專(zhuān)利名稱：太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能硅片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體提供一種太陽(yáng)能硅片激光劃線擋 光裝置，保證劃線深度均勻。
背景技術(shù)：
激光具有良好的方向性、相干性、單色性及高亮度(高光功率密度)四大特性，因 此，激光在多種領(lǐng)域中得以廣泛應(yīng)用。太陽(yáng)能作為可再生的環(huán)保能源已經(jīng)越來(lái)越受到人們的關(guān)注，太陽(yáng)能電池近幾年的 世界銷(xiāo)售額年增長(zhǎng)率超過(guò)40%，與其相關(guān)的生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)也得到迅猛的發(fā)展。在國(guó)家倡導(dǎo) 節(jié)能的宏觀政策推動(dòng)下，中國(guó)的太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)也得到迅猛發(fā)展，在行業(yè)內(nèi)已躍居世界第 三位，僅次于日本和德國(guó)。現(xiàn)有技術(shù)在采用振鏡控制激光束的太陽(yáng)能硅片劃片加工過(guò)程中，使用線性成像透 鏡(F-theta透鏡)將振鏡出射的激光束聚焦成點(diǎn)，對(duì)定位于平面平臺(tái)上的太陽(yáng)能硅片進(jìn)行 劃線加工。線性成像鏡頭具有如下特點(diǎn)(1)掃描光束的運(yùn)動(dòng)被以時(shí)間為順序的電信號(hào)控制，為了使記錄的信息與原信息 一致，像面上的光點(diǎn)應(yīng)與時(shí)間成一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系y = _f theta。但是，一般的光學(xué)系統(tǒng)， 其理想像高為y = _f tgtheta，顯然，理想像高y與掃描角theta之間不再成線性關(guān)系。 為了實(shí)現(xiàn)等速掃描，應(yīng)使聚焦透鏡產(chǎn)生一定得負(fù)畸變，即其實(shí)際像高應(yīng)比幾何光學(xué)確定的 理想像高小，對(duì)應(yīng)的畸變量y氺=—f theta- (-f tgtheta) = f (tgtheta-theta)具有上述畸變量的透鏡系統(tǒng)，對(duì)以等角速度的入射光束在焦面上實(shí)現(xiàn)線性掃描， 其像高y = f theta，所以這種線性成像物鏡又稱f-theta鏡頭。(2)單色光成像，象質(zhì)要求達(dá)到波像差小于四分之一波長(zhǎng)，而且整個(gè)像面上的象質(zhì) 要求一致，像面為平面，且無(wú)漸暈存在。(3)像方遠(yuǎn)心光路。如果系統(tǒng)校正了場(chǎng)曲，遠(yuǎn)心光路可在很大程度上實(shí)現(xiàn)軸上、軸 外象質(zhì)一致，并提高照明均勻性。大多數(shù)線性成像物鏡屬于小相對(duì)孔徑(一般F數(shù)為5-20) 大視場(chǎng)的遠(yuǎn)心光學(xué)系統(tǒng)。線性成像物鏡的設(shè)計(jì)要求具有一定的負(fù)畸變，在整個(gè)視場(chǎng)上有均 勻的光照度和分辨率，不允許軸外漸暈的存在，并達(dá)到衍射極限性能。太陽(yáng)能硅片激光劃線加工時(shí)，激光在太陽(yáng)能硅片上停留的時(shí)間越長(zhǎng)劃線越深?，F(xiàn) 有技術(shù)太陽(yáng)能硅片劃線加工過(guò)程中，由于振鏡的慣性，振鏡在劃線起點(diǎn)的加速和劃線終點(diǎn) 的減速，導(dǎo)致激光掃描速度不均勻，劃線的起點(diǎn)和終點(diǎn)的掃描速度慢，從而導(dǎo)致劃線兩端深 度變深?，F(xiàn)有技術(shù)的主要的解決方法是通過(guò)軟件控制振鏡和激光器，使得在劃線兩端激光 對(duì)硅片的作用達(dá)到均勻。但是這種方法實(shí)現(xiàn)起來(lái)非常復(fù)雜，成本高，并且當(dāng)硅片大小、激光 參數(shù)等改變時(shí)，需要重新計(jì)算、調(diào)節(jié)。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠 保證太陽(yáng)能硅片劃片的劃線深度均勻，并能保護(hù)硅片邊緣不受激光刻蝕。為實(shí)現(xiàn)以上發(fā)明目的，本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置包括支撐框架和 擋光罩，擋光罩固定在支撐框架；所述擋光罩中部設(shè)有方形孔。所述擋光罩上表面涂有鎢金屬層。所述擋光罩為板狀，中部設(shè)有的方形孔呈階梯狀，末級(jí)貫通。使用時(shí)，太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置置于線性成像透鏡與太陽(yáng)能硅片之間，方 形孔大小與太陽(yáng)能硅片需要?jiǎng)澗€的部分寬度一致，振鏡在劃線起點(diǎn)的加速和劃線終點(diǎn)的減 速部分的激光射在擋光罩的擋光部分并被擋光罩吸收。因此，太陽(yáng)能硅片的劃線深度均勻。 本實(shí)用新型擋光罩上表面涂有高熔點(diǎn)高沸點(diǎn)的鎢金屬層，保證了擋光罩吸收激光并不會(huì)被 激光擊穿。本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用本裝置的太陽(yáng)能硅片 激光劃線加工設(shè)備無(wú)需復(fù)雜的軟件設(shè)置，保證了太陽(yáng)能硅片激光劃線的深度的均勻性，并 可大大的節(jié)約設(shè)備的制造成本。
以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型技術(shù)方案。
圖1為本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型的使用狀態(tài)示意圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置可以用于激光劃線加工太陽(yáng)能硅片，也 可以用于其他產(chǎn)品的激光加工。因此，實(shí)施例技術(shù)方案不視為對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案的限制。實(shí)施例圖1為本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，本實(shí) 用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置包括支撐框架1和擋光罩2，擋光罩2固定在支撐框架 1 ；所述擋光罩2中部設(shè)有方形孔3，方形孔3呈階梯狀，末級(jí)為貫通的方孔。所述擋光罩2 的上表面涂有鎢金屬層。圖2為本實(shí)用新型的使用狀態(tài)示意圖。本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置 103固定在固定座106上，置于線性成像透鏡102與太陽(yáng)能硅片104之間，太陽(yáng)能硅片104 放置于吸盤(pán)105上；振鏡101產(chǎn)生的激光束被線性成像透鏡102匯聚成點(diǎn)，穿過(guò)太陽(yáng)能硅片 激光劃線擋光裝置103的方形孔3照射在太陽(yáng)能硅片104上進(jìn)行劃線加工。振鏡101在劃 線起點(diǎn)的加速和劃線終點(diǎn)的減速部分的激光射在太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置103的擋 光部分，因此太陽(yáng)能硅片的劃線深度均勻。
權(quán)利要求太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置，其特征在于包括支撐框架和擋光罩，擋光罩固定在支撐框架；所述擋光罩中部設(shè)有方形孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置，其特征在于所述擋光罩上 表面涂有鎢金屬層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置，其特征在于所述擋光罩為 板狀，中部設(shè)有的方形孔呈階梯狀，末級(jí)貫通。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型涉及太陽(yáng)能硅片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體提供一種太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置，包括支撐框架和擋光罩，擋光罩固定在支撐框架；所述擋光罩中部設(shè)有方形孔。本實(shí)用新型太陽(yáng)能硅片激光劃線擋光裝置使用時(shí)，置于線性成像透鏡與太陽(yáng)能硅片之間，方形孔大小與太陽(yáng)能硅片需要?jiǎng)澗€的部分寬度一致，振鏡在劃線起點(diǎn)的加速和劃線終點(diǎn)的減速部分的激光射在擋光罩的擋光部分并被擋光罩吸收。因此，太陽(yáng)能硅片的劃線深度均勻。
文檔編號(hào)H01L31/18GK201616448SQ20092026279
公開(kāi)日2010年10月27日 申請(qǐng)日期2009年11月17日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月17日
發(fā)明者李志剛 申請(qǐng)人:武漢帝爾激光科技有限公司