專利名稱：基板處理裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種在真空輸送室連接用于對基板進行處理的多個處理室的基板處
理裝置。
背景技術：
作為對形成有在平板顯示器(FPD ;Flat Panel Display)中被使用的玻璃基板、 半導體器件的半導體基板(半導體晶圓)等被處理體進行蝕刻處理、灰化(ashing)處理、 CVD(Chemical Vapor D印osition 化學氣相沉積法)等成膜處理的基板處理裝置，公知有在共用的真空輸送室連接多個處理室的多室(multi chamber)方式的基板處理裝置。該處理室由在內(nèi)部收納有基板并且上方側開口的容器主體、以及氣密地堵住該容器主體的開口部的蓋體構成，在進行處理室的內(nèi)部或設置于蓋體的氣體噴頭的維護時等， 蓋體從容器主體被取下。每當相對于容器主體開閉(裝卸)蓋體時，如在專利文獻1中所記載的那樣，公知有如下技術在每個處理室設置使蓋體從容器主體上升并向該容器主體的側方側滑動，使蓋體在該側方向側反轉(zhuǎn)的開閉機構。然而，由于為了在每個處理室設置開閉機構，除了開閉機構之外，還必須在每個處理室中確保使蓋體滑動的空間，因此裝置的占地面積(設置面積)變大。特別是，由于FPD 基板的大小是數(shù)米見方程度，因此即使是用于使處理室的蓋體滑動的空間也必須要有例如分別為3. OmX3. 5m左右的寬闊區(qū)域。另外，在該裝置中，由于需要按照處理室的個數(shù)來設置開閉機構，故會引起成本提高。專利文獻1 日本特開2007-67218號公報(參照圖1、圖19)

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述的事情而形成的，其目的在于提供一種在真空輸送室連接用于對基板進行處理的多個處理室的基板處理裝置中，能夠抑制裝卸處理室的蓋體的裝置的大型化且抑制占地面積增大的技術。本發(fā)明的基板處理裝置，其將預備真空室、以及用于對基板進行處理的多個處理室連接于在內(nèi)部設置有基板輸送機構的真空輸送室的周圍，所述多個處理室構成為在各個容器主體之上設置蓋體，該基板處理裝置的特征在于，具備旋轉(zhuǎn)臺，其在形成于所述真空輸送室之上的支承面上，以所述真空輸送室的中心部為旋轉(zhuǎn)中心繞鉛直軸可自由旋轉(zhuǎn)地被設置；回旋臂，其設置于該旋轉(zhuǎn)臺；以及蓋體保持機構，其設置于該回旋臂的前端部，且構成為為了相對于所述容器主體裝卸蓋體而保持蓋體進行升降，并且以保持蓋體的狀態(tài)通過所述處理室的上方。作為所述基板處理裝置的具體的方式，也可以是以下的結構。
構成為具備齒條，其為了使所述旋轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)而設置于所述支承面以及所述旋轉(zhuǎn)臺的一方，且沿著旋轉(zhuǎn)臺的周向設置；小齒輪，其設置于所述支承面以及所述旋轉(zhuǎn)臺的另一方，且在與所述齒條嚙合的同時進行旋轉(zhuǎn)；以及驅(qū)動部，其旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述小齒輪。構成為所述預備真空室構成為在容器主體之上設置蓋體，該蓋體通過所述蓋體保持機構相對于該容器主體進行裝卸。構成為在所述蓋體的上表面，設置有前端部從該上表面朝上方側延伸、并且沿橫向彎曲而形成卡止部的被保持部，在所述蓋體保持機構設置有保持部，該保持部一邊通過所述回旋臂的旋轉(zhuǎn)沿水平方向移動一邊進入到所述卡止部的下方側，之后上升，經(jīng)由所述卡止部舉起所述蓋體。構成為所述真空輸送室的俯視形狀形成為多邊形，在所述真空輸送室的側面中的一個側面的外側設置有用于維護蓋體的維護區(qū)域， 在其余的側面分別與所述預備真空室和處理室連接。構成為在所述維護區(qū)域，設置有保持從所述蓋體保持機構交接的蓋體并使該蓋體反轉(zhuǎn)的蓋體反轉(zhuǎn)機構。構成為所述真空輸送室具有六個側面，在所述側面連接一個所述預備真空室與四個處理室。根據(jù)本發(fā)明，在沿著真空輸送室的周圍配置的多個處理室中，使用于保持蓋體來進行裝卸(開閉)的蓋體保持機構共同化。并且，構成為在從真空輸送室上的旋轉(zhuǎn)臺延伸的回旋臂的前端側設置蓋體保持機構，從處理室取下的蓋體能夠在比處理室的排列靠上方側通過。因此，由于不需要在每個處理室確保載置蓋體的空間，故能夠抑制裝置的大型化， 抑制設置面積(占地面積)的增大。


圖1是表示實施方式所涉及的基板處理裝置的外觀結構的立體圖。圖2是所述基板處理裝置的俯視圖。圖3是表示所述基板處理裝置的處理室的一例的縱剖面圖。圖4是表示所述處理室的立體圖。圖5是表示所述基板處理裝置的蓋體反轉(zhuǎn)夾具的一例立體圖。圖6是表示所述基板處理裝置的蓋體輸送機構的一例的立體圖。圖7是表示所述蓋體輸送機構的縱剖面。圖8是表示所述蓋體輸送機構旋轉(zhuǎn)的樣子的俯視圖。圖9是表示所述蓋體輸送機構的蓋體保持機構的一例的立體圖。圖10是表示所述處理室的蓋體通過蓋體保持機構而被支承的樣子的立體圖。圖11是將所述基板處理裝置橫向展開從而表示多個處理室的展開圖。圖12是示意性地表示通過所述蓋體輸送機構取下蓋體的樣子的側視圖。圖13是示意性地表示通過所述蓋體輸送機構取下蓋體的樣子的側視圖。
圖14是示意性地表示通過所述蓋體輸送機構將蓋體輸送到蓋體反轉(zhuǎn)夾具的樣子的側視圖。圖15是示意性地表示通過所述蓋體輸送機構取下蓋體的樣子的側視圖。圖16是示意性地表示搬出真空輸送室的基板輸送機構的樣子的側視圖。圖17是示意性地表示搬出真空輸送室的基板輸送機構的樣子的俯視圖。圖18是表示所述基板處理裝置的其他例的俯視圖。圖19是表示所述基板處理裝置的其他例的剖視圖。圖20是表示所述基板處理裝置的其他例的剖視圖。圖21是表示所述基板處理裝置的其他例的剖視圖。圖22是表示所述基板處理裝置的其他例的剖視圖。圖23是表示所述基板處理裝置的其他例的剖視圖。附圖標記S…基板；4…真空輸送室；5…處理室；7…回旋臂；51···容器主體；52···蓋體； 53…被保持部；721…旋轉(zhuǎn)臺；722…齒條部；730…旋轉(zhuǎn)軸；733…小齒輪部；741…蓋體保持機構
具體實施例方式參照圖1及圖2，對作為本發(fā)明的實施方式所涉及的多室型的基板處理裝置的一例的、對FPD用的玻璃基板(以下，僅稱基板)S進行處理(在該例中，為蝕刻處理)的裝置的整體結構進行說明。圖1表示基板處理裝置的概觀的立體圖，圖2是表示基板處理裝置的內(nèi)部的橫截俯視圖。將在圖1中左手下(后述的大氣裝載部幻側稱為近前側，將右手上 (維護區(qū)域6)側稱為里側，該基板處理裝置從近前側向里側依次設置有大氣裝載部2、加載互鎖真空室(load lock chamber) 3、真空輸送室4以及維護區(qū)域6。在該真空輸送室4的周圍分別氣密地連接有多個例如4個處理室5。大氣裝載部2是在收納有多個基板S的運載器C與加載互鎖真空室3之間，在大氣環(huán)境氣中用于進行基板S的搬入搬出的區(qū)域，具備載置運載器C的運載器載置部200、以及在該運載器載置部200與作為預備真空室的加載互鎖真空室3之間輸送基板S的大氣側基板輸送機構23。在該例中，運載器載置部200以從近前側觀察相互朝左右分離的方式被設置于2個位置，在這些運載器載置部200、200之間設置有大氣側基板輸送機構23。大氣側基板輸送機構23具備分上下2段連續(xù)設置的輸送臂231、以及能夠進退自由、升降自由以及繞鉛直軸旋轉(zhuǎn)自由地支承這些輸送臂231的基臺部232。圖1中21是為了使運載器C 升降而設置于各運載器載置部200的升降機構，22是從下方側支承大氣側基板輸送機構的支承臺。設置于大氣裝載部2的里側的加載互鎖真空室3構成為，供基板S放置的環(huán)境可以在常壓(大氣)環(huán)境與真空環(huán)境之間切換，在該例中，分上下2段層疊。如圖2的俯視圖所示，這些加載互鎖真空室3分別具備從下方側支承基板S的緩沖器架32、以及引導基板 S的載置位置的定位器(positioner) 31。該加載互鎖真空室3具備上表面?zhèn)乳_口的大致箱型的容器主體(加載互鎖真空室3的下部分)51a、以及氣密地堵住該容器主體51a的開口部的蓋體(上部分)5 ，在該蓋體52a的上表面，設置有使該蓋體5 升降(裝卸)的被保持部53。關于這些的蓋體52a、被保持部53，與處理室5 —并進行說明。此外，在圖2 中，取下加載互鎖真空室3的蓋體52a以及真空輸送室4的頂板來表示這些加載互鎖真空室3以及真空輸送室4的內(nèi)部區(qū)域。如圖2所示，真空輸送室4的俯視形狀構成為多邊形，例如形成為正六邊形，多個處理室5相對于這些加載互鎖真空室3以及維護區(qū)域6在周向上分離并且以相互沿周向分離的方式氣密地與該真空輸送室4的6個側面中的、設置有加載互鎖真空室3以及維護區(qū)域6的側面以外的側面連接。在本實施例中，氣密地連接有4個處理室5。在該真空輸送室4內(nèi)，設置有為了在加載互鎖真空室3與各處理室5之間輸送基板S而被構成為可升降自由以及繞鉛直軸旋轉(zhuǎn)自由的基板輸送機構41。構成為，在該基板輸送機構41上，從下方側保持基板S的拾取(pick)部412可進退自由。處理室5是在內(nèi)部用于對基板S進行真空處理、在該例中進行蝕刻處理的立方體形狀的處理容器，為了收納一邊為2. 2m、另一邊為2. 5m左右大小的方形基板S，構成為例如橫截平面的一邊為3. 0m、另一邊為3. 5m左右大小。如所述的圖1所示，該處理室5具有上表面?zhèn)乳_口的大致箱型的容器主體(處理室5的下部分)51b、以及氣密地堵住該容器主體51b的開口部的蓋體(上部分)52b。并且，當處理室5的內(nèi)部區(qū)域減壓時，如圖3所示，蓋體52b經(jīng)由設置于容器主體51b的上表面的周緣部的由樹脂等構成的密封部件501，被氣密地拉向容器主體51b側。另外，當處理室5的內(nèi)部區(qū)域回到大氣環(huán)境時、或以稍變?yōu)檎龎旱姆绞奖患訅簳r，蓋體52b可自由從容器主體51b裝卸。在該蓋體52b的上表面的中央部，為了使該蓋體52b相對于容器主體51b升降(裝卸)，如圖1 圖4所示，前端部朝上方側伸出，并且沿橫向水平地彎曲而形成卡止部502的被保持部53被設置在2處。這些被保持部53、53以卡止部502、502彼此背向的方式被配置。各被保持部53、53分別以沿著以圖2的單點劃線所示的后述的回旋臂7(詳細地，蓋體保持機構741，741)的回旋線Li、L2的方式形成為圓弧狀。從該卡止部502的上端位置到蓋體52b的下端位置的高度尺寸形成為250 350mm左右。對于所述的加載互鎖真空室3 的蓋體52a，也設置有與該處理室5相同結構的被保持部53、53。如圖3以及圖4所示，在蓋體52b以及容器主體51b的外壁面，分別設置有對容器主體51b安裝蓋體52b時所使用的定位機構510、510。在該例中，定位機構510在從真空輸送室4觀察處理室5時的左右兩側，以每2組在前后方向相互分離的方式被設置。在容器主體51b的定位機構510，設置為了引導蓋體52b的升降動作而沿鉛直方向延伸的引導軸 (定位軸)511，在蓋體52b的定位機構510，設置有用于將該引導軸511在內(nèi)部收納且垂直地升降的環(huán)部件(定位塊)512。并且，在蓋體52b從容器主體51b的上方側下降而安裝于該容器主體51b時，以在水平方向環(huán)部件512與引導軸511相互重合的方式定位蓋體52b， 接著，環(huán)部件512以在內(nèi)部收納引導軸511的狀態(tài)沿著該引導軸511下降。此外，關于圖3 右側的定位機構510、510，為了描述引導軸511而切掉了一部分來進行表示。另外，在圖4 中省略了密封部件501以及處理室5內(nèi)的各部件等的記載。在所述的加載互鎖真空室3的蓋體52a以及容器主體51a都設置有這些定位機構510、510。此處，在以后的說明中，存在將這些容器主體51a、51b以及蓋體52a、52b分別統(tǒng)一用附圖標記“51 ”、“52”進行說明的情況。
接著，參照圖3，對該處理室5的內(nèi)部結構進行簡單的說明。處理室5形成為俯視形狀為四邊形，具有為了載置基板S而設置于容器主體51b的下方側的形成為下部電極的載置臺81、以及用于向該載置臺81上的基板S供給處理氣體(蝕刻氣體)的形成為上部電極的氣體噴頭82。在載置臺81，設置有用于靜電吸附基板S的未圖示的靜電卡盤。氣體噴頭82經(jīng)由絕緣部件83與蓋體52b的內(nèi)周壁連接。在圖3中，85為經(jīng)由真空排氣管84對處理室5的內(nèi)部環(huán)境進行真空排氣用的真空泵，86為從氣體供給管87經(jīng)由形成于氣體噴頭 82的下表面的氣體排出孔88，向處理室5的內(nèi)部供給處理氣體用的處理氣體源。此外，89 為高頻電源，90為絕緣部件，91為基板S的輸送口。另外，在該處理室5，為了在載置臺81 與所述的基板輸送機構41之間經(jīng)由輸送口 91進行基板S的交接，設置有對該載置臺81上的基板S從背面?zhèn)壬底杂傻爻鰶]的未圖示的升降銷。并且，將高頻電壓從高頻電源89經(jīng)由匹配器89a向氣體噴頭82施加從而使氯氣等處理氣體等離子體化，通過該等離子體，進行對形成于該基板S上的氧化鋁膜等的蝕刻處理。另外，在進行容器主體51b的內(nèi)部區(qū)域、氣體噴頭82的維護時，蓋體52b被取下。此外，在圖1、圖2中，為了圖示方便，示意性地表示處理室5。圖1中G是氣密地設置于在大氣裝載部2與加載互鎖真空室3之間、加載互鎖真空室3與真空輸送室4之間以及真空輸送室4與各處理室5之間的可開閉的閘閥。在真空輸送室4的側面中的與加載互鎖真空室3對置的側面，配置用于維護從處理室5、加載互鎖真空室3取下的所述蓋體52的維護區(qū)域6，該維護區(qū)域6作為對加載互鎖真空室3以及4個處理室5共用的區(qū)域被設置。如圖5所示，在維護區(qū)域6，設置有用于保持蓋體52從而使蓋體52反轉(zhuǎn)的蓋體反轉(zhuǎn)夾具61。該蓋體反轉(zhuǎn)夾具61具備蓋體反轉(zhuǎn)機構，該蓋體反轉(zhuǎn)機構由保持蓋體52的外周側底面部的框體部611、以及從真空輸送室4側觀察，繞水平軸可旋轉(zhuǎn)地支承框體部611的左右兩側的二邊各自長度方向的中央部的旋轉(zhuǎn)支承部613構成，經(jīng)由旋轉(zhuǎn)支承部613而由支柱部件612支承。蓋體反轉(zhuǎn)夾具61構成為，通過設置于支柱部件612的下端的后述的臺車部614而能夠行駛。圖5中，621為使旋轉(zhuǎn)支承部繞水平軸旋轉(zhuǎn)的馬達等旋轉(zhuǎn)機構，622為進入蓋體52 的定位機構510的環(huán)部件512的內(nèi)部區(qū)域且引導蓋體52的升降動作的引導軸。在設置有該引導軸622的定位機構623上設置有螺栓孔624，該螺栓孔6M用于在定位機構623與蓋體52的定位機構510之間通過螺栓緊固來固定框體部611與蓋體52。此外，對蓋體反轉(zhuǎn)夾具61以及處理室5的定位機構510，在圖3、圖4以及圖5之外省略描述。另外，維護區(qū)域6兼作從真空輸送室4取出基板輸送機構41的區(qū)域，在該維護區(qū)域6側的真空輸送室4的側壁，形成有用于從作為該真空輸送室4的內(nèi)部區(qū)域的輸送空間 401取出基板輸送機構41的開口部431。該開口部431通過未圖示的開閉部件，開閉自由地、氣密地被關閉。在該例中，加載互鎖真空室3、4個處理室5以及維護區(qū)域6，以從真空輸送室4的中央部觀察時利用后述的回旋臂7進行蓋體52的交接的各個位置排列于一個圓周上的方式，從真空輸送室4呈放射狀配置。另外，如圖6所示，該基板處理裝置具備蓋體輸送機構，該蓋體輸送機構構成為包含設置于真空輸送室4的上方的旋轉(zhuǎn)臺721 ；基端側固定于該旋轉(zhuǎn)臺721，另一端側(前端部)延伸到真空輸送室4的外側的回旋臂7 ；以及設置于該回旋臂7的前端部，用于裝卸處理室5的蓋體52且輸送蓋體52的蓋體保持機構741。若對這些各部分進行說明，則在真空輸送室4之上形成有支承面。該支承面也可以兼作真空輸送室4的頂板面的上表面，或也可以構成為經(jīng)由從地面延伸的支承部件在真空輸送室4的上方設置支承板，通過該支承板的上表面構成該支承面。在本實施方式中，以將真空輸送室4的頂板部的上表面(詳細地， 設置于真空輸送室4之上的板狀體)作為支承面為例，對使用所述支承板的例子在后面進行說明。在構成真空輸送室4的頂板面的頂板701的上表面(支承面)，設置有作為沿著以真空輸送室4的中心部為中心的圓形成為環(huán)狀的引導部件的導軌702。此外，該頂板701 包括層疊多個板構成的結構。在該導軌702上設置有與所述圓為同心圓的旋轉(zhuǎn)臺721。如圖7所示，該旋轉(zhuǎn)臺721在嵌合于導軌702的狀態(tài)下，通過螺絲705被固定于在該導軌702 被引導的被引導部件703之上。被引導部件703在導軌702的周向等間隔地設置多個，其設置個數(shù)沒有限定，例如優(yōu)選為12個以上。在旋轉(zhuǎn)臺721的外周側的頂板701上，設置有與所述圓為同心圓狀的、遍及整周在外側面形成有齒輪部723的環(huán)狀的齒條部722。另外，在旋轉(zhuǎn)臺721的齒條部722的外側部位，與齒條部722嚙合的、可繞鉛直軸旋轉(zhuǎn)自由的小齒輪部(行星齒輪)733朝旋轉(zhuǎn)臺721的下方側突出地設置。該小齒輪部733的旋轉(zhuǎn)軸730構成為，通過形成旋轉(zhuǎn)臺721上的驅(qū)動部的馬達736經(jīng)由減速機735旋轉(zhuǎn)。因此，如果通過馬達736使小齒輪部733旋轉(zhuǎn)，則旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)。馬達736構成為，安裝未圖示的編碼器，能夠通過該編碼器的編碼器值來控制真空輸送室4上的旋轉(zhuǎn)臺721的旋轉(zhuǎn)位置，即，蓋體保持機構741的位置。此外，在圖6中， 切掉了基板處理裝置的一部分進行描述?；匦?具備沿長度方向相互分離的2塊梁板712、712，以及在這些梁板712、712 之間在多個位置將這些梁板712、712連結起來的連結部件711。此外，這些梁板712、712以形成為在前端部保持的蓋體52的配重(counter weight)的方式，形成為基端側(真空輸送室4側)較粗、前端側較細。此處，如圖6以及圖8(a)所示，在真空輸送室4的頂板701，設置有堵住用于將基板輸送機構41搬入搬出的開口部的矩形的蓋710。另外，在旋轉(zhuǎn)臺721設置有比蓋710大的矩形的切口部700，并且在回旋臂7的梁板712、712以及通過連結部件711包圍的底板的區(qū)域，比蓋710大的矩形的切口部720對應于所述切口部700而形成。根據(jù)這樣的結構，通過在切口部700、720中收納蓋710的旋轉(zhuǎn)位置使旋轉(zhuǎn)臺721停止，能夠進行取下蓋710來搬入搬出基板輸送機構41等作業(yè)。此外，在該圖8(a)中示意性地示出2塊梁板712、712 間的分離尺寸。如圖1以及圖9所示，蓋體保持機構741具備保持所述的蓋體52的被保持部53 的保持部743、以及升降自由地支承該保持部743的升降機構742。在該例中，在回旋臂7 的長度方向相互對置地設置有一對的保持部743、743。這些保持部743將垂直于各自下方側延伸的垂直片744的前端以相互相向的方式彎曲形成為L字狀，從真空輸送室4的中心觀察，內(nèi)側的垂直片744以及外側的垂直片744以分別沿著以圖2中單點劃線表示的Li、 L2的方式形成為圓弧狀。并且，這些垂直片744、744設定為，以與蓋體52上的卡止部502、 502卡止的方式定位，并且該垂直片744、744的下端部以沿著這些卡止部502、502的前端部的方式形成為圓弧狀。
保持部743、743通過作為升降機構742的千斤頂機構751升降自由地被設置。該千斤頂機構751構成為通過利用升降馬達7M使與保持部743螺合的垂直的螺紋軸752旋轉(zhuǎn)，保持部743能夠一邊被引導部件753引導一邊升降。因此，當通過該蓋體保持機構741來舉起蓋體52時，如圖10(a)所示，以垂直片 744的上端面處于卡止部502的下端面之下的方式驅(qū)動千斤頂機構751，并以該垂直片744 進入到卡止部502的下側的區(qū)域的方式使旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)。接著，如同圖(b)所示，通過驅(qū)動千斤頂機構751而使蓋體保持機構741上升，由此將蓋體52從容器主體51取下。蓋體 52的取下在處理室5、加載互鎖真空室3的內(nèi)部環(huán)境設定為大氣環(huán)境或者少許加壓環(huán)境來進行。此外，在圖10中，切掉了蓋體52進行表示。另外，在容器主體51或者蓋體反轉(zhuǎn)夾具61安裝蓋體52時，以與舉起蓋體52時相反的順序使蓋體保持機構741進行動作。S卩，以保持蓋體52的蓋體保持機構741位于容器主體51或者蓋體反轉(zhuǎn)夾具61的上方位置的方式使旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)，接著驅(qū)動千斤頂機構 751使蓋體52下降。此時，如上述那樣，通過定位機構510，蓋體52以朝向安裝位置垂直下降的方式被引導。并且，在容器主體51或者蓋體反轉(zhuǎn)夾具61上載置了蓋體52后，使蓋體保持機構741進一步下降以使得卡止部502與垂直片744的卡定脫離，接著，使旋轉(zhuǎn)臺721 旋轉(zhuǎn)從而使蓋體保持機構741從該蓋體52向側方側退避到脫離的區(qū)域。這樣一來，在處理室5、加載互鎖真空室3中，通過對內(nèi)部的環(huán)境進行減壓，蓋體52相對于容器主體51氣密地連接。另外，在蓋體反轉(zhuǎn)夾具61中，經(jīng)由螺栓孔6M將框體部611與蓋體52固定，然后反轉(zhuǎn)蓋體52。此處，如圖11所示，蓋體保持機構741通過千斤頂機構751而升降的升降行程Z 被設定為使保持部743從一個處理室5或者加載互鎖真空室3取下的蓋體52，不與其他的處理室5或者加載互鎖真空室3的蓋體52干涉地旋轉(zhuǎn)的尺寸、例如IOOOmm左右。此外， 圖11是示意性表示沿著旋轉(zhuǎn)臺721的旋轉(zhuǎn)方向切斷真空輸送室4，沿著該切面將加載互鎖真空室3、4個處理室5以及維護區(qū)域6左右展開的展開圖。在該圖11中，對蓋體保持機構 741以及被保持部53的朝向，示意性地改變90°朝向描述。另外，在所述的蓋體反轉(zhuǎn)夾具 61上載置蓋體52后的高度位置被設定為，與在處理室5、加載互鎖真空室3上安裝了蓋體 52后的高度位置相同的高度。另外，如圖2所示，基板處理裝置具備控制部8。該控制部8由具備未圖示的CPU、 存儲部等的計算機構成，在存儲部記錄有編寫了用于控制在基板處理裝置進行基板S的蝕刻處理等工序時的動作，以及輸送所述蓋體52的動作的步驟(命令)群的程序。該程序被收納于硬盤、光盤、磁光盤、存儲器卡等存儲介質(zhì)中，從該存儲介質(zhì)安裝于計算機。以下，參照圖12 圖16，對本實施方式的基板處理裝置的作用進行說明。首先，對在該基板處理裝置中對基板S進行通常的蝕刻處理時的情況進行簡單的說明。首先，使用大氣側基板輸送機構23從運載器載置部200上的運載器C取下基板S，并將該基板S搬入到加載互鎖真空室3。從該加載互鎖真空室3使大氣側基板輸送機構23退避后，對加載互鎖真空室3內(nèi)進行真空排氣。接著，通過基板輸送機構41將基板S搬入到處理室5，使基板輸送機構41從處理室5退避。并且，如上述那樣，在處理室5中，通過在基板S的上方空間形成等離子體，對該基板S進行蝕刻處理。之后，該基板S以與搬入到處理室5的順序相反的順序返回到運載器C。在進行這樣一系列的處理時，蓋體保持機構741在不與蓋體52的被保持部53干涉的位置，例如在維護區(qū)域6的上方區(qū)域，在比蓋體52的卡止部502的高度水平靠上方側待機。接下來，對進行加載互鎖真空室3、處理室5的內(nèi)部區(qū)域、蓋體52的維護情況進行說明。在該例中，舉例維護這些加載互鎖真空室3以及4個處理室5中的從加載互鎖真空室3起逆時針方向鄰接的處理室5的情況進行說明。首先，預先取下與該處理室5的蓋體 52b連接的布線(從高頻電源89導出的供電線)、氣體供給管87等用力線。另外，關閉該處理室5與真空輸送室4之間的閘閥G，將該處理室5的內(nèi)部環(huán)境設定為大氣環(huán)境或者少許加壓環(huán)境。并且，如圖12 (a)所示，以蓋體保持機構741位于從進行維護的處理室5的被保持部53向側方側偏離的區(qū)域的上方側的方式，使旋轉(zhuǎn)臺721(詳細地，馬達736)旋轉(zhuǎn)。在圖 12以及后述的圖13中，與所述圖11相同，對蓋體保持機構741以及保持部743將朝向改變 90°進行描述。接著，如圖12(b)所示，驅(qū)動千斤頂機構751使蓋體保持機構741下降。接著，在蓋體保持機構741 (垂直片744)的上表面與卡止部502的下端面之間形成有縫隙的高度位置，使旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)從而使蓋體保持機構741沿水平方向回旋。并且，如所述圖10以及圖12(c)所示，使保持部743位于卡止部502的下方側，并且使蓋體保持機構741上升，使這些卡止部502與保持部743卡合。接著，如圖13(a)所示，如果使保持部743 (蓋體保持機構741)進一步上升，則由于保持部743固定了卡止部502，故蓋體52b與蓋體保持機構 741—同上升。并且，如圖13(b)所示，在由蓋體保持機構741取下的蓋體52b不與其他的蓋體52 干涉(碰撞)的高度位置，將該蓋體52b經(jīng)由其他的蓋體52的上方區(qū)域朝向維護區(qū)域6進行輸送。之后，如圖13(c)以及圖14(a)所示，從該維護區(qū)域6的上方位置使蓋體52b下降， 通過該蓋體52b的定位機構510與蓋體反轉(zhuǎn)夾具61的定位機構510之間的配合作用，將該蓋體52b設置于蓋體反轉(zhuǎn)夾具61上。接著，為了解除卡止部502與垂直片744的卡止，使蓋體保持機構741稍微下降，并且將該蓋體保持機構741從維護區(qū)域6朝側方側退避。之后，該蓋體保持機構741為了取下其他的蓋體52，上升到不與被保持部53干涉(碰撞)的高度位置例如蓋體52的上方側之后，沿水平進行回旋。在該蓋體反轉(zhuǎn)夾具61中，如所述那樣，經(jīng)由螺栓孔擬4將該蓋體反轉(zhuǎn)夾具61與蓋體52b固定，如圖14(b)所示，反轉(zhuǎn)蓋體52b來對所述氣體噴頭82進行維護。另外，對取下了該蓋體52b的容器主體51b進行維護。如同圖(c)所示，該蓋體52b的維護也可以經(jīng)由臺車部614將蓋體反轉(zhuǎn)夾具61輸送到離開維護區(qū)域6的區(qū)域來進行。維護結束后，蓋體52b 恢復到原來的朝向，蓋體52b以與輸送到蓋體反轉(zhuǎn)夾具61的順序相反的順序被輸送到容器主體51b。此時，也可以在將一個蓋體52輸送到蓋體反轉(zhuǎn)夾具61后，取下其他的蓋體52，并且該其他的蓋體52通過蓋體保持機構741被保持，對該一個以及其他的容器主體51、51進行維護。作為這樣的情況的具體例，圖15表示將與加載互鎖真空室3的順時針方向鄰接的蓋體52b輸送到維護區(qū)域6之后，也取下加載互鎖真空室3的蓋體52a，對這2個容器主體 51a, 51b進行維護的情況。接下來，對取下基板輸送機構41時的動作進行說明。此時，將蓋體反轉(zhuǎn)夾具61從維護區(qū)域6退避，并且將真空輸送室4設定為大氣環(huán)境之后，取下氣密地堵住所述的開口部 431的開閉部件421 (圖16(a)，圖17(a))。并且，將基板輸送機構41與設置于該基板輸送機構41的下方側的驅(qū)動機構411分開，將基板輸送機構41從開口部431搬出到基板處理裝置的外部(圖16(b)，圖17(b))。另外，取下驅(qū)動機構411時也同樣地取下覆蓋設置有驅(qū)動機構411的機械室402的側方側的開口部432的開閉部件422，從該開口部432搬出驅(qū)動機構411 (圖16(c))。此外，圖16中44為氣密地劃分輸送空間401與機械室402的床面， 413為氣密地設置于床板44與基板輸送機構41之間的波紋管。在上述的實施方式中，在沿著真空輸送室4的周圍配置的多個處理室5中，使用于保持蓋體52來進行裝卸(開閉)的蓋體保持機構741共同化。并且，構成為在從真空輸送室4上的旋轉(zhuǎn)臺721伸出的回旋臂7設置蓋體保持機構741，在保持處理室5或者加載互鎖真空室3的蓋體52的狀態(tài)下，蓋體保持機構741能夠沿著真空輸送室4的周向通過處理室5的上方區(qū)域且進行旋轉(zhuǎn)。因此，由于不需要針對每個處理室5、加載互鎖真空室3確保載置蓋體52的空間，故能夠抑制裝置的大型化，抑制設置面積(占地面積)的增大。另外，與在每個處理室5、加載互鎖真空室3設置蓋體52的裝卸機構的結構相比，能夠降低裝置的成本。另外，即便在一個處理室5取下了蓋體52b的狀態(tài)下，在其他的處理室5中也能夠繼續(xù)基板S的處理。并且，由于在旋轉(zhuǎn)臺721之上設置了回旋臂7，通過齒條部722與小齒輪部733使旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)，故即便因基板S的大型化而引起回旋臂7、蓋體52以及蓋體保持機構741的重量變大也能夠進行穩(wěn)定的驅(qū)動。另外，在裝卸蓋體52時，垂直片744在卡止部502的下方側水平移動，使這些卡止部502與垂直片744卡合，故不需要用于開動以夾住卡止部502、502的方式對置的保持部 743的機構，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的簡單化以及低成本化。另外，由于在蓋體52、容器主體51 以及蓋體反轉(zhuǎn)夾具61設置定位機構510，故能夠簡單地裝卸蓋體52。另外，由于除裝卸蓋體52的回旋臂7之外，進行蓋體52的維護的維護區(qū)域6也在加載互鎖真空室3以及4個處理室5中共同化，故能夠進一步實現(xiàn)裝置的節(jié)省空間化以及低成本化。另外，由于能夠從維護區(qū)域6側的真空輸送室4的側壁取出基板輸送機構41，故與使用起重機等經(jīng)由真空輸送室4的頂板面舉起的情況相比，不需要設置起重機，并且能夠簡單地搬出基板輸送機構41。另外，在真空輸送室4的上表面設置回旋臂7時，由于使用梁板712、712使真空輸送室4的頂板面的蓋710不被塞住，故能夠進行基板輸送機構41的取出。另外，在進行設置于真空輸送室4與處理室5之間的閘閥G的維護時，以使蓋體保持機構741退避到離開了該處理室5的區(qū)域的方式使回旋臂7旋轉(zhuǎn)，從而利用該回旋臂7不會妨礙維護作業(yè)。回旋臂7的結構并不局限于圖1所示的單臂梁式的回旋臂7的例子，如圖18所示， 也可以將真空輸送室4的中央部作為基點向兩側使回旋臂7伸長，在這些回旋臂7、7的前端部設置蓋體保持機構741、741。另外，齒條部722以及小齒輪部733的位置關系并不局限于之前的實施方式的結構，如圖19所示，也可以是將在內(nèi)周側形成有齒輪部723的齒條部722配置于外周側，將小齒輪部733配置于內(nèi)側的結構。另外，如圖20所示，也可以在齒條部722的上表面形成齒輪部723，在該齒條部722上以繞水平軸旋轉(zhuǎn)的方式設置小齒輪部733。另外，如圖21所示，也可以將齒條部722形成于旋轉(zhuǎn)臺721的周緣部，并且將小齒輪部733設置于支承面上。另外，代替將旋轉(zhuǎn)臺721設定為圓形狀，如圖22所示，也可以以包圍齒條部722的方式形成為環(huán)狀。此外，也可以在將齒條部722配置于支承面的結構中，將小齒輪部733設置于回旋臂 7。在該情況下，能夠稱之為將小齒輪部733經(jīng)由旋轉(zhuǎn)臺721設置于回旋臂7的結構，相當于權利要求書中的“設置于旋轉(zhuǎn)臺”結構。另外，在之前說明了也可以不將旋轉(zhuǎn)臺721、回旋臂7設置于真空輸送室4的頂板面，而經(jīng)由從床面延伸的支承部件設置于真空輸送室4的上方區(qū)域的情況，在此參照圖23 對這樣的結構進行說明。在該圖23中，801為在從真空輸送室4的周圍的地面垂直延伸到比真空輸送室4的頂板面的高度位置靠上方側的支承部件，該支承部件801在該真空輸送室4的周圍等間隔地設置在多個位置。并且，支承板802以將真空輸送室4從上方側覆蓋的方式水平地設置于這些支承部件801的上端側。在該支承板802上設置有所述的旋轉(zhuǎn)臺 721、導軌702以及回旋臂7。在這樣設置了支承板802的情況下，由于回旋臂7、蓋體52的負載不施加于真空輸送室4，故不需要對基板處理裝置進行改造、施工等。此外，在圖23中簡化基板處理裝置的記載進行表示。在以上說明中，本發(fā)明也可以在齒條部722以及支承面的一方以及另一方分別設置夾送輥與壓接于該夾送輥的環(huán)上的引導件，通過夾送輥的旋轉(zhuǎn)使旋轉(zhuǎn)臺721旋轉(zhuǎn)。該情況的夾送輥以及引導件分別相當于在本發(fā)明提到的小齒輪部733以及齒條部722。作為裝卸蓋體52的機構，通過使蓋體保持機構741水平地滑動(回旋)，從而保持部743位于卡止部502的下方側，也可以在蓋體保持機構741設置驅(qū)動機構，以夾住被保持部53、53的方式驅(qū)動保持部743。另外，使旋轉(zhuǎn)臺721的旋轉(zhuǎn)中心位于水平方向的真空輸送室4的中央部，但該真空輸送室4的中央部并不意味著是該真空輸送室4的中心位置，也包含相對于連結加載互鎖真空室3、4個處理室5以及維護區(qū)域6的各自的中央位置而形成的圓，蓋體保持機構741的回旋線L偏心的情況。作為千斤頂機構751，也可以將各自的螺紋軸752分割為上下2半，抑制該千斤頂機構751的高度尺寸。另外，也可以不設置蓋體反轉(zhuǎn)夾具61，在通過蓋體保持機構741舉起的狀態(tài)下進行氣體噴頭82的維護。另外，作為固定蓋體反轉(zhuǎn)夾具61與蓋體52的機構， 也可以是在蓋體反轉(zhuǎn)夾具61上載置蓋體52時自動地被固定的機構。另外，作為在對基板 S進行蝕刻處理時的蓋體保持機構741的待機位置，除維護區(qū)域6的上方位置以外，只要是不與基板S的處理、輸送干涉的位置即可，也可以是處理室5、加載互鎖真空室3的上方位置等。另外，作為該蓋體保持機構741待機時的高度位置，也可以設定為垂直片744位于卡止部502的下方側。另外，也可以通過使回旋臂7伸縮，將蓋體52從一個處理室5經(jīng)由真空輸送室4的上方區(qū)域輸送到維護區(qū)域6。在該情況下，回旋臂7也可以構成為，如上述那樣以通過小齒輪部733以及齒條部722進行旋轉(zhuǎn)，并且以蓋體保持機構741沿著回旋臂7的長度方向能夠進退的方式在梁板712、712的長度方向的中途部位彎曲的多關節(jié)的臂。另外，作為處理室5，并不局限于基板S的蝕刻處理，也可以是進行CVD等的成膜處理、灰化處理等的真空處理的結構。另外，處理室5的數(shù)量也可以是2個 3個或者5個以上。因此，從上方側觀察真空輸送室4時的形狀為多邊形，例如也可以是三角形、四邊形或七邊形等，也可以為圓形。并且，作為在基板處理裝置中進行處理的基板S，除方形的玻璃基板S以外，也可以是半導體晶圓等圓形基板。
權利要求
1.一種基板處理裝置，其將預備真空室以及用于對基板進行處理的多個處理室連接于在內(nèi)部設置有基板輸送機構的真空輸送室的周圍，所述多個處理室構成為在各個容器主體之上設置蓋體，該基板處理裝置的特征在于，具備旋轉(zhuǎn)臺，其在形成于所述真空輸送室之上的支承面上，以所述真空輸送室的中心部為旋轉(zhuǎn)中心繞鉛直軸可自由旋轉(zhuǎn)地被設置；回旋臂，其設置于該旋轉(zhuǎn)臺；以及蓋體保持機構，其設置于該回旋臂的前端部，且構成為為了相對于所述容器主體裝卸蓋體而保持蓋體進行升降，并且以保持蓋體的狀態(tài)通過所述處理室的上方。
2.根據(jù)權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，具備齒條，其為了使所述旋轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)而設置于所述支承面以及所述旋轉(zhuǎn)臺的一方，且沿著旋轉(zhuǎn)臺的周向設置；小齒輪，其設置于所述支承面以及所述旋轉(zhuǎn)臺的另一方，且在與所述齒條嚙合的同時進行旋轉(zhuǎn)；以及驅(qū)動部，其旋轉(zhuǎn)驅(qū)動所述小齒輪。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，所述預備真空室構成為在容器主體之上設置蓋體，該蓋體通過所述蓋體保持機構相對于該容器主體進行裝卸。
4.根據(jù)權利要求1 3中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述蓋體的上表面，設置有前端部從該上表面朝上方側延伸、并且沿橫向彎曲而形成卡止部的被保持部，在所述蓋體保持機構設置有保持部，該保持部一邊通過所述回旋臂的旋轉(zhuǎn)沿水平方向移動一邊進入到所述卡止部的下方側，之后上升，經(jīng)由所述卡止部舉起所述蓋體。
5.根據(jù)權利要求1 4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，所述真空輸送室的俯視形狀形成為多邊形，在所述真空輸送室的側面中的一個側面的外側設置有用于維護蓋體的維護區(qū)域，在其余的側面分別與所述預備真空室和處理室連接。
6.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，在所述維護區(qū)域，設置有保持從所述蓋體保持機構交接的蓋體并使該蓋體反轉(zhuǎn)的蓋體反轉(zhuǎn)機構。
7.根據(jù)權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，所述真空輸送室具有六個側面，在所述側面連接一個所述預備真空室與四個處理室。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板處理裝置，在真空輸送室連接用于對基板進行處理的多個處理室的基板處理裝置中，能夠抑制裝卸處理室的蓋體的裝置的大型化且抑制占地面積增大。使用于保持蓋體(52)并進行裝卸(開閉)的蓋體保持機構(741)共通化。并且構成為，在從真空輸送室(4)上的旋轉(zhuǎn)臺(721)延伸的回旋臂(7)設置蓋體保持機構(741)，在保持處理室(5)或者加載互鎖真空室(3)的蓋體(52)的狀態(tài)下，蓋體保持機構(741)能夠沿著真空輸送室(4)的周向通過并回旋于處理室(5)的上方區(qū)域。
文檔編號H01L21/00GK102290327SQ20111017568
公開日2011年12月21日 申請日期2011年6月20日 優(yōu)先權日2010年6月21日
發(fā)明者田中善嗣, 笠原稔大, 羽鳥一成 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社