專利名稱：用于降低裝載鎖中的壓力的方法和相關(guān)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于將基板裝載鎖中的壓力從大氣壓力降低到低壓以將基板載入維持在低壓的處理室中并且將該基板從該處理室中卸載的方法。本發(fā)明還涉及一種包括裝載鎖的適于實(shí)現(xiàn)所述方法的設(shè)備，例如用于制造半導(dǎo)體元件的設(shè)備。
背景技術(shù)：
一些制造方法包括這樣一個重要的步驟，其中基板在設(shè)備的處理室中的壓力非常低的受控大氣中被處理。例如，在半導(dǎo)體元件制造方法中，期望保持半導(dǎo)體基板在非常低的壓力下以執(zhí)行等離子蝕刻或沉積。為了維持可接受的生產(chǎn)率并且避免任何雜質(zhì)或污染的出現(xiàn)，圍繞基板的大氣壓力最初被與處理室連通的裝載鎖降低至較低的級別。為此，所述裝載鎖包括具有第一門的氣密室，該室內(nèi)部借助于該第一門與大氣壓力下的區(qū)域連通，例如清潔室或設(shè)備小環(huán)境，從而裝載至少一個基板。所述裝載鎖的室連接到氣體泵送系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠?qū)⒃撌抑械膲毫档偷脚c處理室中相似的合適的低級別，從而使得該基板能夠被傳送至處理室。所述裝載鎖還包括用于在基板從所述裝載鎖撤離之后將該基板卸載至處理室或傳送室中的第二門。在設(shè)備包括多個處理室的情況下，裝載鎖與保持為低壓的傳送室連通，該傳送室然后將基板送到各種不同的處理室中。通過使用裝載鎖，可以減少從大氣壓改變成低傳送壓力所需要的時間。也可以減小處理室或傳送室中的污染。所述裝載鎖中的壓力通常以兩個連續(xù)步驟而逐漸降低。在第一步驟中，從大氣壓至第一特征閾值而執(zhí)行較慢的主泵送。慢泵送對于防止圍繞基板的裝載鎖氣體環(huán)境中的特定氣體類型的凝固(例如防止出現(xiàn)水結(jié)晶)而言是必不可少的。在第二步驟中，氣體環(huán)境被降低到合適的低壓以通過較快的主泵送來傳送。然而， 可以看出，傳送壓力下的殘余氣體混合物中的水蒸氣的部分壓力并沒有很好地被主泵送系統(tǒng)排出。水蒸氣對于基板是相對有害的，并且因而會降低生產(chǎn)效率，特別是在半導(dǎo)體制造過程中對基板金屬層的腐蝕。此外，在降低裝載鎖中的大氣壓力的過程中，不可避免要進(jìn)行基板的脫氣，并且在將基板引入處理室中之前充分地實(shí)現(xiàn)這種脫氣是很重要的。如果沒有充分實(shí)現(xiàn)脫氣，則在處理室中繼續(xù)進(jìn)行脫氣，并且來自后一次脫氣的氣體構(gòu)成處理過程中的附加污染源。WO 01/81651公開了一種包括主泵的氣體泵送系統(tǒng)，該主泵通過泵送電路連接到裝載鎖以泵送氣體直到達(dá)到合適的傳送壓力。渦輪分子泵被插入主泵與裝載鎖之間的泵送電路中。氣體控制裝置被提供以適配主泵的速度從而避免裝載鎖中的氣體的任何冷凝或凝固。渦輪分子泵是連接到裝載鎖的唯一泵送單元。然而，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)使用渦輪分子泵從大氣壓開始泵送會產(chǎn)生渦輪分子泵的可靠性問題并且使得泵送的噪聲較大。另外，用來適配泵送速度的主泵的驅(qū)動裝置的實(shí)現(xiàn)較為復(fù)雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的因而是通過提出一種用于降低設(shè)備的裝載鎖中的壓力的方法來解決現(xiàn)有技術(shù)問題，該方法簡單、實(shí)現(xiàn)成本低、簡潔并且能夠在減少殘余水蒸汽量時防止高壓下的特定類型的氣體凝固從而避免其傳播至低壓下的處理或傳送室，而不會阻礙基板傳送至處理室中。該方法還旨在改進(jìn)傳送壓力下的基板的脫氣。本發(fā)明還提出了一種用于實(shí)現(xiàn)該方法的設(shè)備。為此，本發(fā)明提出了一種用于將設(shè)備的裝載鎖中的壓力從大氣壓力降低至低于大氣壓的傳送壓力的方法，所述裝載鎖包括其中在大氣壓下放置了至少一個基板的室，和包括主泵和渦輪分子泵的氣體泵送系統(tǒng)，該渦輪分子泵的吸入口經(jīng)由第一隔離閥連接到所述室并且其排放側(cè)在所述主泵的上游連接到主泵送電路，所述氣體泵送系統(tǒng)還包括所述渦輪分子泵的旁通電路，其一方面與位于所述第一隔離閥上游的所述室通信，另一方面與所述主泵送電路通信，該旁通電路包括具有可以被激活的限流裝置的第二隔離閥，并且所述主泵送電路包括位于所述渦輪分子泵的排放側(cè)與該旁通電路之間的第三隔離閥，該方法包括-第一步驟，其中所述第一和第三隔離閥關(guān)閉而所述限流裝置針對其而被激活的第二隔離閥打開，從而通過其泵送速度受限的主泵的旁通電路執(zhí)行從大氣壓至第一特征閾值的第一主泵送，工作狀態(tài)下的渦輪分子泵的吸入口與所述室隔離開并且該渦輪分子泵的排放側(cè)與所述主泵隔離開，-第一步驟后的第二步驟，其中所述第二隔離閥的限流裝置被禁用從而執(zhí)行比第一步驟更快的第二主泵送直到第二特征閾值，同時維持所述渦輪分子泵的隔離，以及-第二步驟后的第三步驟，其中所述第一和第三隔離閥打開而所述第二隔離閥關(guān)閉從而借助于位于主泵送上游的渦輪分子泵送而執(zhí)行次級泵送，其中所述室與所述主泵隔開。這迅速降低了鎖室內(nèi)的總壓力，并且因而也降低了水蒸汽部分壓力。另外，渦輪分子泵通常保持在低壓下全速工作，這因而增長了它的服務(wù)壽命并且使得泵送能夠在隔離閥被打開時立即在所述室中被執(zhí)行。單獨(dú)地或組合地考慮根據(jù)所述方法的一個或多個特征，-該方法包括第三步驟之后的第四步驟，其中所述第一隔離閥關(guān)閉，而第二隔離閥打開從而當(dāng)達(dá)到第三特征閾值時通過隔離所述渦輪分子泵而重新開始主泵送，其中所述限流裝置已經(jīng)針對該第二隔離閥而被禁用，-在第四步驟期間注入惰性氣體，-所述第一和/或第二和/或第三特征閾值是預(yù)先確定的時間間隔，-所述第一和/或第二和/或第三特征閾值是預(yù)先確定的壓力級別，-當(dāng)所述室接收請求卸載所述基板的信號時重新開始所述第二主泵送。本發(fā)明還提出了一種用于實(shí)現(xiàn)上述降低壓力的方法的設(shè)備，包括裝載鎖，該裝載鎖包括用于將至少一個基板的環(huán)境壓力從大氣壓降低到低于大氣壓的傳送壓力的室，以及至少一個處理室，該處理室與所述裝載鎖連通以在傳送壓力下將所述基板傳送到該處理室，所述裝載鎖包括氣體泵送系統(tǒng)，該氣體泵送系統(tǒng)包括主泵和渦輪分子泵，該渦輪分子泵的吸入口經(jīng)由第一隔離閥連接到所述室并且其排放側(cè)在所述主泵的上游連接到主泵送電路，該氣體泵送系統(tǒng)還包括所述渦輪分子泵的旁通電路，該旁通電路一方面與位于所述第一隔離閥上游的所述室通信，另一方面與所述主泵送電路通信，所述旁通電路包括第二隔離閥，該第二隔離閥包括能被激活的限流裝置，并且所述主泵送電路包括位于所述渦輪分子泵的排放側(cè)與所述旁通電路之間的第三隔離閥，所述氣體泵送系統(tǒng)還包括用于控制所述隔離閥的裝置。單獨(dú)地或組合地考慮根據(jù)所述設(shè)備的一個或多個特征，-所述第二隔離閥包括第一主閥，該第一主閥具有第一電導(dǎo)和第二限制閥，該第二限制閥從所述主閥中分支出來并且具有比第一電導(dǎo)要低的第二電導(dǎo)，-所述設(shè)備包括用于根據(jù)所述室的氣體特征參數(shù)傳感器的至少一個輸出信號來控制所述閥的處理單元，-所述第三閥被并入所述渦輪分子泵的外殼以與該渦輪分子泵的排放孔配合。


參考附圖，通過閱讀下面的描述，本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將變得明顯，其中-圖1示意性地示出了一個設(shè)備的裝載鎖和處理室；-圖2是用于制造半導(dǎo)體元件的設(shè)備的示意性側(cè)視圖；-圖3示意性地示出了用于降低裝載鎖中的壓力的方法；和-圖4是裝載鎖中的壓力降低隨時間變化的曲線圖。在附圖中，相同的參考號碼代表相同的元素。為了清楚，與所述方法有關(guān)的元素是從100開始標(biāo)號的。
具體實(shí)施例方式術(shù)語“主真空壓力”是指通過主泵送獲得的小于約0. 1帕斯卡(Pascal)的壓力。 術(shù)語“次級真空壓力”是指通過次級渦輪分子泵送獲得的小于約0. 1帕斯卡的壓力。圖1示出了包括裝載鎖2的設(shè)備1，該裝載鎖包括用于將至少一個基板4的環(huán)境壓力從大氣壓降低到低于大氣壓的傳送壓力的室3。低于大氣壓的傳送壓力例如是約為0. 01帕斯卡的主真空壓力。設(shè)備1還包括至少一個處理室5，該處理室經(jīng)由第一鎖門6與裝載鎖2連通以沿著箭頭7的方向?qū)⒒?傳送至傳送壓力下的處理室5中。裝載鎖2和處理室5包括特別用于支撐和傳送基板4的基板承載件8和自動操縱裝置(未示出)。室3是氣密性的并且包括第二鎖門9，該第二鎖門使得室3的內(nèi)部與處于大氣壓力下的區(qū)域連通，例如清潔室或設(shè)備小環(huán)境(也稱作“設(shè)備前端模塊”)，以沿著箭頭10的方向裝載至少一個基板4。所述裝載鎖2還包括用于恢復(fù)大氣壓的裝置(未顯示)，用于在等待裝載新的基板時以及在裝載已在處理室2中被處理的基板之后使得室3的內(nèi)部返回大氣壓。因此，裝載鎖2可以被用來減少從大氣壓改變成低于大氣壓的傳送壓力所需要的時間，并且減少傳送室處理過程中的污染。
設(shè)備1例如是用于制造半導(dǎo)體元件的設(shè)備。在這種情況下，處理室5是處理室或傳送室。在簡單的(或“獨(dú)立的”)設(shè)備的情況下，處理室5是其中在例如大約10-3帕斯卡的次級真空壓力的受控大氣下用多層基板4對半導(dǎo)體進(jìn)行沉積或蝕刻的處理室。在多重(或“群集”)設(shè)備的情況下，該設(shè)備可以包括一個或多個處理室。在這種情況下，處理室5是傳送室。在使用中，將傳送室保持為與處理室的壓力級別相同的傳送壓力，約為例如10-2帕斯卡。由主泵或次級泵在例如氮的惰性氣體的受控大氣下維持傳送室中的大氣。傳送室以傳送壓力接收來自裝載鎖2的基板4并且將它傳送至合適的處理室。圖2示出了用于制造半導(dǎo)體的多重設(shè)備的例子，其包括設(shè)備小環(huán)境11、裝載鎖2、 傳送室5和處理室12。所述裝載鎖2包括與室3連通以降低該室中的壓力的氣體泵送系統(tǒng)13(圖1)。氣體泵送系統(tǒng)13包括主泵14和按照泵送氣體流動方向(用箭頭16指示)位于主泵14上游的渦輪分子泵15。主泵14可以是專用于裝載鎖2的泵或者是設(shè)備1的另一個室的主泵，例如傳送室5。渦輪分子泵15的吸入口 17經(jīng)由第一隔離閥18連接到室3。渦輪分子泵15的排放側(cè)19在主泵14的吸入口的上游連接到主泵送電路20。氣體泵送系統(tǒng)13還包括渦輪分子泵15的旁通電路21，其一方面在第一隔離閥18 的上游與室3通信，另一方面與主泵送電路20通信。旁通電路21包括第二隔離閥22，該第二隔離閥包括可以被激活的限流裝置。當(dāng)被激活時，該限流裝置使得主泵14的泵送速度能夠被機(jī)械地限制。例如，第二隔離閥22包括具有第一電導(dǎo)的第一主閥和第二限制閥，該第二限制閥從所述主閥中分支出來并且具有比第一電導(dǎo)要低的第二電導(dǎo)。主泵送電路20還包括位于渦輪分子泵15的排放側(cè)19與旁通電路21之間的第三隔離閥23。第三閥23也可以被并入渦輪分子泵15的外殼中以使得第三閥23的塞子直接與渦輪分子泵的排放孔配合。可以使用小型渦輪分子泵，例如Alcatel Lucent銷售的ATH30泵。這個泵具有緊湊小巧的優(yōu)點(diǎn)并且因而易于被放置在鄰近于室3的位置。因此，通過關(guān)閉第一和第三閥18和23，可以使得渦輪分子泵15完全地隔離于吸入口 17和排放側(cè)19處的操作，這因而特別地在渦輪分子泵15的排放側(cè)19創(chuàng)建了主真空壓力。這個排放側(cè)19的低壓使得渦輪分子泵15能夠全速工作而不會超過功耗也不會有出故障的風(fēng)險。氣體泵送系統(tǒng)13還包括用于根據(jù)特征閾值控制隔離閥18、22、23的打開和關(guān)閉的
直ο為此，設(shè)備1包括處理單元對。例如，處理單元M按照預(yù)定時間間隔的屆滿來控制閥18、22、23的打開和/或關(guān)閉。在另一個例子中，處理單元M按照傳感器25的至少一個輸出信號沈來控制閥 18、22、23，該傳感器連接到室3以測量裝載鎖2的室3中的氣體的特征參數(shù)。傳感器25的輸出信號26連至處理單元M以按照輸出信號沈所提供的特征閾值來控制閥18、22、23。
例如，傳感器25是用于指示在室3中建立的壓力的壓力傳感器。還可以使用能提供關(guān)于室3中的氣體的部分壓力的指示的傳感器25。例如，傳感器25可以提供關(guān)于室3中的水蒸氣的部分壓力的指示。在指定的實(shí)施例中，傳感器25包括間接激勵的電池和由功率生成器供電的電磁激勵天線，該天線圍繞該電池以構(gòu)成該電池內(nèi)部的等離子體。由該等離子體發(fā)出的光射線隨后被捕捉到并且被發(fā)送到光學(xué)光譜儀。傳輸可以通過光纖或合適的導(dǎo)線來提供。光譜儀生成檢測到的光譜的輸出信號沈，該信號被發(fā)送到處理單元對。在另一個實(shí)施例中，傳感器25是質(zhì)譜儀。設(shè)備1的裝載鎖2中的壓力從大氣壓降低到低傳送壓力，是以至少三個連續(xù)步驟 (參見圖3所示的過程100)來逐步執(zhí)行的。至少一個基板4最初被放置在大氣壓下的室3中。第一和第二隔離閥18、22被關(guān)閉。也可以關(guān)閉第三隔離閥23。主泵14和渦輪分子泵15處于工作狀態(tài)。在第一步驟101中，執(zhí)行從大氣壓至第一特征閾值的第一主泵送。該泵送是借助于泵送速度受限的主泵14的旁通電路21來執(zhí)行的。工作中的渦輪分子泵15的吸入口 17 與室3隔離開，并且渦輪分子泵15的排放側(cè)19與主泵14隔離開。為此，在圖1所考慮的例子中，第一和第三隔離閥18和23被關(guān)閉而第二隔離閥22被打開，該第二隔離閥的限流裝置例如通過提供較低的第二電導(dǎo)而被激活，直到達(dá)到第一特征閾值。因此，在第一步驟101中，渦輪分子泵15與旁通電路21和室3中的氣體完全隔離開，其中范圍在大氣壓與低于大氣壓的第一主壓力之間的壓力會損壞渦輪分子泵15。該第一步驟101使得較慢的主泵送能夠從大氣壓至第一特征閾值而被執(zhí)行，在該第一特征閾值處不再存在由于過快的主泵送而造成污染的風(fēng)險。借助于較慢的泵送，可以防止圍繞基板4的氣體環(huán)境中的特定類型氣體凝固。在第一步驟101之后的第二步驟102中，執(zhí)行比第一步驟101中更快的第二主泵送，直到第二特征閾值，同時維持渦輪分子泵的隔離。為此，第一和第三隔離閥18和23保持閉合。第二隔離閥22保持打開并且限流裝置例如通過使得隔離閥22具有比第二電導(dǎo)大的第一電導(dǎo)而被禁用，直到經(jīng)過第二特征閾值。主泵14的泵送速度不再受限。第二特征閾值對應(yīng)于這樣一個閾值渦輪分子泵15的吸入口 17處的壓力足夠低從而不會對其工作產(chǎn)生影響。因此，在第二步驟102中，當(dāng)室3中的壓力是從低于大氣壓的第一壓力至第二主真空壓力時，渦輪分子泵15在吸入口 17和排放側(cè)19保持隔離，由此渦輪分子泵15的功耗被限制并且其服務(wù)壽命延長。在第二步驟102之后的第三步驟103中，借助于在主泵送上游的渦輪分子泵執(zhí)行次級泵送，并且室3與主泵送隔離開。為此，第一和第三隔離閥18和23被打開而第二隔離閥22被關(guān)閉。這個第三步驟103降低了殘余氣體混合物中的水蒸氣的部分壓力并且加快了基板的脫氣，這因而提高了生產(chǎn)效率。因此，在第三步驟103中，當(dāng)室3中的壓力足夠低時，維持全速工作的渦輪分子泵 15可以立即降低室3中的壓力。
過程100可以包括第三步驟之后的第四步驟104，其中當(dāng)達(dá)到第三特征閾值時在隔離渦輪分子泵的情況下重新開始主泵送。例如，當(dāng)裝載鎖2接收到請求卸載基板4的信號時重新開始主泵送，該信號可以由處理室5生成。為此，當(dāng)在步驟103中已經(jīng)經(jīng)過第三特征閾值時，第一隔離閥18被關(guān)閉而第二隔離閥22被打開，該第二隔離閥的限流裝置例如通過提供較高的第一電導(dǎo)而被禁用。也可以在打開第二隔離閥22之前立即關(guān)閉第三隔離閥23，以確保渦輪分子泵15的排放側(cè)19在主真空壓力下被隔離。第四步驟104使得基板4的氣體環(huán)境能夠達(dá)到合適的傳送壓力。因此，處理室5 中的過程的各步驟不必被修改來使得基板4進(jìn)入，因?yàn)楸３至讼嗤膫魉蛪毫ΑＴ诘谒牟襟E104中，也可以注入惰性氣體，例如氮?dú)?，以維持氣流的方向朝向主泵送。第一和/或第二和/或第三特征閾值可以是預(yù)定的時間間隔?？蛇x地，第一和/ 或第二和/或第三特征閾值是預(yù)定的壓力級別。圖4是裝載鎖2中的壓力隨時間降低的曲線圖G。在圖中的初始時刻t0，基板4的大氣處于大氣壓1^。在第一步驟101中，基板4的環(huán)境壓力通過借助于其泵送速度受限的主泵14而實(shí)現(xiàn)的至低于大氣壓的壓力Pi的較慢泵送而被降低。約為例如五十帕斯卡的壓力Pi對應(yīng)于第一特征閾值，超過該閾值則認(rèn)為不再存在由于過快的主泵送而造成污染的風(fēng)險。在第二步驟102中，基板4的環(huán)境壓力因而通過借助于其泵送速度不再受限的主泵14而實(shí)現(xiàn)的至低于壓力Pl的低于大氣壓的壓力P2的較快泵送而被降低。因此，當(dāng)較快的主泵送開始時，在壓力降低曲線的斜率中在時刻tl存在一個拐點(diǎn)。約為例如0. 1帕斯卡的壓力P2對應(yīng)于第二特征閾值，超過該閾值則渦輪分子泵可以以全速工作而不會有被損壞的風(fēng)險。在第三步驟103中，基板4的環(huán)境壓力因而借助于次級泵15而被降低到低于大氣壓的壓力P3，例如約為10_4帕斯卡。在時刻t2觀察到壓力降低曲線的斜率中的第二拐點(diǎn)， 在時刻t2借助于渦輪分子泵15執(zhí)行泵送。在第四步驟104中，在時刻t3，當(dāng)已經(jīng)過第三特征閾值時，基板4的環(huán)境壓力再次升至與約為10_2帕斯卡的主真空壓力相對應(yīng)的傳送壓力P4。壓力P4是通過其中注入惰性氣體的主泵送而獲得的。在室3中的壓力已達(dá)到低于大氣壓的壓力P3之后，第三特征閾值例如對應(yīng)于幾秒鐘的時間間隔D的結(jié)束。這在同一個時期內(nèi)迅速降低了室3中的總壓力并且因而降低了水蒸氣部分壓力。 另外，渦輪分子泵15持續(xù)保持在全速工作狀態(tài)并且只在主真空壓力下啟動，由此它的服務(wù)壽命延長并且當(dāng)它與室3連通時不會損耗時間或效率。也可以使用標(biāo)準(zhǔn)的渦輪分子泵15。用于降低壓力的方法因而實(shí)現(xiàn)起來簡單并且成本低，并且可以被用來迅速過渡到低于傳送壓力的低壓，從而改進(jìn)基板的調(diào)節(jié)，同時滿足了關(guān)于為裝載鎖提供高速率泵送周期的可靠性的行業(yè)約束。
權(quán)利要求
1.一種用于將設(shè)備的裝載鎖中的壓力從大氣壓降低到低于大氣壓的傳送壓力的方法， 所述裝載鎖( 包括其中以大氣壓放置至少一個基板的室(3)，和具有主泵(14)和渦輪分子泵(15)的氣體泵送系統(tǒng)(13)，該渦輪分子泵的吸入口(17)經(jīng)由第一隔離閥(18)連接到所述室C3)并且其排放側(cè)(19)在所述主泵(14)的上游連接到主泵送電路(20)，所述氣體泵送系統(tǒng)(1 還包括所述渦輪分子泵(1 的旁通電路(21)，該旁通電路一方面與位于所述第一隔離閥(18)上游的所述室通信，另一方面與所述主泵送電路00)通信，所述旁通電路包括第二隔離閥(22)，該第二隔離閥包括能被激活的限流裝置，并且所述主泵送電路OO)包括位于所述渦輪分子泵(1 的排放側(cè)(19)與所述旁通電路之間的第三隔離閥(23)，所述方法包括-第一步驟(101)，其中，所述第一和第三隔離閥(18、2；3)被關(guān)閉，而其限流裝置被激活的所述第二隔離閥0 被打開，從而通過其泵送速度受限的所述主泵(14)的所述旁通電路來執(zhí)行從大氣壓至第一特征閾值的第一主泵送，工作狀態(tài)下的所述渦輪分子泵 (15)的所述吸入口(17)與所述室(3)隔離開并且該渦輪分子泵(15)的所述排放側(cè)(19) 與所述主泵(14)隔離開，-所述第一步驟(101)之后的第二步驟(102)，其中，所述第二隔離閥0 的限流裝置被禁用從而執(zhí)行比所述第一步驟中更快的至第二特征閾值的第二主泵送，同時維持渦輪分子泵送的隔離，和-所述第二步驟(10 之后的第三步驟(103)，其中，所述第一和第三隔離閥(18、23) 被打開而所述第二隔離閥02)被關(guān)閉，從而借助于位于所述主泵送上游的所述渦輪分子泵送來執(zhí)行次級泵送，其中所述室(3)與所述主泵(14)隔離開。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于降低壓力的方法，包括所述第三步驟(10 之后的第四步驟(104)，其中，所述第一隔離閥(18)被關(guān)閉而其限流裝置已經(jīng)被禁用的所述第二隔離閥0 被打開以重新建立主泵送，其中當(dāng)達(dá)到第三特征閾值時隔離所述渦輪分子泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于降低壓力的方法，其中，在所述第四步驟(104)期間注入惰性氣體。
4.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的用于降低壓力的方法，其中，所述第一和/或第二和/ 或第三特征閾值是預(yù)定的時間間隔。
5.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的用于降低壓力的方法，其中，所述第一和/或第二和/ 或第三特征閾值是預(yù)定的壓力級別。
6.根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的結(jié)合權(quán)利要求2考慮的用于降低壓力的方法，其特征在于，當(dāng)所述裝載鎖(2)接收了請求卸載所述基板(4)的信號時重新開始所述第二主泵送。
7.一種用于實(shí)現(xiàn)根據(jù)前述任一權(quán)利要求所述的用于降低壓力的方法的設(shè)備，包括裝載鎖O)，所述裝載鎖( 包括用于將至少一個基板(4)的環(huán)境壓力從大氣壓降低到低于大氣壓的傳送壓力的室C3)和至少一個處理室(5)，該至少一個處理室與所述裝載鎖C3)連通以將所述基板(4)傳送至處于所述傳送壓力下的該處理室(5)中，所述裝載鎖包括具有主泵 (14)和渦輪分子泵(15)的氣體泵送系統(tǒng)(13)，該渦輪分子泵的吸入口(17)經(jīng)由第一隔離閥(18)連接到所述室(3)并且其排放側(cè)(19)在所述主泵(14)的上游連接到主泵送電路 (20)，所述氣體泵送系統(tǒng)(1 還包括所述渦輪分子泵(1 的旁通電路(21)，該旁通電路一方面與位于所述第一隔離閥(18)上游的所述室通信，另一方面與所述主泵送電路OO)通信，所述旁通電路包括第二隔離閥(22)，該第二隔離閥包括能被激活的限流裝置， 并且所述主泵送電路OO)包括位于所述渦輪分子泵(1 的排放側(cè)(19)與所述旁通電路 (21)之間的第三隔離閥(23)，所述氣體泵送系統(tǒng)(13)還包括用于控制所述隔離閥(18、22、 23)的裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備，其中，所述第二隔離閥0 包括具有第一電導(dǎo)的第一主閥和第二限制閥，該第二限制閥從所述主閥中分支出來并且具有低于所述第一電導(dǎo)的第二電導(dǎo)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的設(shè)備，包括處理單元(M)，該處理單元用于按照所述室 (3)中的氣體的特征參數(shù)的傳感器05)的至少一個輸出信號06)來控制所述閥(18、22、 23)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其特征在于，所述第三閥被并入所述渦輪分子泵(1 的外殼中從而與所述渦輪分子泵(1 的排放孔配合。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于將設(shè)備裝載鎖中的壓力從大氣壓降低至低于大氣壓的傳送壓力的方法，所述鎖包括其中以大氣壓放置了至少一個基板的室，所述方法包括第一步驟(101)，其中，利用泵送速度受限的主泵執(zhí)行從大氣壓至第一特征閾值的第一主泵送，同時將渦輪分子泵送與所述室隔離開；第一步驟(101)之后的第二步驟(102)，其中，執(zhí)行比所述第一步驟中更快的至第二特征閾值的第二主泵送，同時維持渦輪分子泵送的隔離；所述第二步驟(102)之后的第三步驟(103)，其中，借助于位于所述第一泵送上游的所述渦輪分子泵送來執(zhí)行次級泵送，并且所述室與所述主泵隔離開。本發(fā)明還涉及一種用于實(shí)現(xiàn)所述方法的設(shè)備。
文檔編號H01L21/677GK102282663SQ200980154661
公開日2011年12月14日 申請日期2009年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月19日
發(fā)明者J·布努阿爾, J-M·福雷 申請人:阿迪森真空產(chǎn)品公司