧體;6、吸收體;7、第一方形卡槽;8、第二方形卡槽;9、方形凹槽;10、螺栓孔;11、凸臺(tái);12、磁場(chǎng)腔;15、匹配陶瓷柱;31、下金屬匹配塊;32、上金屬匹配塊;41、下介質(zhì)膜;42、上介質(zhì)膜;131、第一永磁體;132、第二永磁體; 141、上蓋板;142、下蓋板。
具體實(shí)施例方式為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效,以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
詳細(xì)說(shuō)明如后。如圖1所示,分體式波導(dǎo)隔離器,包括隔離腔和微波鐵氧體5,隔離腔包括上腔體 2和下腔體1,上腔體2和下腔體1通過(guò)自身的卡槽和凹槽進(jìn)行定位固定,在上腔體2和下腔體1的相對(duì)面上還分別對(duì)應(yīng)設(shè)有上金屬匹配塊32和下金屬匹配塊31,微波鐵氧體5夾在上金屬匹配塊32和下金屬匹配塊31之間,微波鐵氧體5與上金屬匹配塊32之間設(shè)置有上介質(zhì)膜42,微波鐵氧體5與下金屬匹配塊31之間設(shè)置有下介質(zhì)膜41,這樣避免了鐵氧體5 與上金屬匹配塊32以及下金屬匹配塊31的接觸,吸收體6設(shè)置在上腔體2的凹槽內(nèi),吸收體6與上腔體2的凹槽相貼合,上腔體2和下腔體1還分別設(shè)置有磁場(chǎng)腔,磁場(chǎng)腔內(nèi)設(shè)置有第一永磁體131和第二永磁體132,第一永磁體131通過(guò)上蓋板141封裝在上腔體2內(nèi),第二永磁體132通過(guò)下蓋板142封裝在下腔體1內(nèi),在上腔體2和下腔體1上均設(shè)置有等大的安裝孔。本發(fā)明的另一個(gè)創(chuàng)新點(diǎn)在于,下腔體1上的安裝孔和上腔體2上的安裝孔等大,波鐵氧體5為三角柱形含鎳TT2-101/3000耐功率鐵氧體,上介質(zhì)膜42和下介質(zhì)膜41為三角形聚四氟乙烯介質(zhì)膜。以上所述,僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制,雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上,然而并非用以限定本發(fā)明,任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi),當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例,但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.分體式波導(dǎo)隔離器,包括隔離腔和微波鐵氧體,其特征在于,所述隔離腔包括上腔體和下腔體,所述上腔體和所述下腔體通過(guò)自身的卡槽和凹槽進(jìn)行定位固定,在所述上腔體和所述下腔體的相對(duì)面上還分別對(duì)應(yīng)設(shè)有上金屬匹配塊和下金屬匹配塊,所述微波鐵氧體夾在所述上金屬匹配塊和所述下金屬匹配塊之間,所述微波鐵氧體與所述上金屬匹配塊之間設(shè)置有上介質(zhì)膜,所述微波鐵氧體與所述下金屬匹配塊之間設(shè)置有下介質(zhì)膜,吸收體設(shè)置在上腔體的凹槽內(nèi),所述吸收體與所述上腔體的凹槽相貼合,所述上腔體和所述下腔體上還分別設(shè)置有磁場(chǎng)腔,所述磁場(chǎng)腔內(nèi)均設(shè)置有永磁體,所述永磁體分別對(duì)應(yīng)通過(guò)上蓋板和下蓋板對(duì)應(yīng)封裝在所述上腔體和所述下腔體內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分體式波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述上腔體上設(shè)置有安裝孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分體式波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述下腔體上設(shè)置有安裝孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的分體式波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述下腔體上的安裝孔和所述上腔體上的安裝孔等大。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分體式波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述微波鐵氧體為三角柱形含鎳TT2-101/3000耐功率鐵氧體。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分體式波導(dǎo)隔離器,其特征在于,所述上介質(zhì)膜和所述下介質(zhì)膜為三角形聚四氟乙烯介質(zhì)膜。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種分體式波導(dǎo)隔離器,包括隔離腔和微波鐵氧體,隔離腔包括上腔體和下腔體,在上腔體和下腔體的相對(duì)面上還分別對(duì)應(yīng)設(shè)有上金屬匹配塊和下金屬匹配塊,微波鐵氧體夾在上金屬匹配塊和下金屬匹配塊之間,微波鐵氧體與上金屬匹配塊之間設(shè)置有上介質(zhì)膜,微波鐵氧體與下金屬匹配塊之間設(shè)置有下介質(zhì)膜,避免了鐵氧體與上金屬匹配塊以及下金屬匹配塊的接觸,吸收體設(shè)置在上腔體的凹槽內(nèi),吸收體與上腔體的凹槽相貼合,上腔體和下腔體上還分別設(shè)置有磁場(chǎng)腔,磁場(chǎng)腔內(nèi)均設(shè)置有永磁體,永磁體分別對(duì)應(yīng)通過(guò)上蓋板和下蓋板對(duì)應(yīng)封裝在上腔體和下腔體內(nèi),將隔離腔采用上腔體和下腔體分體式結(jié)構(gòu),便于安裝,提高了工作效率。
文檔編號(hào)H01P1/36GK102420346SQ20111044624
公開(kāi)日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2011年12月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月28日
發(fā)明者程錦 申請(qǐng)人:南京廣順電子技術(shù)研究所