專利名稱：基板處理系統(tǒng)、輸送裝置及涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及基板處理系統(tǒng)、輸送裝置及涂敷裝置。
背景技術(shù)：
例如，在構(gòu)成半導(dǎo)體基板、液晶面板的玻璃基板、構(gòu)成硬盤的基板等 各種基板上形成抗蝕劑膜等薄膜時(shí)，使基板旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，在該基板上形成 涂敷膜的涂敷裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)l)。
涂敷裝置例如作為涂敷單元，有時(shí)搭載于包括基板的送入動作、涂敷 動作、送出動作的基板處理系統(tǒng)中。
這樣的基板處理系統(tǒng)按每個(gè)主要?jiǎng)幼鲉卧那闆r居多，例如，在上 述例子中，有時(shí)搭載進(jìn)行送入動作的基板送入單元、進(jìn)行送出動作的基板 送出單元。在貫穿多個(gè)單元之間輸送基板的情況下，通常在每個(gè)單元配置 輸送裝置，在各輸送裝置之間進(jìn)行基板或收容該基板的盒等的轉(zhuǎn)移。.
其次，在這樣的涂敷裝置搭載有使基板旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)能 夠以例如將基板吸附等而保持的狀態(tài)使該基板旋轉(zhuǎn)。
在將基板保持于旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)時(shí)，例如，利用輸送裝置從外部向旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 輸送基板的情況居多。作為這樣的輸送裝置，例如，已知有在臂的前端設(shè) 置有基板保持部的結(jié)構(gòu)的輸送裝置。作為在該輸送裝置設(shè)置的基板保持 部，例如，已知有具有吸附基板的吸附部的結(jié)構(gòu)。該輸送裝置在將基板輸 送至涂敷裝置后，在與涂敷裝置的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)之間迸行基板的轉(zhuǎn)移。
其次，在這樣的涂敷裝置中，通常以將基板相對于水平面平行放置， 以保持下側(cè)的基板面的狀態(tài)使其旋轉(zhuǎn)。
另一方面，例如，對如構(gòu)成硬盤的基板等一樣需要在基板的兩面涂敷 液狀體的基板，不能夠保持下側(cè)的基板面，因此，例如，如專利文獻(xiàn)l中 的記載，提出了利用保持塊保持基板的同時(shí)使其旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。
9專利文獻(xiàn)1日本特開平7—130642號公報(bào)。
然而，在單元之間的送出動作中使用多個(gè)輸送裝置的基板處理系統(tǒng) 中，該輸送裝置的配置和轉(zhuǎn)移控制的時(shí)序等結(jié)構(gòu)上或控制上的設(shè)定等容易 變得復(fù)雜，隨之，存在系統(tǒng)結(jié)構(gòu)整體變得復(fù)雜化，并且，處理節(jié)拍變長的 問題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于如上所述的情況，本發(fā)明的第一目的在于提供能夠簡化系統(tǒng)結(jié) 構(gòu)，能夠縮短處理節(jié)拍的基板處理系統(tǒng)。
其次，在輸送裝置和涂敷裝置之間進(jìn)行基板的轉(zhuǎn)移的情況下，例如， 需要基板的對位，或需要解除例如基板保持部中的吸附，在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)中重 新吸附基板，重新保持，因此，需要相應(yīng)的時(shí)間。因此，每一張基板所需 的處理時(shí)間(節(jié)拍)變長，在提高生產(chǎn)率上成為問題。對此，不僅在基板 形成薄膜的情況，而且只要是使基板旋轉(zhuǎn)的處理，則在進(jìn)行其他處理時(shí)也 可能同樣成為問題。
鑒于如上所述的情況，本發(fā)明的第二目的在于提供能夠縮短處理節(jié) 拍，并能夠提高生產(chǎn)率的輸送裝置。
其次，根據(jù)專利文獻(xiàn)l中記載的方法可知，將基板平放的狀態(tài)下，在 兩面涂敷液狀體，因此，在基板的表面和基板的背面之間，涂敷環(huán)境不同， 形成的薄膜的狀態(tài)可能不同。
鑒于如上所述的情況，本發(fā)明的第三目的在于提供能夠改善在基板上 涂敷的液狀體的狀態(tài)的涂敷裝置。
本發(fā)明的第一方式(aspect)是一種基板處理系統(tǒng)，其中，具備處 理單元，其對基板進(jìn)行規(guī)定處理；基板送入單元，其被供給收容有所述規(guī) 定處理前的所述基板的送入用容器，并且回收空的所述送入用容器；基板 送出單元，其回收收容有所述規(guī)定處理后的所述基板的送出用容器，并且 被供給空的所述送出用容器；輸送單元，其具有輸送機(jī)構(gòu)，該輸送機(jī)構(gòu)在 所述處理單元內(nèi)的裝載位置和所述基板送入單元之間輸送所述送入用容 器，并在所述處理單元內(nèi)的卸載位置和所述基板送出單元之間輸送所述送 出用容器。根據(jù)該方式可知，設(shè)置于輸送單元的輸送機(jī)構(gòu)在處理單元內(nèi)的裝載位 置和基板送入單元之間輸送送入用容器，并且，在處理單元內(nèi)的卸載位置 和基板送出單元之間輸送送出用容器，因此，能夠使一個(gè)輸送機(jī)構(gòu)進(jìn)行不 同的輸送區(qū)間的輸送動作。由此，能夠單純化基于輸送機(jī)構(gòu)的輸送處理， 因此，能夠簡化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，能夠縮短處理節(jié)拍。另外，根據(jù)該方式可知， 分開使用送入用容器和送出用容器，因此，還具有能夠防止基板的污染的 優(yōu)點(diǎn)。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述處理單元、所述基板送入單元及所 述基板送出單元配置于直線方向上。
在這種情況下，處理單元、基板送入單元及基板送出單元配置于直線 方向上，因此，能夠?qū)⒏鲉卧g的輸送路徑設(shè)定于該直線方向上。由此， 能夠避免輸送路徑的復(fù)雜化，能夠簡化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述處理單元配置于所述基板送入單元 和所述基板送出單元之間。
在這種情況下，處理單元配置于基板送入單元和基板送出單元之間， 因此，各單元沿基板的流動的方向配置。由此，能夠提高處理的效率。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述輸送單元具有使所述輸送機(jī)構(gòu)沿所 述直線方向移動的移動機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，輸送單元具有使輸送機(jī)構(gòu)沿直線方向移動的移動機(jī) 構(gòu)，因此，能夠單純化輸送機(jī)構(gòu)的移動動作。由此，能夠簡化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。
在上述基板處理系統(tǒng)中，在所述基板送入單元及所述基板送出單元分 別設(shè)置有多個(gè)容器待機(jī)部。
在這種情況下，在基板送入單元及基板送出單元分別設(shè)置有多個(gè)容器 待機(jī)部，因此，能夠迅速地處理更多的基板。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述基板送入單元及所述基板送出單元 中至少一方具有使多個(gè)所述容器待機(jī)部移動的第二移動機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，基板送入單元及基板送出單元中至少一方具有使多個(gè) 容器待機(jī)部移動的第二移動機(jī)構(gòu)，因此，能夠使容器待機(jī)部向更靠近輸送 單元的位置移動。由此，能夠迅速地進(jìn)行輸送動作，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率 化。優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述第二移動機(jī)構(gòu)以使供給對象容器靠 近所述輸送單元，并且使回收對象容器離開所述輸送單元的方式使所述容 器待機(jī)部移動。
在這種情況下，第二移動機(jī)構(gòu)以使供給對象容器靠近輸送單元，并且 使回收對象容器離開輸送單元的方式使容器待機(jī)部移動，因此，能夠更迅 速地進(jìn)行供給對象容器的供給動作及回收對象容器的回收動作。由此，能 夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，在所述處理單元設(shè)置有緩沖機(jī)構(gòu)，該緩 沖機(jī)構(gòu)具有與所述裝載位置及所述卸載位置中至少一方對應(yīng)的多個(gè)第二 容器待機(jī)部。
在這種情況下，在處理單元設(shè)置有緩沖機(jī)構(gòu)，該緩沖機(jī)構(gòu)具有與裝載 位置及卸載位置中至少一方對應(yīng)的多個(gè)第二容器待機(jī)部，因此，能夠迅速 地進(jìn)行處理單元中的基板的裝載動作及卸載動作。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的 效率化。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述緩沖機(jī)構(gòu)具有使多個(gè)所述第二容器 待機(jī)部移動的第三移動機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，緩沖機(jī)構(gòu)具有使多個(gè)第二容器待機(jī)部移動的第三移動 機(jī)構(gòu)，因此，能夠根據(jù)容器內(nèi)的基板的殘留量，使第二容器待機(jī)部移動。 由此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述第三移動機(jī)構(gòu)使所述第二容器待機(jī) 部在與所述輸送機(jī)構(gòu)的輸送方向相同的方向上移動。
在這種情況下，第三移動機(jī)構(gòu)使第二容器待機(jī)部在與輸送機(jī)構(gòu)的輸送 方向相同的方向上移動，因此，第二容器待機(jī)部沿輸送方向移動。因此， 輸送機(jī)構(gòu)和第二容器待機(jī)部之間的距離保持為恒定。通過將該距離保持為 恒定，能夠使輸送機(jī)構(gòu)和第二容器待機(jī)部之間的輸送動作恒定，因此，能 夠避免輸送動作的復(fù)雜化。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述處理單元具有拾取機(jī)構(gòu)，所述拾取 機(jī)構(gòu)從所述送入用容器抬起所述基板，將所述基板配置于所述裝載位置。
在這種情況下，處理單元具有從送入用容器抬起基板，將基板配置于 裝載位置的拾取機(jī)構(gòu)，因此，能夠迅速地進(jìn)行基板的裝載動作。優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述輸送單元具有使所述輸送機(jī)構(gòu)的朝 向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，輸送單元具有使輸送機(jī)構(gòu)的朝向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，因 此，即使在輸送方向和容器的轉(zhuǎn)移方向不同的情況下，也能夠順暢地進(jìn)行 輸送動作及轉(zhuǎn)移動作。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，在所述送入用容器及所述送出用容器形 成有卡合部，所述輸送機(jī)構(gòu)具有與所述卡合部卡合并保持所述送入用容器 及所述送出用容器的保持部件。
在這種情況下，在送入用容器及送出用容器形成有卡合部，輸送機(jī)構(gòu) 具有與卡合部卡合，保持送入用容器及送出用容器的保持部件，能夠可靠 地保持送入用容器及送出用容器。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，還具備控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所 述處理單元中的所述基板的處理狀況，控制所述送入用容器及所述送出用 容器中至少一方的輸送位置。
在這種情況下，根據(jù)處理單元中的基板的處理狀況，控制送入用容器 及送出用容器中至少一方的輸送位置，因此能夠更有效地進(jìn)行輸送動作。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述規(guī)定處理包括在所述基板上涂敷 液狀體的涂敷處理、所述涂敷處理的前處理及所述涂敷處理的后處理。
在這種情況下，規(guī)定處理包括在基板涂敷液狀體的涂敷處理、涂敷 處理的前處理及涂敷處理的后處理，因此，關(guān)于涂敷處理的前后的處理階 段，也能夠簡化系統(tǒng)結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述前處理包括向所述基板照射紫外線 的處理及清洗所述基板的處理中的至少一種處理。
在這種情況下，作為前處理，進(jìn)行包括向基板照射紫外線的處理及清 洗基板的處理中的至少一種處理的寬幅的處理的情況下，能夠簡化處理系 統(tǒng)。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，所述后處理包括使所述基板的周圍減壓 的處理及加熱所述基板的處理中的至少一種處理。
在這種情況下，作為后處理，進(jìn)行包括使基板的周圍減壓的處理及加 熱基板的處理中的至少一種處理的寬幅的處理的情況下，能夠簡化處理系統(tǒng)。
優(yōu)選在上述基板處理系統(tǒng)中，還具備異物檢測單元，所述異物檢測單 元檢測所述規(guī)定處理后的所述基板上有無異物。
若異物附著在規(guī)定處理后的基板，則由于之后的處理，基板可能在該 異物的附著位置破損。從而，在這種情況下，還具備異物檢測單元，所述 異物檢測單元檢測規(guī)定處理后的基板上有無異物，因此，能夠防止這樣的 異物附著的基板使用于之后的處理中的情況，能夠避免基板的破損。
本發(fā)明的第二方式(aspect)的輸送裝置，其在基板送入?yún)^(qū)域及基板 送出區(qū)域與基板處理區(qū)域之間輸送基板，其中，具備臂部，其設(shè)置于基 部；吸引部，其設(shè)置為能夠相對于所述臂部旋轉(zhuǎn)，且吸引所述基板并將其保持。
根據(jù)本方式可知，吸引基板并將其保持的吸引部設(shè)置為能夠相對于在 基部設(shè)置的臂部旋轉(zhuǎn)，因此，能夠在利用保持部保持了基板的狀態(tài)下使其 旋轉(zhuǎn)。因此，在基板處理區(qū)域使基板旋轉(zhuǎn)的情況下，也不需要對旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu) 等進(jìn)行基板的轉(zhuǎn)移。由于沒有基板的轉(zhuǎn)移，能夠相應(yīng)地迅速進(jìn)行從基板的 輸送到基板的處理的工序，因此，能夠縮短處理節(jié)拍，能夠提高生產(chǎn)率。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述基板為具有開口部的基板，所述吸引部 具有吸引沿所述開口部的所述基板的表面的吸引孔。
在這種情況下，進(jìn)行具有開口部的基板的處理的情況下，吸引孔吸引 沿該開口部的基板的表面，因此，能夠?qū)⒒宓膹耐庵懿康接稍撐孜?引的部分為止的寬的區(qū)域作為處理對象。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述吸引孔配置為能夠吸引所述基板的非處 理部分。
在這種情況下，吸引孔配置為能夠吸引基板的非處理部分，因此，能 夠在不對基板的處理部分產(chǎn)生影響的情況下吸引基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述吸引部具有嵌入所述開口部的突出部。
在這種情況下，吸引部具有嵌入開口部的突出部，因此，由突出部堵 塞開口部的至少一部分。由此，在吸引基板時(shí)，吸引包括開口部的區(qū)域的 情況下，也能夠在不降低吸引力的情況下吸引，能夠更可靠地保持基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述突出部設(shè)置為能夠相對于所述吸引部的其他部分拆裝。
在這種情況下，突出部設(shè)置為能夠相對于吸引部的其他部分拆裝，例 如，可以在不需要突出部的情況下，相對于吸引部的其他部分拆裝。另外， 例如，還可以分開使用尺寸不同的多個(gè)突出部，因此，在處理開口部的尺 寸不同的基板的情況下也能夠應(yīng)對。由此，能夠多樣化吸引保持的方式。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述突出部的突出量為所述基板的厚度以下。
在這種情況下，突出部的突出量為基板的厚度以下，因此，能夠防止 該突出部向基板的吸附面的相反面?zhèn)韧怀龅那闆r。由此，能夠在基板的吸 附面的相反側(cè)容易地配置其他部件。
在上述輸送裝置中，其特征在于在所述臂部搭載有使所述吸引部旋轉(zhuǎn) 的驅(qū)動部。
在這種情況下，在臂部搭載有使吸引部旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部，因此，能夠進(jìn) 一步小型化裝置結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，還具備外部驅(qū)動部，所述外部驅(qū)動部在與所 述吸引部之間以夾著所述基板的狀態(tài)使所述基板旋轉(zhuǎn)。
在這種情況下，在外部驅(qū)動部與吸引部之間以夾著基板的狀態(tài)使基板 旋轉(zhuǎn)，因此，能夠在臂部側(cè)不設(shè)置驅(qū)動機(jī)構(gòu)的情況下也保持基板的同時(shí)使 其旋轉(zhuǎn)。因此，能夠小型化、簡化臂部側(cè)的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)⑤斔蛣幼魉璧?負(fù)擔(dān)抑制為最小限度。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述外部驅(qū)動部設(shè)置于所述基板處理區(qū)域。
在這種情況下，在基板處理區(qū)域設(shè)置有外部驅(qū)動部，因此，能夠使基 板的處理動作和旋轉(zhuǎn)動作連動進(jìn)行。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述外部驅(qū)動部具有按壓所述基板的按壓 部，所述按壓部與所述吸引部對應(yīng)而形成。
在這種情況下，外部驅(qū)動部具有按壓基板的按壓部，按壓部與吸引部 對應(yīng)而形成，因此，使基于吸引部的吸引力和基于按壓部的按壓力對應(yīng)地 向基板施加。由此，能夠可靠地保持基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述臂部具有軸部，其能夠相對于所述基 部旋轉(zhuǎn)，且能夠在該旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)軸方向上伸縮；伸縮部，其設(shè)置于所述軸部，且能夠在與所述旋轉(zhuǎn)軸方向正交的方向上伸縮，所述吸引部設(shè)置于所 述伸縮部的前端。
在這種情況下，能夠使臂部相對于基部旋轉(zhuǎn)，能夠使該臂部在該旋轉(zhuǎn) 的旋轉(zhuǎn)軸方向上伸縮，進(jìn)而能夠使臂部在與旋轉(zhuǎn)軸方向正交方向上伸縮。 因此，能夠使在伸縮部的前端設(shè)置的吸引部貫穿寬范圍而移動。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述外部驅(qū)動部具有按壓所述基板的按壓 部，所述按壓部與所述吸引部對應(yīng)而形成。
在這種情況下，外部驅(qū)動部具有按壓基板的按壓部，按壓部與吸引部 對應(yīng)而形成，因此，能夠利用基于按壓部的按壓和基于吸引部的吸引來可 靠地保持基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述外部驅(qū)動部在將所述基板配置于所述基 板處理區(qū)域的基板處理位置的同時(shí)，使所述按壓部按壓所述基板。
在這種情況下，外部驅(qū)動部在將基板配置于基板處理區(qū)域的基板處理 位置的同時(shí)，使按壓部按壓基板，因此，能夠從基板的配置時(shí)開始可靠地 保持該基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，還具備控制部，所述控制部在由所述外部驅(qū) 動部驅(qū)動的所述基板的旋轉(zhuǎn)時(shí)，切換所述吸引部的吸引狀態(tài)。
在這種情況下，還具備控制部，所述控制部在由外部驅(qū)動部驅(qū)動的基 板的旋轉(zhuǎn)時(shí)，切換吸引部的吸引狀態(tài)，因此，能夠在吸引部側(cè)調(diào)整由按壓 部按壓的基板的保持力。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述控制部在由所述外部驅(qū)動部驅(qū)動的所述 基板的旋轉(zhuǎn)前，解除基于所述吸引部的吸引。
在這種情況下，控制部在由外部驅(qū)動部進(jìn)行的基板的旋轉(zhuǎn)前，解除基 于吸引部的吸引，因此，能夠有效地進(jìn)行基板的旋轉(zhuǎn)動作。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述控制部在由所述外部驅(qū)動部驅(qū)動的所述 基板的旋轉(zhuǎn)中，解除基于所述吸引部的吸引。
在這種情況下，控制部在由外部驅(qū)動部驅(qū)動的基板的旋轉(zhuǎn)中，解除基 于吸引部的吸引，因此，能夠有效地進(jìn)行基板的旋轉(zhuǎn)動作。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述控制部根據(jù)所述基板的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)，解除 所述吸引。在這種情況下，控制部根據(jù)基板的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)解除吸引，因此，能夠進(jìn) 行根據(jù)基板的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)的靈活的對應(yīng)。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述控制部在對所述基板的規(guī)定處理后，解 除基于所述吸引部的吸引。
在這種情況下，控制部在對基板的規(guī)定處理后，解除基于吸引部的吸 引，因此，能夠在規(guī)定處理的期間可靠地保持基板。
優(yōu)選在上述輸送裝置中，所述外部驅(qū)動部在所述規(guī)定處理后還使所述 基板旋轉(zhuǎn)。
在這種情況下，外部驅(qū)動部在規(guī)定處理后還使基板旋轉(zhuǎn)，因此，能夠 防止規(guī)定處理后的基板的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)急劇停止的情況。
本發(fā)明的第三方式(aspect)是一種涂敷裝置，其中，具備旋轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)，其以基板豎立的狀態(tài)使所述基板旋轉(zhuǎn)；涂敷機(jī)構(gòu)，其具有在所述基板 旋轉(zhuǎn)的同時(shí)向所述基板的表面及背面分別噴出液狀體的噴嘴。
根據(jù)該方式可知，能夠利用噴嘴從以豎立的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)的基板的兩面噴 出液狀體，因此，能夠在基板的表面和背面使液狀體的涂敷環(huán)境更為接近。 根據(jù)該方式可知，能夠在基板的表面和背面之間使涂敷的液狀體的狀態(tài)接 近，因此，能夠防止在基板上形成的液狀體的薄膜的狀態(tài)不同的情況。由 此，能夠改善在基板上涂敷的液狀體的狀態(tài)。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在將所述基板相對于水平面豎 立為70°以上且90°以下的角度的狀態(tài)下使所述基板旋轉(zhuǎn)。
在這種情況下，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在將基板相對于水平面豎立為70°以上且 90°以下的角度的狀態(tài)下使該基板旋轉(zhuǎn)，因此，能夠防止基板的表面的狀 態(tài)和基板的背面的狀態(tài)顯著不同的情況，能夠在基板的兩面均一地涂敷液 狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴形成為從所述基板的中央部側(cè)向所 述基板的外周部側(cè)噴出所述液狀體。
在這種情況下，噴嘴形成為從基板的中央部側(cè)向基板的外周部側(cè)噴出 液狀體，因此，噴嘴的噴出方向和作用于基板上的離心力的方向?qū)R方向。 由此，能夠更有效地涂敷液狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴從所述中央部側(cè)向所述外周部側(cè)折彎而形成。
在這種情況下，噴嘴從中央部側(cè)向外周部側(cè)折彎而形成，因此，能夠 在不另行設(shè)置調(diào)節(jié)液狀體的噴出方向的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)等的情況下，利用簡單的 結(jié)構(gòu)來調(diào)節(jié)液狀體的噴出方向。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴的前端的噴出面相對于液狀體的噴 出方向傾斜而形成。
在這種情況下，噴嘴中前端的噴出面相對于液狀體的噴出方向傾斜而 形成，因此，能夠減小噴嘴前端中的液狀體的表面張力。
由此，在停止液狀體的涂敷時(shí)，能夠良好除去該液狀體，能夠使液狀 體不易殘留在噴嘴前端。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴相對于所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸設(shè)置 于下側(cè)。
在這種情況下，噴嘴相對于旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸設(shè)置于下側(cè)，因此，能 夠使液狀體的噴出方向和重力方向一致。由此，能夠使液狀體在基板上容 易擴(kuò)散。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴在所述基板的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)扰渲?于相同位置。
在這種情況下，噴嘴在基板的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)扰渲糜谙嗤恢?，因此?能夠使涂敷環(huán)境在基板的表面上和基板的背面上接近。由此，能夠?qū)⒁籂?體均一地涂敷在基板的兩面。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述涂敷機(jī)構(gòu)具有使所述噴嘴移動的移動機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，涂敷機(jī)構(gòu)具有使噴嘴移動的移動機(jī)構(gòu)，因此，能夠根 據(jù)裝置的處理狀況來使噴嘴的位置移動。由此，能夠進(jìn)行更寬幅的處理。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，還具備噴嘴管理機(jī)構(gòu)，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)管 理所述噴嘴的狀態(tài)。
在這種情況下，還具備噴嘴管理機(jī)構(gòu)，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)管理噴嘴的 狀態(tài)，因此，能夠?qū)娮斓臓顟B(tài)保持為恒定。由此，能夠維持噴嘴的噴出 性能。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有清洗部，所述清洗部通過將噴嘴的前端浸漬于清洗液中而進(jìn)行清洗。
在該情況下，噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有清洗部，所述清洗部通過將噴嘴的前 端浸漬于清洗液中而進(jìn)行清洗，因此，能夠清洗在噴嘴的前端附著的液狀 體并除去。若在噴嘴的前端附著液狀體，則噴嘴堵塞，可能降低噴出性能。 在本發(fā)明中，通過清洗噴嘴的前端，能夠防止這樣的噴出性能的降低。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有吸引所述噴嘴的前 端的吸引部。
在這種情況下，噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有吸引噴嘴的前端的吸引部，因此， 能夠從噴嘴前端除去在噴嘴的前端附著的液狀體或清洗該液狀體后的清 洗液等。由此，能夠?qū)娮烨岸吮３譃楦鍧嵉臓顟B(tài)。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有接受從所述噴嘴預(yù)備 性噴出的所述液狀體的液體接受部。
在這種情況下，噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有接受從噴嘴預(yù)備性噴出的液狀體的 液體接受部，因此，形成為容易進(jìn)行預(yù)備性液狀體的噴出動作的狀態(tài)。由 此，能夠防止噴嘴的噴出性能降低的情況。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，還具備杯部，所述杯部以包圍所述基板的側(cè) 方的方式配置。
在這種情況下，還具備杯部，所述杯部以包圍基板的側(cè)方的方式配置， 因此，能夠攔截由于基板的旋轉(zhuǎn)引起的離心力的作用而從基板飛散的液狀 體。由此，能夠?qū)⒀b置內(nèi)部的環(huán)境保持為清潔的狀態(tài)。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述杯部具有收容所述液狀體的收容部。
在這種情況下，杯部具有收容液狀體的收容部，因此，能夠?qū)w散的 液狀體集中于該收容部。由此，能夠有效地管理飛散的液狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述杯部中與所述基板的側(cè)部的對置部分設(shè) 置為能夠相對于所述杯部的其他部分拆裝。
在這種情況下，杯部中與基板的側(cè)部的對置部分設(shè)置為能夠相對于杯 部的其他部分拆裝，因此，杯部形成為容易維護(hù)的狀態(tài)。由此，能夠容易 地進(jìn)行杯部的清潔化。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述杯部具有調(diào)節(jié)所述對置部分的開口尺寸 的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。在這種情況下，杯部具有調(diào)節(jié)對置部分的開口尺寸的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，因此， 在基板的厚度或液狀體的飛散的程度等涂敷處理的環(huán)境不同的情況下也 能夠靈活地應(yīng)對。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述杯部具有內(nèi)側(cè)杯和外側(cè)杯，在所述內(nèi)側(cè) 杯設(shè)置有使該內(nèi)側(cè)杯在沿所述基板的外周的方向上旋轉(zhuǎn)的第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，杯部具有內(nèi)側(cè)杯和外側(cè)杯，在內(nèi)側(cè)杯設(shè)置有使該內(nèi)側(cè) 杯在沿基板的外周的方向上旋轉(zhuǎn)的第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，因此，能夠在不使杯部 整體旋轉(zhuǎn)的情況下僅使內(nèi)側(cè)杯旋轉(zhuǎn)。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述收容部具有排出所述液狀體及所述收容 部內(nèi)的氣體中至少一方的排出機(jī)構(gòu)。
在這種情況下，收容部具有排出液狀體及收容部內(nèi)的氣體中至少一方 的排出機(jī)構(gòu)，因此，能夠利用該排出機(jī)構(gòu)排出收容部內(nèi)的液狀體，并且， 能夠在收容部內(nèi)形成氣體的流動。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述杯部形成為圓形，所述排出機(jī)構(gòu)沿所述 杯部的外周的切線方向設(shè)置。
在這種情況下，杯部形成為圓形，排出機(jī)構(gòu)沿杯部的外周的切線方向 設(shè)置，因此，能夠沿基板的旋轉(zhuǎn)方向排出液狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述排出機(jī)構(gòu)在排出路徑上具有氣液分離機(jī)構(gòu)。
排出機(jī)構(gòu)在排出路徑上具有氣液分離機(jī)構(gòu)，因此，能夠容易處理液狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，還具備將所述杯部的清洗液向所述基板噴出 的清洗液噴嘴。
在這種情況下，還具備將杯部的清洗液向基板噴出的清洗液噴嘴，因 此，能夠使通過基板的旋轉(zhuǎn)而噴出在基板上的清洗液向杯內(nèi)飛散。由此， 能夠有效地清洗杯部。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，作為所述清洗液噴嘴，使用所述噴嘴。 在這種情況下，作為清洗液噴嘴，使用上述噴嘴，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)維 護(hù)的效率化。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，還具備調(diào)整所述基板的外周部的涂敷狀態(tài)的調(diào)整部。
在這種情況下，還具備調(diào)整基板的外周部的涂敷狀態(tài)的調(diào)整部，因此， 能夠提高液狀體的涂敷性能。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述調(diào)整部具有通過將所述基板的外周部浸 漬于溶解液中而除去所述液狀體的除去部。
在這種情況下，調(diào)整部具有通過將基板的外周部浸漬于溶解液中而除 去液狀體的除去部，因此，能夠有效地除去在外周部涂敷的液狀體。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述除去部具有將所述溶解液向所述基板的 周緣部噴出的溶解液噴嘴。
在這種情況下，除去部具有將溶解液向基板的周緣部噴出的溶解液噴 嘴，因此，能夠在不使基板的位置移動的情況下，利用該溶解液噴嘴除去 基板的周緣部。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)基板的處理的效率化。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述溶解液噴嘴能夠噴出所述杯部的清洗液。
在這種情況下，溶解液噴嘴能夠噴出杯部的清洗液，因此，能夠使溶 解液噴嘴分別進(jìn)行基板的外周部的涂敷狀態(tài)的調(diào)整及杯的清洗。由此，能 夠在不另行配置杯的清洗機(jī)構(gòu)的情況下進(jìn)行各動作，能夠避免裝置結(jié)構(gòu)的 復(fù)雜化。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述除去部具有控制部，所述控制部在所述 溶解液不與所述基板接觸的位置從所述溶解液噴嘴噴出所述溶解液，并 且，在噴出了所述溶解液的狀態(tài)下使該溶解液噴嘴向?qū)λ龌鍑姵龅膰?出位置移動。
在這種情況下，除去部具有控制部，所述控制部在溶解液不與基板接 觸的位置使溶解液噴嘴噴出溶解液，并且，在噴出了溶解液的狀態(tài)下使該 溶解液噴嘴向?qū)鍑姵龅膰姵鑫恢靡苿?，因此，能夠提高基板上的外?部的涂敷狀態(tài)的調(diào)整精度。
優(yōu)選在上述涂敷裝置中，所述調(diào)整部具有吸引所述基板的外周部的第 二吸引部。
在這種情況下，調(diào)整部具有吸引基板的外周部的第二吸引部，因此能 夠迅速地除去在基板的外周部附著的液狀體或溶解液。發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明的第一方式可知，能夠簡化基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)，能夠縮 短化處理節(jié)拍。
根據(jù)本發(fā)明的第二方式可知，能夠縮短輸送裝置的處理節(jié)拍，能夠提 高生產(chǎn)率。
根據(jù)本發(fā)明的第三方式可知，能夠改善在基板上涂敷的液狀體的狀態(tài)。


圖1是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖2是表示本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的主視圖。 圖3是表示本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。 圖4是表示基板輸送裝置的結(jié)構(gòu)的圖。 圖5A及5B是表示吸引部件的結(jié)構(gòu)的圖。 圖6A及6B是表示閉塞部件的結(jié)構(gòu)的圖。 圖7是表示保持部的結(jié)構(gòu)的圖。 圖8A及8B是表示保持部的結(jié)構(gòu)的圖。 圖9是表示基板裝載機(jī)構(gòu)及基板卸載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。 圖IO是表示基板裝載機(jī)構(gòu)及基板卸載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。 圖11是表示基板裝載機(jī)構(gòu)及基板卸載機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。 圖12是表示基板輸送裝置的動作的圖。 圖13是同樣表示基板輸送裝置的動作的圖。 圖14是表示本發(fā)明的基板輸送裝置的其他結(jié)構(gòu)的圖。 圖15是表示本發(fā)明的基板輸送裝置的其他結(jié)構(gòu)的圖。 圖16是表示本發(fā)明的基板輸送裝置中的涂敷機(jī)構(gòu)及基板處理單元的 結(jié)構(gòu)的圖。
圖17是表示基板處理單元的結(jié)構(gòu)的主視圖。 圖18是表示基板處理單元的結(jié)構(gòu)的俯視圖。 圖19是表示噴嘴的前端的結(jié)構(gòu)的圖。 圖20是表示內(nèi)側(cè)杯的結(jié)構(gòu)的圖。圖21是表示噴嘴管理機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。 圖22是表示周緣部除去機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的圖。
圖23是表示周緣部除去機(jī)構(gòu)的其他結(jié)構(gòu)的圖。 圖24A及圖24B是表示本發(fā)明的涂敷裝置的其他結(jié)構(gòu)的圖。 圖中SYS —基板處理系統(tǒng)；S —基板；Sa—開口部；SI—處理部分； S2 —非處理部分；SPU —基板處理單元；C一盒；CT一涂敷裝置；EBR— 周緣部除去裝置；BF —緩沖機(jī)構(gòu)；SC —基板輸送裝置；SC1—送入側(cè)輸送 裝置SC; SC2 —送出側(cè)輸送裝置SC; LP —裝載位置；UP —卸載位置；30、
40 —基部；31、 41一臂部；32、 42 —保持部；33、 43 —旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；34、 44 一吸引機(jī)構(gòu)；35、 45 —移動機(jī)構(gòu)；36、 46—吸引部件；36a、 46a—吸附部； 36b、 46b—裝配部;36c、 46c—槽部;37、 47—閉塞部件;81 —保持部; 81a—抵接部；81b—軸部；81c—抵接面；82—旋轉(zhuǎn)保持部；82a—馬達(dá)裝 置；82b—旋轉(zhuǎn)保持部件；82c—抵接部；82d—軸部；82e—抵接面。
具體實(shí)施例方式
基于

本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1是表示本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)SYS的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖 2是表示基板處理系統(tǒng)SYS的概略結(jié)構(gòu)的主視圖。圖3是表示基板處理系 統(tǒng)SYS的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。
在本實(shí)施方式中，每當(dāng)說明基板處理系統(tǒng)SYS的結(jié)構(gòu)時(shí)，為了表示的 簡單，使用XYZ坐標(biāo)系說明圖中的方向。在該XYZ坐標(biāo)系中，將圖中左 右方向標(biāo)記為X方向，將在俯視的情況下與X方向正交的方向標(biāo)記為Y 方向。與包含X方向軸及Y方向軸的平面垂直的方向標(biāo)記為Z方向。關(guān) 于X方向、Y方向及Z方向說明如下，圖中的箭頭的方向分別為+方向，
與箭頭方向相反的方向?yàn)橐环较颉?br> 如圖1 圖3所示，基板處理系統(tǒng)SYS是例如裝入工廠等制造生產(chǎn)線 而使用，并在基板S的規(guī)定的區(qū)域形成薄膜的系統(tǒng)?；逄幚硐到y(tǒng)SYS
具備載物臺單元STU;基板送入單元LDU;基板處理單元SPU;基板
送出單元ULU;輸送單元CRU;控制單元CNU。
在基板處理系統(tǒng)SYS中，載物臺單元STU例如經(jīng)由腿部件等，支承于地板面，基板處理單元SPU、基板送入單元LDU、基板送出單元ULU 及輸送單元CRU配置于載物臺單元STU的上表面?；逄幚韱卧猄PU、 基板送入單元LDU、基板送出單元ULU及輸送單元CRU形成為各單元 內(nèi)部被罩部件覆蓋的狀態(tài)。在基板處理系統(tǒng)SYS中，基板處理單元SPU、 基板送入單元LDU及基板送出單元ULU排列于沿X軸方向的直線上?；?板處理單元SPU設(shè)置于基板送入單元LDU和基板送出單元ULU之間。 載物臺單元STU中配置基板處理單元SPU的部分的俯視的情況下的中央 部形成為相對于其他部分向一Z方向凹陷的狀態(tài)。
作為本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)SYS的處理對象即基板S，例如，可 以舉出硅等半導(dǎo)體基板、構(gòu)成液晶面板的玻璃基板、構(gòu)成硬盤的基板等。 在本實(shí)施方式中，將例如構(gòu)成硬盤的基板，即在包括玻璃等的圓盤狀基材 的表面涂敷有金剛石的基板，即在俯視的情況下的中央部設(shè)置有開口部 (參照圖12、圖13等)的基板S為例子進(jìn)行說明。
本實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)SYS中的基板S的送入及送出是使用能夠 收容多張?jiān)摶錝的盒C而進(jìn)行。盒C是形成為斗狀的容器，能夠以使 多個(gè)基板S的基板面對置的方式將該基板S以一列收容。從而，盒C形成 為在Z軸方向上豎立基板S的狀態(tài)下收容該基板S的結(jié)構(gòu)。盒C在底部 具有開口部(參照圖9及圖10)。各基板S以經(jīng)由該開口部向盒C的底部 露出的狀態(tài)收容。盒C在俯視的情況下形成為矩形狀，例如，如圖2所示， 在+Z側(cè)的各邊部分具有卡合部Cx。在本實(shí)施方式中，作為盒C，使用送 入基板S時(shí)使用的送入用盒Cl、在送出基板S時(shí)使用的送出用盒C2這兩 種盒。在送入用盒C1中只收容處理前的基板S，在送出用盒C2中只收容 處理后的基板S。送入用盒Cl在基板處理單元SPU和基板送入單元LDU 之間使用。送出用盒C2在基板處理單元SPU和基板送出單元ULU之間 使用。從而，不會混合使用送入用盒C1和送出用盒C2。送入用盒C1及 送出用盒C2例如形成為相同形狀、相同尺寸。 (基板送入單元)
基板送入單元LDU配置于基板處理系統(tǒng)SYS中一X側(cè)?；逅腿雴?元LDU是被供給收容有處理前的基板S的送入用盒C1，并且回收空的送 入用盒Cl的單元?；逅腿雴卧狶DU中Y軸方向?yàn)殚L邊，多個(gè)送入用盒C1可以沿Y軸方向待機(jī)。
基板送入單元LDU具備盒出入口 IO及盒移動機(jī)構(gòu)(第二移動機(jī)構(gòu))
11。盒出入口 IO是在覆蓋基板送入單元LDU的罩部件的一Y側(cè)設(shè)置的開 口部。盒出入口 10是收容有處理前的基板S的送入用盒C1的入口 (供給 口)，是空的送入用盒C1的出口 (回收口)。
盒移動機(jī)構(gòu)]具有例如帶式傳送機(jī)構(gòu)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。在本實(shí)施方式中， 作為該驅(qū)動機(jī)構(gòu)，具有輸送帶(供給用帶lla及回收用帶llb)。輸送帶在 從基板送入單元LDU的+Y側(cè)端部到一Y側(cè)端部之間沿Y軸方向延伸設(shè) 置，在X軸方向上兩條并列配置。
供給用帶lla是配置于兩條輸送帶中一X側(cè)的輸送帶。供給用帶lla 的+Z側(cè)成為輸送面。供給用帶11a形成為該輸送面向+Y方向移動地旋轉(zhuǎn) 的結(jié)構(gòu)。在供給用帶lla的輸送面上載置多個(gè)經(jīng)由盒出入口 10進(jìn)入基板 送入單元LDU內(nèi)的送入用盒Cl。該送入用盒Cl利用供給用帶lla的旋 轉(zhuǎn)來向輸送單元CRU側(cè)移動。
回收用帶lib是配置于兩條輸送帶中+X側(cè)的輸送帶?；厥沼脦ib 的+Z側(cè)成為輸送面?；厥沼脦ib形成為輸送面向一Y方向移動地旋轉(zhuǎn) 的結(jié)構(gòu)。在回收用帶lib的輸送面上載置多個(gè)空的送入用盒Cl。該送入 用盒C1通過回收用帶llb的旋轉(zhuǎn)來向盒出入口 IO側(cè)移動。
在本實(shí)施方式中，例如，送入用盒C1能夠在供給用帶lla及回收用 帶llb上分別設(shè)置五處的待機(jī)位置(容器待機(jī)部)待機(jī)。在基板送入單元 LDU中，通過使供給用帶lla及回收用帶lib旋轉(zhuǎn)，能夠移動送入用盒 Cl的待機(jī)位置，通過使該待機(jī)位置移動，能夠縮短送入用盒C1的輸送時(shí) 間。
(基板處理單元)
基板處理單元SPU配置于基板處理系統(tǒng)SYS中基板送入單元LDU的 +X側(cè)即X軸方向的大致中央。基板處理單元SPU是進(jìn)行對于基板S涂敷 抗蝕劑等液狀體形成薄膜的處理、或除去在基板S的周邊部分形成的薄膜 的處理等對基板S的各種處理的單元?；逄幚韱卧猄PU具備涂敷裝 置(基板處理區(qū)域)CT、周緣部除去裝置EBR、緩沖機(jī)構(gòu)(基板送入?yún)^(qū) 域、基板送出區(qū)域)BF和基板輸送裝置(輸送裝置)SC。涂敷裝置CT配置于基板處理單元SPU中俯視的情況下的大致中央，
固定于載物臺單元STU的凹陷的部分的上表面。涂敷裝置CT是在基板S 涂敷形成液狀體的薄膜的裝置。在本實(shí)施方式中，涂敷裝置CT在基板S 上形成用于進(jìn)行蓋印處理的薄膜。涂敷裝置CT具有將作為該薄膜的構(gòu) 成材料的液狀體向基板S上噴出的未圖示的噴嘴?？梢詮囊籜側(cè)及+X側(cè) 這兩側(cè)進(jìn)入涂敷裝置CT。從而，能夠從一X側(cè)及+X側(cè)這兩側(cè)進(jìn)行基板S 的送入及送出。涂敷裝置CT在X軸方向的大致中央部設(shè)定的涂敷位置(用 圖中虛線表示的部分)進(jìn)行涂敷處理。
周緣部除去裝置EBR設(shè)置于涂敷裝置CT的+X側(cè)且沿基板處理單元 SPU的一Y側(cè)的端邊的位置。周緣部除去裝置EBR是除去在基板S的周 緣部形成的薄膜的裝置。利用周緣部除去裝置EBR的除去處理優(yōu)選在基 板S形成的薄膜未干燥的期間進(jìn)行。因此，周緣部除去裝置EBR優(yōu)選配 置在從涂敷裝置CT將基板S以短時(shí)間輸送的位置。周緣部除去裝置EBR 具有例如通過使基板S旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，將該基板S的周緣部浸漬于溶解液， 將在基板S周緣部形成的薄膜溶解而除去的未圖示的浸漬部。
緩沖機(jī)構(gòu)BF設(shè)置于沿基板處理單元SPU的+Y側(cè)端邊的位置即在X 軸方向上夾著涂敷裝置CT的兩處位置。兩處的緩沖機(jī)構(gòu)BF中配置于涂 敷裝置CT的一X側(cè)的緩沖機(jī)構(gòu)為送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)(基板送入?yún)^(qū)域)BF1， 配置于涂敷裝置CT的+X側(cè)的緩沖機(jī)構(gòu)為送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)(基板送出區(qū) 域)BF2。
送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1是使向基板處理單元SPU內(nèi)供給進(jìn)來的送入用 盒C1待機(jī)的部分。在送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1設(shè)置有盒移動機(jī)構(gòu)(第三移動 機(jī)構(gòu))20。盒移動機(jī)構(gòu)20具有例如帶式傳送機(jī)構(gòu)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。在本實(shí)施 方式中，作為驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)置有兩個(gè)輸送帶20a及20b。
輸送帶20a設(shè)置于沿送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1的X軸方向的區(qū)域。輸送帶 20a的+Z側(cè)的面成為輸送面，供給過來的送入用盒Cl載置于該輸送面上。 輸送帶20a形成為輸送面沿X軸方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。通過輸送帶20a 的旋轉(zhuǎn)，送入用盒C1能夠沿X軸方向在送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1內(nèi)移動。輸 送帶20b設(shè)置于送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1內(nèi)的X軸方向的中央部。輸送帶20b 的+Z側(cè)的面成為輸送面，在該輸送面載置送入用盒C1。輸送帶20b形成為輸送面沿Y軸方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。通過輸送帶20b的旋轉(zhuǎn)，送入用 盒C1沿Y軸方向移動。這樣，通過盒移動機(jī)構(gòu)20，各送入用盒C1的待 機(jī)位置移動。
送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1使多個(gè)例如三個(gè)送入用盒Cl在輸送帶20a上且 在X軸方向上排列待機(jī)(第二容器待機(jī)部)。圖中一X側(cè)的待機(jī)位置Pl 是例如向基板處理單元SPU供給過來的送入用盒Cl的待機(jī)位置。圖中X 軸方向的中央的待機(jī)位置P2是從待機(jī)位置Pl移動過來的送入用盒Cl的 待機(jī)位置。圖中+X側(cè)的待機(jī)位置P3是從待機(jī)位置P2移動過來的送入用 盒C1的待機(jī)位置。
在待機(jī)位置P2內(nèi)配置有上述輸送帶20b的+Y側(cè)端部。因此，在待機(jī) 位置P2配置的送入用盒Cl能夠利用輸送帶20b相對于待機(jī)位置P2向一 Y側(cè)移動，在該移動目的地的待機(jī)位置P4待機(jī)。在待機(jī)位置P4的+Z方 向上設(shè)置有基板S的裝載位置LP?；錝經(jīng)由該裝載位置LP向涂敷裝置 CT輸送。
送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2是使向基板處理單元SPU內(nèi)供給過來的送出用 盒C2待機(jī)的部分。在送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2設(shè)置有盒移動機(jī)構(gòu)(第三移動 機(jī)構(gòu))22。盒移動機(jī)構(gòu)22具有例如帶式傳送機(jī)構(gòu)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。在本實(shí)施 方式中，與送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1相同地，作為驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)置有兩個(gè)輸送帶 22a及22b。
輸送帶22a設(shè)置于送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的沿X軸方向的區(qū)域。輸送帶 22a的+Z側(cè)的面成為輸送面，供給過來的送出用盒C2載置于該輸送面上。 輸送帶22a形成為輸送面向X軸方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。通過輸送帶22a 的旋轉(zhuǎn)，送出用盒C2能夠沿X軸方向在送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2內(nèi)移動。輸 送帶22b設(shè)置于送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2內(nèi)的X軸方向的中央部。輸送帶22b 與輸送帶20b相同地，輸送帶22b的+Z側(cè)的面成為輸送面，在該輸送面 載置送出用盒C2。輸送帶22b形成為輸送面沿Y軸方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié) 構(gòu)。通過輸送帶22b的旋轉(zhuǎn)，送出用盒C2沿Y軸方向移動。這樣，利用 盒移動機(jī)構(gòu)22使各送出用盒C2的待機(jī)位置移動。
送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2使多個(gè)例如三個(gè)的送出用盒C2在輸送帶22a上 且在X軸方向上排列而待機(jī)(第二容器待機(jī)部)。圖中一X側(cè)的待機(jī)位置P5是例如向基板處理單元SPU供給過來的送出用盒C2的待機(jī)位置。圖中 X軸方向的中央的待機(jī)位置P6是從待機(jī)位置P5移動過來的送出用盒C2 的待機(jī)位置。圖中+X側(cè)的待機(jī)位置P7是從待機(jī)位置P6移動過來的送出 用盒C2的待機(jī)位置。
在待機(jī)位置P6內(nèi)配置有上述輸送帶22b的+Y側(cè)端部。因此，在待機(jī) 位置P6配置的送出用盒C2能夠利用輸送帶22b相對于待機(jī)位置P6向— Y側(cè)移動，在該移動目的地的待機(jī)位置P6待機(jī)。在待機(jī)位置P8的+Z方 向上設(shè)置有基板S的卸載位置UP。基板S經(jīng)由該卸載位置UP從涂敷裝 置CT向送出用盒C2側(cè)輸送過來。
基板輸送裝置SC設(shè)置于基板處理單元SPU的Y軸方向中央的位置，. 即，在X軸方向上隔著涂敷裝置CT的兩處位置。兩處的基板輸送裝置SC 中配置于涂敷裝置CT的一X側(cè)的裝置為送入側(cè)輸送裝置SC1，配置于涂 敷裝置CT的+X側(cè)的裝置為送出側(cè)輸送裝置SC2。送入側(cè)輸送裝置SC1、 送出側(cè)輸送裝置SC2及涂敷裝置CT配置于沿X軸方向的直線上。
送入側(cè)輸送裝置SC1分別進(jìn)入涂敷裝置CT及送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1的 裝載位置LP，在這些之間輸送基板S。圖4是表示送入側(cè)輸送裝置的結(jié)構(gòu) 的示意圖。如圖1 圖4所示，送入側(cè)輸送裝置SC1具有基部30、臂部 31和保持部(吸引部)32。
基部30設(shè)置于載物臺單元STU中凹陷的部分的上表面。基部30具有 固定臺30a、旋轉(zhuǎn)臺30b、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)30c、支承部件30d。
固定臺30a固定于載物臺單元STU的凹陷的部分的上表面?；?0 經(jīng)由該固定臺30a形成為不偏離位置地固定于載物臺單元STU上的狀態(tài)。 旋轉(zhuǎn)臺30b經(jīng)由旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)30c配置于固定臺30a上。旋轉(zhuǎn)臺30b設(shè)置為能 夠相對于固定臺30a以Z軸為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)30c是設(shè)置于固定臺 30a和旋轉(zhuǎn)臺30b之間，對旋轉(zhuǎn)臺30b賦予旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動機(jī)構(gòu)。支承部件 30d是一Z側(cè)的端部固定于旋轉(zhuǎn)臺30b上的支柱部件。支承部件30d設(shè)置 于旋轉(zhuǎn)臺30b的多個(gè)部位，例如兩處。支承部件30d的+Z側(cè)的端部插入 臂部31內(nèi)。
臂部31由基部30的支承部件30d支承。臂部31使保持部32向基板 處理單元SPU內(nèi)的不同的位置移動。臂部31具有形成為五邊形的框體31a。在框體31a的前端面31b設(shè)置有開口部31c。在框體31a的內(nèi)部設(shè)置 有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33、吸引機(jī)構(gòu)34和移動機(jī)構(gòu)35。
旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33配置于框體3la內(nèi)的+Z偵(j。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33具有馬達(dá)裝置 33a和旋轉(zhuǎn)軸部件33b。馬達(dá)裝置33a和旋轉(zhuǎn)軸部件33b能夠沿圖中左右 方向一體地移動。馬達(dá)裝置33a是向旋轉(zhuǎn)軸部件33b賦予旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動裝 置。旋轉(zhuǎn)軸部件33b是相對于XY平面平行地配置的截面下為圓形的棒狀 部件。
旋轉(zhuǎn)軸部件33b利用馬達(dá)裝置33a的驅(qū)動力以該圓的中心為旋轉(zhuǎn)軸旋 轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)軸部件33b配置為一端從開口部31c向框體31a的外部突出(突 出部33c)。在旋轉(zhuǎn)軸部件33b的突出部33c側(cè)的端面設(shè)置有用于安裝保持 部32的凹部33d。凹部33d的截面形成為圓形。突出部33c具有以將保持 部32安裝于凹部33d的狀態(tài)使該保持部32固定的固定機(jī)構(gòu)。通過利用該 固定機(jī)構(gòu)固定保持部32，旋轉(zhuǎn)軸部件33b和保持部32 —體地旋轉(zhuǎn)。
旋轉(zhuǎn)軸部件33b具有貫通孔33e，貫通孔33e沿旋轉(zhuǎn)軸方向貫通旋轉(zhuǎn) 軸部件33b的凹部33d的底面33f和該旋轉(zhuǎn)軸部件33b的另一側(cè)的端面33g 之間而形成。旋轉(zhuǎn)軸部件33b的凹部33d的底面33f側(cè)和端面33g側(cè)形成 為經(jīng)由貫通孔33e連通的狀態(tài)。
吸引機(jī)構(gòu)34設(shè)置于旋轉(zhuǎn)軸部件33b的端面33g側(cè)。吸引機(jī)構(gòu)34具有 吸引泵34a等吸引裝置。吸引泵34a在旋轉(zhuǎn)軸部件33b的端面33g中與貫 通孔33e連接。吸引泵34a通過從旋轉(zhuǎn)軸部件33b的端面33g吸引貫通孔 33e，能夠吸引在與該貫通孔33e連通的凹部33d的底面33f上配置的保持 部32。
移動機(jī)構(gòu)35配置于框體31a內(nèi)的一Z側(cè)。移動機(jī)構(gòu)35具有馬達(dá)裝 置35a;旋轉(zhuǎn)軸部件35b;可動部件35c。馬達(dá)裝置35a是對旋轉(zhuǎn)軸部件35b 賦予旋轉(zhuǎn)力的驅(qū)動裝置。旋轉(zhuǎn)軸部件35b是一端插入馬達(dá)裝置35a的內(nèi)部 的截面為圓形的棒狀部件。旋轉(zhuǎn)軸部件35b利用馬達(dá)裝置35a以該圓的中 心為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。
可動部件35c具有螺合部35d和連接部35e。螺合部35d與旋轉(zhuǎn)軸部 件35b—體地形成，在表面具有未圖示的螺紋牙。連接部35e固定于旋轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)33的例如馬達(dá)裝置33a。在連接部件35e的下表面形成有螺紋牙，該螺紋牙和在螺合部35d形成的螺紋牙嚙合。
若利用馬達(dá)裝置35a的驅(qū)動，使旋轉(zhuǎn)軸部件35b旋轉(zhuǎn)，則旋轉(zhuǎn)軸部件 35b和螺合部35d—體地旋轉(zhuǎn)。通過螺合部35d的旋轉(zhuǎn)，與該螺合部35d 的螺紋牙嚙合的連接部件35e向圖中左右方向移動，連接部件35e及在該 連接部35e固定的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33向圖中左右方向一體地移動。通過該移動， 在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33的圖中右端設(shè)置的保持部32向圖中左右方向移動。
保持部32能夠拆裝地固定于旋轉(zhuǎn)軸部件33b的凹部33d。保持部32 例如使用吸附力等保持力來保持基板S。保持部32具有吸引部件36和閉 塞部件37。吸引部件36和閉塞部件37設(shè)置為能夠拆裝。
圖5是表示吸引部件36的結(jié)構(gòu)的圖。圖5A是吸引部件36的主視圖， 圖5B是吸引部件36的側(cè)視圖。
吸引部件36具有吸附部36a和裝配部36b。吸附部36a設(shè)置于吸引部 件36的圖中正面?zhèn)?，形成為圓盤狀。吸附部36a是吸附基板S的部分。 吸附部36a的正面?zhèn)鹊亩嗣娉蔀槲交錝的吸附面36e。在該吸附面36e 形成有槽部36c。槽部36c在主視的情況下例如形成為+狀。槽部36c形成 為隨著靠近吸附部36a的主視下的中央部，相對于吸附面36e逐漸變深。
裝配部36b設(shè)置于吸引部件36的圖中背面?zhèn)燃次考?6的后視下 的中央部，形成為棒狀。裝配部36b是插入凹部33d的部分。裝配部36b 的背面?zhèn)鹊亩嗣娉蔀樵谘b配時(shí)與凹部33d的底部抵接的抵接面36f。裝配 部36b形成為自身的直徑為凹部33d的直徑以下。
在吸引部件36形成有貫通孔36d。貫通孔36d設(shè)置于主視下的吸附部 36a及裝配部36b的中央部，并以對于該吸附部36a及裝配部36b從正面 側(cè)向背面?zhèn)蓉炌ǖ姆绞叫纬?。貫通?6d在吸附部36a側(cè)與槽部36c連接。 包括槽部36c的吸附面36e側(cè)和抵接面36f側(cè)形成為經(jīng)由貫通孔36d連通 的狀態(tài)。
在將裝配部36b安裝于凹部33d的情況下，貫通孔36d形成為與旋轉(zhuǎn) 軸部件33b的貫通孔33e連通的狀態(tài)。因此，吸引部件36的吸附面36e 側(cè)形成為經(jīng)由貫通孔33e及貫通孔36d與吸引機(jī)構(gòu)34的吸引泵34a連接 的狀態(tài)。
圖6是表示閉塞部件37的結(jié)構(gòu)的圖。圖6A是閉塞部件37的主視圖，
30圖6B是閉塞部件37的側(cè)視圖。
閉塞部件37具有形成為圓板狀的閉塞部37a;設(shè)置于閉塞部37a的后視下的中央部的圓柱狀卡合部37b。
閉塞部37a形成為比基板S的開口部的直徑小的直徑，能夠插入基板S的開口部內(nèi)。閉塞部37a的厚度(圖6B的左右方向的尺寸)形成為比基板S的厚度薄，將閉塞部37a插入基板S的開口部內(nèi)的情況下，閉塞部37a不從基板S露出。
卡合部37b設(shè)置為能夠插入吸附部36a的貫通孔36d。卡合部37b形成為自身的直徑為貫通孔36d的直徑以下。卡合部37b形成為自身的厚度方向的尺寸(圖6B的左右方向的尺寸)比在吸附部36a形成的槽部36c的最深的位置和吸附部36a的吸附面之間的尺寸小。卡合部37b能夠插入貫通孔36d中。
圖7是表示將閉塞部件37裝配于吸引部件36的主視圖。圖8A是表示沿圖7中的A—A截面的形狀的圖。圖8B是表示沿圖7中的B—B截面的形狀的圖。
閉塞部件37通過將卡合部37b插入吸引部件36的貫通孔36d中而裝配于吸引部件36。在裝配時(shí)，形成為閉塞部37a的背面?zhèn)缺晃讲?6a的吸附面支承的狀態(tài)，在主視下形成為槽部36c的一部分由閉塞部37a堵塞的狀態(tài)?？ê喜?7b的厚度方向的尺寸小于槽部36c的最深的位置和吸附面之間的尺寸，因此，如圖8A所示，卡合部37b不會完全堵塞貫通孔36d，形成為在槽部36c和貫通孔36d之間形成有間隙的狀態(tài)。
在如此構(gòu)成的送入側(cè)輸送裝置SC1中，臂部31以Z軸為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，或沿XY平面方向移動，由此形成為使保持部32進(jìn)入涂敷裝置CT和裝載位置LP這兩者的結(jié)構(gòu)。配置于臂部31等的各旋轉(zhuǎn)軸部件形成為將多個(gè)軸
部件利用聯(lián)軸器連接的結(jié)構(gòu)也無妨。
返回圖1 圖3，送出側(cè)輸送裝置SC2分別進(jìn)入涂敷裝置CT、送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的卸載位置UP及周緣部除去裝置EBR，在這些之間輸送基板S。送出側(cè)輸送裝置SC2具有基部40 (固定臺40a、旋轉(zhuǎn)臺40b)、臂部41和保持部(吸引部)42。送出側(cè)輸送裝置SC2的結(jié)構(gòu)形成為與送入側(cè)輸送裝置SC1相同的結(jié)構(gòu)，因此，省略各結(jié)構(gòu)要件的說明。在圖4 圖8中，將與送入側(cè)輸送裝置SC1的各結(jié)構(gòu)要件對應(yīng)的送出側(cè)輸送裝置SC2的結(jié)構(gòu)要件由括號內(nèi)的符號來示出。以下，涉及送出側(cè)輸送裝置SC2的結(jié)構(gòu)要件時(shí)，使用與對應(yīng)的送入側(cè)輸送裝置SC1的結(jié)構(gòu)要件相同的名稱，在該名稱后標(biāo)注圖4 圖8的括號內(nèi)的符號而記載。
基板處理單元SPU除了上述結(jié)構(gòu)之外，還具有基板裝載機(jī)構(gòu)(拾取機(jī)構(gòu))21及基板卸載機(jī)構(gòu)27?；逖b載機(jī)構(gòu)21配置于待機(jī)位置P4的附近。圖9 圖11是概略地表示基板裝載機(jī)構(gòu)21的結(jié)構(gòu)的圖。
如這些圖所示，基板裝載機(jī)構(gòu)21具有基板上部保持機(jī)構(gòu)23和基板下部保持機(jī)構(gòu)24?；迳喜勘３謾C(jī)構(gòu)23配置于待機(jī)位置P4的+X側(cè)。基板上部保持機(jī)構(gòu)23保持基板S的+Z側(cè)而沿Z軸方向移動。基板上部保持機(jī)構(gòu)23具有升降部件23a、夾持部件23b和升降機(jī)構(gòu)23c。
升降部件23a是形成為側(cè)視下的L字狀的支柱部件，并設(shè)置為能夠沿Z軸方向移動。升降部件23a具有沿Z軸方向延伸的支柱部分、從該支柱部分的上端向X軸方向突出的突出部分。其中，支柱部分設(shè)置至相對于送入用盒Cl的+Z端面的+Z側(cè)。升降部件23a中突出部分配置于俯視下與裝載位置LP重疊的位置。在該突出部分的一Z側(cè)以與基板S的形狀對應(yīng)的方式形成有凹部。
夾持部件23b安裝于升降部件23a的該凹部。從而，關(guān)于該夾持部件23b也設(shè)置于俯視下與裝載位置LP重疊的位置。升降機(jī)構(gòu)23c是安裝于升降部件23a的驅(qū)動部，配置于送入用盒Cl的一Z頂U(kuò)。作為升降機(jī)構(gòu)23c，例如，可以使用汽缸等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
基板下部保持機(jī)構(gòu)24設(shè)置于俯視下與裝載位置LP的中央部重疊的位置?；逑虏勘３謾C(jī)構(gòu)24保持基板S的一Z側(cè)而沿Z軸方向移動?；逑虏勘３謾C(jī)構(gòu)24具有升降部件24a、夾持部件24b和升降機(jī)構(gòu)24c。升降部件24a是形成為棒狀的支柱部件，設(shè)置為能夠沿Z軸方向移動。夾持部件24b安裝于升降部件24a的+Z側(cè)的前端，關(guān)于該夾持部件24b，也配置于俯視下與裝載位置LP的中央部重疊的位置。升降機(jī)構(gòu)24c是安裝于升降部件24a的驅(qū)動部，配置于送入用盒Cl的一Z側(cè)。作為升降機(jī)構(gòu)24c，例如，可以使用汽缸等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
基板上部保持機(jī)構(gòu)23的升降機(jī)構(gòu)23c和基板下部保持機(jī)構(gòu)24的升降
32機(jī)構(gòu)24c能夠分別獨(dú)立運(yùn)行，并且，還能夠使兩者連動而運(yùn)行。
基板卸載機(jī)構(gòu)27配置于待機(jī)位置P8的附近?；逍遁d機(jī)構(gòu)27形成為與基板裝載機(jī)構(gòu)21相同的結(jié)構(gòu)。在圖9 圖11中，將與基板裝載機(jī)構(gòu)21的各結(jié)構(gòu)要件(包括裝載位置LP)對應(yīng)的基板卸載機(jī)構(gòu)27的結(jié)構(gòu)要件(包括卸載位置UP)由括號內(nèi)的符號來示出。
基板卸載機(jī)構(gòu)27具有基板上部保持機(jī)構(gòu)25和基板下部保持機(jī)構(gòu)26。基板上部保持機(jī)構(gòu)25具有升降部件25a、夾持部件25b和升降機(jī)構(gòu)25c?；逑虏勘３謾C(jī)構(gòu)26具有升降部件26a、夾持部件26b和升降機(jī)構(gòu)26c。關(guān)于基板卸載機(jī)構(gòu)27的各結(jié)構(gòu)要件的位置關(guān)系或功能等，與基板裝載機(jī)構(gòu)21對應(yīng)的結(jié)構(gòu)要件相同，因此省略說明。(基板送出單元)
返回圖1 圖3，基板送出單元ULU配置于基板處理系統(tǒng)SYS中基板處理單元SPU的+X側(cè)?；逅统鰡卧猆LU是回收收容有處理后的基板S的送出用盒C2，并且被供給空的送出用盒C2的單元?；逅统鰡卧猆LU中Y軸方向?yàn)殚L邊，能夠?qū)⒍鄠€(gè)送出用盒C2沿Y軸方向配置。
基板送出單元ULU具備盒出入口 60及盒移動機(jī)構(gòu)(第二移動機(jī)構(gòu))61 。盒出入口 60是設(shè)置于覆蓋基板送出單元ULU的罩部件的一Y側(cè)的開口部。盒出入口 60是空的送出用盒C2的入口 (供給口)，是收容有處理后的基板S的送出用盒C2的出口 (回收口)。
盒移動機(jī)構(gòu)61例如具有帶式傳送機(jī)構(gòu)等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。在本實(shí)施方式中，作為該驅(qū)動機(jī)構(gòu)，具有輸送帶。輸送帶在從基板送出單元ULU的+Y側(cè)端部到一Y側(cè)端部之間沿Y軸方向延伸設(shè)置，在X軸方向上排列兩條配置。
供給用帶61a是兩條輸送帶中配置于一X側(cè)的輸送帶。供給用帶61a的+Z側(cè)成為輸送面。供給用帶61a形成為該輸送面向+Y方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。在供給用帶61a的輸送面上載置多個(gè)經(jīng)由盒出入口 60進(jìn)入基板送出單元ULU內(nèi)的送出用盒C2。該送出用盒C2利用供給用帶61a的旋轉(zhuǎn)，向輸送單元CRU側(cè)移動。
回收用帶61b是兩條輸送帶中配置于+X側(cè)的輸送帶?；厥沼脦?1b的+Z側(cè)成為輸送面?；厥沼脦?1b形成為使輸送面向一Y方向移動地旋轉(zhuǎn)的結(jié)構(gòu)。在回收用帶61b的輸送面上載置多個(gè)收容有處理后的基板S的送出用盒C2。該送出用盒C2利用回收用帶61b的旋轉(zhuǎn)，向盒出入口 60側(cè)移動。
在本實(shí)施方式中，例如，能夠使送出用盒C2在供給用帶61a上及回收用帶61b上分別設(shè)置有各五個(gè)的待機(jī)位置(容器待機(jī)部)待機(jī)。在基板送出單元ULU中，通過使供給用帶61a及回收用帶61b旋轉(zhuǎn)，能夠使送出用盒C2的待機(jī)位置移動，通過使該待機(jī)位置移動，能夠縮短送出用盒C2的輸送時(shí)間。(輸送單元)
輸送單元CRU配置于沿基板處理系統(tǒng)SYS內(nèi)的+Y側(cè)端邊的區(qū)域，設(shè)置為與基板處理單元SPU、基板送入單元LDU及基板送出單元ULU分別相接。輸送單元CRU在基板處理單元SPU和基板送入單元LDU之間輸送送入用盒C1，并且，在基板處理單元SPU和基板送出單元ULU之間輸送送出用盒C2。輸送單元CRU具有軌道機(jī)構(gòu)RL及盒輸送裝置CC。
軌道機(jī)構(gòu)RL固定于載物臺單元STU上，從輸送單元CRU的一X側(cè)端部以直線狀沿X軸方向延伸設(shè)置至+X側(cè)端部。軌道機(jī)構(gòu)RL是引導(dǎo)盒輸送裝置CC的移動位置的引導(dǎo)機(jī)構(gòu)。軌道機(jī)構(gòu)RL具有在Y軸方向上排列配置的平行的兩條軌道部件70。
盒輸送裝置CC以在俯視下橫跨兩條軌道部件70的方式設(shè)置于該兩條軌道部件70上。盒輸送裝置CC是分別進(jìn)入基板處理單元SPU的緩沖機(jī)構(gòu)BF、基板送入單元LDU及基板送出單元ULU，保持送入用盒C1及送出用盒C2而輸送的輸送裝置。盒輸送裝置CC具有可動部件71、盒支承板72、支承板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)73、盒保持部件74、保持部件升降機(jī)構(gòu)75和保持部件滑動機(jī)構(gòu)76。
可動部件71在俯視的情況下形成為H字狀，具有與兩條軌道部件70嵌合的凹部71a。可動部件71例如在內(nèi)部具有未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)(馬達(dá)機(jī)構(gòu)等)?？蓜硬考?1能夠利用該驅(qū)動機(jī)構(gòu)的驅(qū)動力，在沿軌道部件70的直線狀的移動區(qū)間移動。
盒支承板72是固定于可動部件71的俯視下為矩形的板狀部件。盒支承板72形成為比送入用盒Cl及送出用盒C2的底部的尺寸大的尺寸，能夠在載置了該送入用盒Cl及送出用盒C2的狀態(tài)下穩(wěn)定。盒支承板72固定于可動部件71，因此，與可動部件71—體地移動。
支承板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)73是在以Z軸為旋轉(zhuǎn)軸的XY平面上使盒支承板72旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。支承板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)73通過使盒支承板72旋轉(zhuǎn)，能夠改變在盒輸送裝置CC上載置的送入用盒Cl及送出用盒C2的長邊方向的朝向。
盒保持部件74是配置于在俯視下的盒支承板72的+Y側(cè)的俯視下為U字狀的保持部件。盒保持部件74設(shè)置為X軸方向上的位置與盒支承板72重疊。盒保持部件74經(jīng)由未圖示的支承部件支承于可動部件71，與可動部件71 —體地移動。盒保持部件74的U字的兩端部分分別成為與在送入用盒Cl及送出用盒C2設(shè)置的卡合部Cx卡合的保持部74a。保持部74a(U字的兩端部分)的X軸方向的間隔可以根據(jù)在送入用盒Cl及送出用盒C2設(shè)置的卡合部Cx的間隔來調(diào)節(jié)。盒保持部件74通過使保持部74a與卡合部Cx卡合，能夠?qū)λ腿胗煤蠧l及送出用盒C2更可靠地迸行Z軸方向的保持。
保持部件升降機(jī)構(gòu)75是設(shè)置于盒保持部件74，使該盒保持部件74沿Z軸方向移動的移動機(jī)構(gòu)。作為保持部件升降機(jī)構(gòu)75，例如可以使用汽缸等驅(qū)動機(jī)構(gòu)。通過利用保持部件升降機(jī)構(gòu)75使盒保持部件74向+Z方向移動，能夠抬起在盒保持部件74保持的送入用盒Cl及送出用盒C2。相反，通過利用保持部件升降機(jī)構(gòu)75使盒保持部件74向一Z方向移動，能夠載置抬起的盒。
保持部件滑動機(jī)構(gòu)76是設(shè)置于盒保持部件74使該盒保持部件74沿Y軸方向移動的移動機(jī)構(gòu)。保持部件滑動機(jī)構(gòu)76具有在Y軸方向上延伸的導(dǎo)向桿76b、沿該導(dǎo)向桿76b移動的可動部件76a?？蓜硬考?6a固定于盒保持部件74?？蓜硬考?6a沿導(dǎo)向桿76b在Y軸方向上移動，由此盒保持部件74與可動部件76a —體地沿Y軸方向移動。(控制單元)
控制單元CNU設(shè)置于基板處理系統(tǒng)SYS的載物臺單元STU內(nèi)。控制單元CNU具備例如控制基板處理單元SPU中的基板處理動作、基板送入單元LDU或基板送出單元ULU中的盒移動動作、輸送單元CRU中的輸送動作等上述各單元中的各動作的控制裝置、或上述各單元中必要的材料的供給源等。作為材料的供給源，例如，可以舉出液狀體的供給源或清洗液的供給源等。
其次，說明如上所述地構(gòu)成的基板處理系統(tǒng)SYS的動作。利用控制單
元CNU來控制在基板處理系統(tǒng)SYS的各單元中進(jìn)行的動作。在以下的說明中，以進(jìn)行動作的單元為主體來進(jìn)行說明，但在實(shí)際中，基于控制單元CNU的控制來進(jìn)行各動作。(盒供給動作)
首先，說明將收容有處理前的基板S的送入用盒Cl配置于基板送入單元LDU，將空的送出用盒C2配置于基板送出單元ULU的盒供給動作。
例如，利用未圖示的供給裝置等，使收容有處理前的基板S的送入用盒C1經(jīng)由盒出入口 10向基板送入單元LDU內(nèi)供給?；逅腿雴卧狶DU在確認(rèn)了送入用盒C1載置于供給用帶lla的一Y側(cè)端部的情況后，使供給用帶lla旋轉(zhuǎn)。送入用盒C1利用供給用帶11a的旋轉(zhuǎn)向+Y方向移動。基板送入單元LDU在供給用帶lla移動了該送入用盒Cl的空間量程度時(shí)，臨時(shí)停止帶的旋轉(zhuǎn)，待機(jī)至其次的送入用盒Cl供給過來。在其次的送入用盒Cl供給過來的情況下，與上述相同地，在移動了送入用盒Cl的空間量程度時(shí)，臨時(shí)停止帶的旋轉(zhuǎn)，再次形成為待機(jī)狀態(tài)。使供給用帶lla旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，依次供給送入用盒C1，由此在基板送入單元LDU內(nèi)排列多個(gè)收容有處理前的基板S的送入用盒Cl。
另一方面，例如利用未圖示的供給裝置等，使空的送出用盒C2經(jīng)由盒出入口 60向基板送出單元ULU內(nèi)供給過來?；逅统鰡卧猆LU在確認(rèn)了送出用盒C2載置于供給用帶61a的一Y側(cè)端部的情況后，使供給用帶61a旋轉(zhuǎn)。送出用盒C2利用供給用帶61a的旋轉(zhuǎn)向+Y方向移動?；逅统鰡卧猆LU在供給用帶61a移動了該送出用盒C2的空間量程度時(shí)，臨時(shí)停止帶的旋轉(zhuǎn)，待機(jī)至其次的送出用盒C2供給過來。在其次的送入用盒C1供給過來的情況下，與上述相同地，在移動了送出用盒C2的空間量程度時(shí)，臨時(shí)停止帶的旋轉(zhuǎn)，再次形成為待機(jī)狀態(tài)。使供給用帶61a旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，依次供給送出用盒C2，由此在基板送出單元ULU內(nèi)排列多個(gè)空的送出用盒C2。
(盒輸送動作)
36其次，說明將供給于基板送入單元LDU的送入用盒Cl及供給于基板
送出單元ULU的送出用盒C2分別向基板處理單元SPU輸送的盒輸送動作。盒輸送動作是使用在輸送單元CRU設(shè)置的盒輸送裝置CC來進(jìn)行。
說明送入用盒C1的輸送動作。輸送單元CRU使盒輸送裝置CC沿X軸方向移動至面向基板送入單元LDU的位置，在與送入用盒Cl之間重疊X軸方向上的位置地進(jìn)行對位。輸送單元CRU在對位后，使盒保持部件74向一Y方向滑動，在基板送入單元LDU內(nèi)的最靠向+Y側(cè)的位置待機(jī)的送入用盒Cl的卡合部Cx的一Z側(cè)配置保持部74a。輸送單元CRU以在滑動時(shí)保持部74a順暢地配置于卡合部Cx的—Z側(cè)的方式預(yù)先調(diào)節(jié)保持部74a的X軸方向的間隔及Z軸方向的位置。
在使保持部74a與卡合部Cx卡合后，輸送單元CRU使盒保持部件74向+Z方向移動，抬起送入用盒C1。輸送單元CRU使抬起送入用盒C1的狀態(tài)的盒保持部件74向+Y方向滑動，使送入用盒C1向在俯視下與盒支承板72重疊的位置移動。輸送單元CRU在該位置使盒保持部件74向一Z方向移動，將送入用盒C1載置于盒支承板72上。輸送單元CRU以在載置了送入用盒Cl時(shí)使送入用盒Cl的長邊方向和盒支承板72的長邊方向一致的方式預(yù)先調(diào)節(jié)盒支承板72的朝向。通過這些動作，基板送入單元LDU內(nèi)的最靠向+Y側(cè)的送入用盒Cl取入盒輸送裝置CC。在進(jìn)行了取入后，基板送入單元LDU以使基板送入單元LDU內(nèi)的剩余的送入用盒Cl中配置于最靠向+Y側(cè)的送入用盒Cl配置于基板送入單元LDU的+Y側(cè)端部的方式使供給用帶lla移動。通過該動作，該剩余的送入用盒C1整體向+Y方向移動，供給用帶lla上的一Y側(cè)端部的空間空開，因此，利用未圖示的供給機(jī)構(gòu)，將新的送入用盒C1向該空開的空間中供給。
在取入了送入用盒Cl后，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC向+X方向移動，以使盒支承板72的長邊方向與Y軸方向一致的方式使該盒支承板72旋轉(zhuǎn)。輸送單元CRU在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，以使在基板處理單元SPU的送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1設(shè)定的待機(jī)位置P1的X軸方向上的位置和送入用盒C1的X軸方向上的位置重疊方式將盒輸送裝置CC的位置對位。先進(jìn)行盒支承板72的旋轉(zhuǎn)動作和盒輸送裝置CC的定位動作的哪一個(gè)也無妨。
37在定位動作(或旋轉(zhuǎn)動作)后，輸送單元CRU利用盒保持部件74將在盒支承板72上載置的送入用盒Cl抬起，在該狀態(tài)下使盒保持部件74向一Y方向滑動。輸送單元CRU配置于送入用盒Cl在俯視下與待機(jī)位置Pl重疊的位置，因此，使盒保持部件74向一Z方向移動，將送入用盒C1載置于待機(jī)位置P1。
在載置送入用盒Cl后，輸送單元CRU解除對送入用盒Cl的保持力，使盒保持部件74向+Y側(cè)退避。通過這些動作，取入盒輸送裝置CC的送入用盒Cl成為送入基板處理單元SPU內(nèi)的狀態(tài)。
說明送出用盒C2的輸送動作。該輸送動作是使用在上述送入用盒C1的輸送動作中使用的盒輸送裝置CC來進(jìn)行。輸送單元CRU使盒輸送裝置CC沿X軸方向移動至面向基板送出單元ULU的位置，在與送出用盒C2之間使X軸方向上的位置重疊地進(jìn)行對位，進(jìn)行基板送出單元ULU內(nèi)的最靠向+Y側(cè)的送出用盒C2的取入。該取入動作與送入用盒C1的取入動作相同。在進(jìn)行了取入后，使供給用帶61a移動，使剩余的送出用盒C2整體地向+Y方向移動。通過送出用盒C2的移動，供給用帶61a上的—Y側(cè)端部的空間空開，因此，利用未圖示的供給機(jī)構(gòu)，使新的送出用盒C2向該空開的空間供給。
在取入了送出用盒C2后，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC沿一X方向朝向送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2移動，以使盒支承板72的長邊方向與Y軸方向一致的方式使該盒支承板72旋轉(zhuǎn)。輸送單元CRU在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，以使在基板處理單元SPU的送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2設(shè)定的待機(jī)位置P5的X軸方向上的位置和送出用盒C2的X軸方向上的位置重疊的方式使盒輸送裝置CC的位置對位。
在對位后，輸送單元CRU使在盒支承板72上載置的送出用盒C2載置于待機(jī)位置P5，解除保持力，使盒保持部件74向+Y側(cè)退避。該載置動作及退避動作與關(guān)于送入用盒Cl記載的載置動作及退避動作相同。通過這些動作，取入盒輸送裝置CC的送出用盒C2形成為向基板處理單元SPU內(nèi)送入的狀態(tài)。
(基板處理動作)
其次，說明基板處理單元SPU中的處理動作。在基板處理單元SPU中，分別進(jìn)行使收容有處理前的基板S的送入用
盒Cl和送出用盒C2移動的移動動作、在送入用盒CI收容的基板S的裝載動作、在基板S涂敷液狀體的涂敷動作、除去在基板S形成的薄膜的周邊部的周緣部除去動作、處理后的基板S的卸載動作及使收容有空的送入用盒Cl和處理后的基板S的送出用盒C2移動的移動動作。除了上述各動作之外，在裝載動作和涂敷動作之間、在涂敷動作和周緣部除去動作之間及整形動作和卸載動作之間進(jìn)行基板S的送出動作。
在這些動作中，首先，說明送入用盒C1及送出用盒C2的移動動作?；逄幚韱卧猄PU利用輸送帶20a使輸送到送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BFl的待機(jī)位置PI的送入用盒Cl向待機(jī)位置P2移動，利用輸送帶20b將向該待機(jī)位置P2移動的送入用盒C1進(jìn)而向待機(jī)位置P4移動。同樣，基板處理單元SPU利用輸送帶22a使輸送到送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的待機(jī)位置P5的送出用盒C2向待機(jī)位置P6移動，利用輸送帶22b將向該待機(jī)位置P6移動的送出用盒C2進(jìn)而向待機(jī)位置P8移動。通過這些動作，輸送到基板處理單元SPU內(nèi)的送入用盒Cl及送出用盒C2配置于處理開始時(shí)的位置。
其次，說明基板S的裝載動作?；逄幚韱卧猄PU在確認(rèn)了送入用盒Cl配置于待機(jī)位置P4的情況后，將基板上部保持機(jī)構(gòu)23配置于夾持位置，并且，使基板下部保持機(jī)構(gòu)24的升降部件24a向+Z方向移動。通過該移動，安裝于升降部件24a的+Z側(cè)端部的夾持部件24b與在送入用盒Cl內(nèi)收容的基板S中配置于最靠向一Y側(cè)的一張的一Z側(cè)抵接，利用該夾持部件24b保持基板S的一Z側(cè)。
在保持了基板S的一Z側(cè)后，基板處理單元SPU在維持保持狀態(tài)的狀態(tài)下，使升降部件24a向+Z方向進(jìn)一步移動。通過該移動，利用基板下部保持機(jī)構(gòu)24將基板S向+Z側(cè)抬起，基板S的+Z側(cè)與基板上部保持機(jī)構(gòu)23的夾持部件23b抵接，利用該夾持部件23b保持基板S的+Z側(cè)?；錝形成為被基板上部保持機(jī)構(gòu)23的夾持部件23b及基板下部保持機(jī)構(gòu)24的夾持部件24b這兩者保持的狀態(tài)。
基板處理單元SPU利用夾持部件23b及夾持部件24b保持了基板S的狀態(tài)下，使升降部件23a及升降部件24a同時(shí)向+Z方向移動?；逄幚韱卧猄PU以使升降部件23a及升降部件24a的移動成為等速的方式使升降機(jī)構(gòu)23c及升降機(jī)構(gòu)24c連動?；錝在被夾持部件23b及夾持部件24b 保持的狀態(tài)下向+Z方向移動。基板處理單元SPU在基板S配置于裝載位 置LP的情況下，停止升降部件23a及升降部件24a的移動。這樣，進(jìn)行 基板S的裝載動作。
在裝載動作后，基板處理單元SPU使送入側(cè)輸送裝置SCI的保持部 32進(jìn)入裝載位置LP，使在該裝載位置LP配置的基板S保持于保持部32。 在使保持部32進(jìn)入裝載位置LP時(shí)，基板處理單元SPU使旋轉(zhuǎn)臺30b旋 轉(zhuǎn)，使臂部31的前端面31b朝向+Y側(cè)，并且，驅(qū)動馬達(dá)裝置35a，使臂 部31向Y軸方向移動。伴隨該臂部31的移動，安裝于臂部31的前端面 31b (參照圖4)的保持部32進(jìn)入裝載位置LP。
圖12是表示使保持部32進(jìn)入裝載位置LP時(shí)的狀態(tài)的剖面圖。圖13 是表示關(guān)于基板S從與保持部32相反的一側(cè)觀察圖12的狀態(tài)時(shí)的樣子的 圖。如這些圖所示，保持部32進(jìn)入裝載位置LP時(shí)，吸引部件36的吸附 面36e與基板S抵接，并且，閉塞部件37嵌入基板S的開口部Sa。閉塞 部件37配置于開口部Sa內(nèi)部，在與開口部Sa之間形成間隙38地形成為 堵塞了開口部Sa的一部分的狀態(tài)。
在使保持部32進(jìn)入后，基板處理單元SPU運(yùn)行吸引泵34a。通過該 吸引泵34a的動作，經(jīng)由貫通孔33e及貫通孔36d吸引槽部36c內(nèi)，槽部 36c內(nèi)成為負(fù)壓。通過槽部36c內(nèi)成為負(fù)壓，將在該槽部36c上配置的基 板S及閉塞部件37拉向吸附面36e側(cè)，基板S吸附在吸附面36e，形成為 在Z軸方向上豎立的狀態(tài)被保持部32保持的狀態(tài)。
在該動作中，吸引部件36的吸附面36e與基板S的非處理部分S2內(nèi) 抵接，因此，不會對基板S的處理部分Sl產(chǎn)生影響而吸引基板S。槽部 36c的一部分從基板S的開口部Sa突出，形成為在基板S的表面橫跨的狀 態(tài)，因此，關(guān)于基板S的表面也能夠可靠地吸附。
即使閉塞部件37拉向吸附面36e側(cè)，也形成為在貫通孔36d和卡合部 37b之間空開間隔的狀態(tài)，因此，不會阻礙吸引動作。閉塞部件37堵塞開 口部Sa的中央部，因此，與該中央部不被堵塞的情況相比，吸引力有效 地作用于基板S。
基板處理單元SPU在被保持部32以豎立基板S的狀態(tài)保持后，解除基于夾持部件23b及夾持部件24b的保持力，形成為基板S僅被保持部32 保持的狀態(tài)。從該狀態(tài)開始，基板處理單元SPU使解除了保持力的夾持部 件23b及夾持部件24b向一Z方向退避。在夾持部件23b及夾持部件24b 的退避后，基板處理單元SPU使送入側(cè)輸送裝置SCI的旋轉(zhuǎn)臺30b旋轉(zhuǎn)， 保持基板S的狀態(tài)下，以將該基板S沿Z軸方向豎立的狀態(tài)，將其向涂敷 裝置CT內(nèi)的涂敷位置輸送。
其次，說明在基板S涂敷液狀體的涂敷動作。在該涂敷動作中，使用 涂敷裝置CT。基板處理單元SPU以將基板S沿Z軸方向豎立的狀態(tài)高速 旋轉(zhuǎn)，使在涂敷裝置CT設(shè)置的噴嘴52進(jìn)入基板S的涂敷區(qū)域，從該噴嘴 向基板S噴出液狀體。在本實(shí)施方式中，在使該基板S旋轉(zhuǎn)時(shí)，利用送入 側(cè)輸送裝置SCI保持基板S的狀態(tài)下，使用該送入側(cè)輸送裝置SCl，使基 板S旋轉(zhuǎn)。
具體來說，基板處理單元SPU在將基板S配置于涂敷位置50的狀態(tài) 下運(yùn)行馬達(dá)裝置33a。通過馬達(dá)裝置33a的作用，旋轉(zhuǎn)軸部件33b旋轉(zhuǎn)， 保持于旋轉(zhuǎn)軸部件33b的保持部32與旋轉(zhuǎn)軸部件33b —體地旋轉(zhuǎn)。通過 該動作，基板S以沿Z軸方向豎立的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)。
基板處理單元SPU在將基板S沿Z軸方向豎立的狀態(tài)下使其旋轉(zhuǎn)后， 分別使涂敷位置50的+Z側(cè)及一X側(cè)的噴嘴52進(jìn)入基板S,從這些噴嘴 52向基板S的表面及背面噴出液狀體。噴出的液狀體利用旋轉(zhuǎn)的離心力遍 布至基板S的外周，從而在基板S的兩面形成薄膜。
各噴嘴52形成為配置于基板S的旋轉(zhuǎn)軸的一Z側(cè)的狀態(tài)，因此，在不 與保持部32及臂部31接觸的情況下配置噴嘴52。而且，各噴嘴52從基 板S的旋轉(zhuǎn)軸側(cè)向基板S的外周側(cè)噴出液狀體，因此，抑制向基板S的中 央部的液狀體的移動。
基板處理單元SPU在使基板S旋轉(zhuǎn)的同時(shí)涂敷液狀體時(shí)，使內(nèi)側(cè)杯 CP1旋轉(zhuǎn)。通過基板S的旋轉(zhuǎn)，噴出在基板S上的液狀體中超出基板S而 飛散的液狀體經(jīng)由在內(nèi)側(cè)杯CP1的對置部分53a形成的開口部收容于收容 部53內(nèi)。在收容部53內(nèi)，通過內(nèi)側(cè)杯CP1的旋轉(zhuǎn)，產(chǎn)生向該旋轉(zhuǎn)方向的 液狀體的流動及氣體的流動。沿該流動液狀體及氣體經(jīng)由與外側(cè)杯CP2連 接的排出機(jī)構(gòu)54向排出路徑排出。向排出路徑排出的液狀體及氣體被收
41集機(jī)構(gòu)55分離，氣體通過收集機(jī)構(gòu)55內(nèi)，并且，液狀體殘留在收集機(jī)構(gòu) 55內(nèi)。在收集機(jī)構(gòu)55內(nèi)殘留的液狀體是經(jīng)由未圖示的排出部來排出。
在涂敷動作后，基板處理單元SPU對于涂敷裝置CT內(nèi)的基板S，使 送出側(cè)輸送裝置SC2的保持部42從+X側(cè)進(jìn)入，利用該保持部42保持基 板S?；诒３植?2的基板S的保持動作與上述基于保持部32的基板S 的保持動作相同。通過該動作，形成為基板S的一面被送入側(cè)輸送裝置 SC1的保持部32保持，基板S的另一面被送出側(cè)輸送裝置SC2的保持部 42保持的狀態(tài)。
基板處理單元SPU在利用保持部42保持了基板S后，停止吸引泵34a 的運(yùn)行，解除基于保持部32的保持。通過該動作，基板S僅被送出側(cè)輸 送裝置SC2的保持部42保持，基板S從送入側(cè)輸送裝置SC1向送出側(cè)輸 送裝置SC2轉(zhuǎn)移。
其次，說明除去在基板S的周圍形成的薄膜的周緣部除去動作。在該 周緣部除去動作中使用周緣部除去裝置EBR。將在周緣部除去裝置EBR 內(nèi)配置的基板S的周緣部浸漬于浸漬部內(nèi)的溶解液中，在該狀態(tài)下使基板 S旋轉(zhuǎn)的情況下，溶解在溶解液中浸漬的周緣部的薄膜而除去。在本實(shí)施 方式中，在周緣部除去動作中使基板S旋轉(zhuǎn)時(shí)，利用送出側(cè)輸送裝置SC2 保持基板S的狀態(tài)下使用該送出側(cè)輸送裝置SC2使基板S旋轉(zhuǎn)。在除去周 緣部的薄膜后，基板處理單元SPU使基板S的周緣部向吸引部58b的吸 引墊58c之間移動，吸引基板S的周緣部。通過該吸引動作，能夠除去在 基板S的周緣部殘留的液狀體或溶解液等。
具體來說，在基板S的轉(zhuǎn)移后，基板處理單元SPU使旋轉(zhuǎn)臺40b旋轉(zhuǎn)， 并且，使臂部41適當(dāng)?shù)厣炜s，使保持部42進(jìn)入周緣部除去裝置EBR。在 進(jìn)入后，基板處理單元SPU使臂部41移動或浸漬部移動，由此將基板S 的周緣部浸漬于浸漬部的溶解液內(nèi)。在該狀態(tài)下，基板處理單元SPU運(yùn)行 送出側(cè)輸送裝置SC2的馬達(dá)裝置43a。通過馬達(dá)裝置43a的作用，旋轉(zhuǎn)軸 部件43b旋轉(zhuǎn)，在旋轉(zhuǎn)軸部件43b保持的吸引部件46與該旋轉(zhuǎn)軸部件43b 一體地旋轉(zhuǎn)。通過該旋轉(zhuǎn)，除去基板S的周緣部的薄膜。
在周緣部除去動作后，基板處理單元SPU以使基板上部保持機(jī)構(gòu)25 的夾持部件25b位于卸載位置UP的+Z側(cè)的方式使升降部件25a移動。在
42升降部件25a的移動后，基板處理單元SPU在利用送出側(cè)輸送裝置SC2 的保持部42保持了基板S的狀態(tài)下，使旋轉(zhuǎn)臺40b旋轉(zhuǎn)，并且，使臂部 41適當(dāng)?shù)厣炜s，使保持部42進(jìn)入卸載位置UP。通過該動作，基板S配置 于卸載位置UP。
其次，說明基板S的卸載動作?；逄幚韱卧猄PU在確認(rèn)了基板S 配置于卸載位置UP的情況后，使基板上部保持機(jī)構(gòu)25的升降部件25a 向一Z方向移動，并且，使基板下部保持機(jī)構(gòu)26的升降部件26a向+Z方 向移動。通過該移動，安裝于升降部件25a的一Z側(cè)的夾持部件25b與基 板S的+Z側(cè)抵接，并且，安裝于升降部件26a的+Z側(cè)端部的夾持部件26b 與基板S的一Z側(cè)抵接，利用該夾持部件25b及夾持部件26b分別保持基 板S的+Z側(cè)及一Z側(cè)。
基板處理單元SPU在確認(rèn)了利用夾持部件25b及夾持部件26b這兩者 保持有基板S的情況后，停止送出側(cè)輸送裝置SC2的吸引泵44a的運(yùn)行， 解除基于保持部42的基板S的保持。通過該動作，僅由夾持部件25b及 夾持部件26b保持基板S。基板處理單元SPU維持基于夾持部件25b及夾 持部件26b的保持狀態(tài)的狀態(tài)下，使升降部件25a及升降部件26a向_Z 方向同時(shí)移動?；逄幚韱卧猄PU以使升降部件25a及升降部件26a的移 動成為等速的方式使升降機(jī)構(gòu)25c及升降機(jī)構(gòu)26c連動?；錝在被夾持 部件25b及夾持部件26b保持的狀態(tài)下向一Z方向移動。
若升降部件25a的突出部分靠近送出用盒C2，則基板處理單元SPU 解除基于夾持部件25b的保持力，并且停止升降部件25a的移動，僅使升 降部件26a向一Z方向移動?；錝在僅由夾持部件26b的保持力保持的 狀態(tài)下向一Z方向移動。
基板處理單元SPU繼續(xù)基于夾持部件26b的保持直至基板S到達(dá)送出 用盒C2內(nèi)的收容位置。在到達(dá)該收容位置后，基板處理單元SPU解除基 于夾持部件26b的保持，使升降部件26a向一Z方向移動。通過該動作， 基板S收容于送出用盒C2內(nèi)。
在上述各動作的說明中，說明從送入用盒C1的最靠向一Y側(cè)收容的 一張基板S開始依次進(jìn)行動作的樣子，但在實(shí)際中，關(guān)于多個(gè)基板S連續(xù) 地進(jìn)行動作。在這種情況下，基板處理單元SPU使輸送帶20b旋轉(zhuǎn)，使在送入用盒Cl紅收容的剩余的基板S中最靠向一Y側(cè)的基板S配置于在俯
視下與裝載位置LP重疊的位置地使該送入用盒C1向一Y方向移動。
同樣，基板處理單元SPU使輸送帶22b旋轉(zhuǎn)，以使送出用盒C2內(nèi)的 收容位置中最靠向一Y側(cè)的收容位置在俯視下與卸載位置UP重疊的位置 地使該送出用盒C2向一Y方向移動?；逄幚韱卧猄PU使送入用盒Cl 及送出用盒C2進(jìn)行該移動，反復(fù)進(jìn)行上述各處理。
在關(guān)于多張基板S進(jìn)行處理的情況下，基板處理單元SPU對該多張基 板S并行地進(jìn)行處理動作。具體來說，對于某個(gè)基板S進(jìn)行涂敷動作的期 間，對其他基板S進(jìn)行周緣部除去動作，進(jìn)而對與這些不同的基板S進(jìn)行 裝載動作或卸載動作，如上所述地對多個(gè)基板S并行地進(jìn)行處理動作。通 過這樣進(jìn)行并行處理，極力縮短基板S的待機(jī)時(shí)間，實(shí)現(xiàn)基板S的處理節(jié) 拍的縮短。
在送入用盒C1內(nèi)收容的所有的基板S的處理結(jié)束的情況下，該送入 用盒Cl成為空的狀態(tài)，形成為在待機(jī)位置P8待機(jī)的送出用盒C2的所有 的收容位置被處理后的基板S填滿的狀態(tài)?；逄幚韱卧猄PU在確認(rèn)了 該狀態(tài)后，使輸送帶20b向與上述相反的方向旋轉(zhuǎn)，使送入用盒C1從待 機(jī)位置P4向待機(jī)位置P2移動，進(jìn)而使輸送帶20a旋轉(zhuǎn)，使送入用盒Cl 向待機(jī)位置P3移動。同樣，基板處理單元SPU使輸送帶22b向與上述相 反的朝向旋轉(zhuǎn)，使送出用盒C2從待機(jī)位置P8向待機(jī)位置P6移動，進(jìn)而 使輸送帶22a旋轉(zhuǎn)，使送出用盒C2向待機(jī)位置P7移動。
其次，說明涂敷裝置CT中噴嘴部NZ及杯部CP的維護(hù)動作。若涂敷 動作的次數(shù)重疊，則液狀體的固化物或大氣中的塵或埃等雜質(zhì)有時(shí)附著在 噴嘴部NZ或杯部CP。該雜質(zhì)例如可能堵塞噴嘴52，降低噴出特性、或 堵塞杯部CP內(nèi)的排出路徑。另外，在各噴出動作中，需要管理噴嘴52的 噴出環(huán)境使其不變化。從而，需要定期進(jìn)行噴嘴部NZ及杯部CP的維護(hù) 動作。
在噴嘴部NZ的維護(hù)動作中使用噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM。在清洗噴嘴52時(shí)， 基板處理單元SPU使噴嘴部NZ移動，使噴嘴52進(jìn)入噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM。 基板處理單元SPU使噴嘴52的前端向清洗部57a內(nèi)的清洗液內(nèi)移動，清 洗噴嘴52的前端。在該清洗動作后，基板處理單元SPU使噴嘴52的前端在吸引部57b 中吸引墊75d之間移動，吸引噴嘴52的前端。通過該吸引動作，除去在 噴嘴52殘留的清洗液等雜質(zhì)。
在吸引動作后，基板處理單元SPU使噴嘴52的前端向液體接受部57c 內(nèi)移動。在該液體接受部57c中，進(jìn)行噴嘴52的預(yù)備噴出動作。通過從 噴嘴52預(yù)備性噴出液狀體，調(diào)節(jié)噴嘴52的噴出環(huán)境?；逄幚韱卧猄PU 在使噴嘴52的前端向液體接受部57c內(nèi)移動后，向噴嘴52噴出液狀體。 噴出的液狀體滯留在液體接受部57c內(nèi)，并被未圖示的回收機(jī)構(gòu)回收。
說明杯部CP的維護(hù)動作。在清洗杯部CP時(shí)，使用清洗液噴嘴部56。 基板處理單元SPU在進(jìn)行上述涂敷動作時(shí)，使基板S旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下代替 噴嘴52，使清洗液噴嘴部56從基板S的+X側(cè)及一X側(cè)進(jìn)入，從各清洗液 噴嘴部56向基板S噴出清洗液。噴出在基板S上的清洗液通過旋轉(zhuǎn)離心 力向基板S的周緣部移動，從基板S的周緣部向內(nèi)側(cè)杯CP1側(cè)飛散。飛散 的清洗液經(jīng)由對置部分53a的開口部收容于收容部53內(nèi)。此時(shí)，基板處 理單元SPU通過使內(nèi)側(cè)杯CP1旋轉(zhuǎn)，能夠在收容部53內(nèi)形成清洗液的流 動，利用該清洗液的流動，清洗收容部53內(nèi)及排出路徑內(nèi)。該清洗液的 排出與液狀體的排出相同地，在收集機(jī)構(gòu)55中與氣體分離而排出。
對杯部CP的清洗動作，例如卸下收容部53的對置部分53a的狀態(tài)下 進(jìn)行也無妨。在進(jìn)行清洗動作的情況以外，例如卸下對置部分53a，另行 清洗該對置部分53a也無妨，卸下對置部分53a后，進(jìn)行杯部CP的其他 部分的維護(hù)也無妨。 (盒輸送動作)
其次，說明將空的送入用盒C1向基板送入單元LDU輸送，并且，將 收容有處理后的基板S的送出用盒C2向基板送出單元ULU輸送的盒輸送 動作。
說明送入用盒Cl的輸送動作。該送出動作使用在上述送出動作中使 用的盒輸送裝置CC來進(jìn)行。輸送單元CRU使盒輸送裝置CC移動至基板 處理單元SPU的送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1。空的送入用盒Cl在送入側(cè)緩沖機(jī) 構(gòu)BF1內(nèi)的待機(jī)位置P3待機(jī)。輸送單元CRU以使盒輸送裝置CC的盒支 承板72的長邊方向與送入用盒Cl的長邊方向一致的方式使盒支承板72
45旋轉(zhuǎn)。
在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，輸送單元CRU進(jìn)行盒輸送裝置CC和送入
用盒Cl之間的X軸方向上的對位。在對位后，輸送單元CRU使盒輸送 裝置CC進(jìn)行在待機(jī)位置P3待機(jī)的空的送入用盒Cl的取入動作。該取入 動作與上述取入動作相同。
在送入用盒C1的取入后，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC朝向基板 送入單元LDU向一X方向移動，使盒支承板72的長邊方向與X軸方向一 致地使該盒支承板72旋轉(zhuǎn)。輸送單元CRU在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，在 盒輸送裝置CC和設(shè)置于基板送入單元LDU的回收用帶lib之間進(jìn)行X 軸方向上的對位。 .
在對位后，輸送單元CRU將載置于盒支承板72上的空的送入用盒 Cl載置于回收用帶lib的+Y側(cè)端部上，使盒保持部件74向+Y側(cè)退避。 該載置動作及退避動作與上述載置動作及退避動作相同。通過這些動作， 將取入盒輸送裝置CC的送入用盒Cl向基板送入單元LDU內(nèi)輸送。
說明送出用盒C2的輸送動作。該輸送動作與上述送入用盒Cl的輸送 動作相同地，使用盒輸送裝置CC來進(jìn)行。輸送單元CRU使盒輸送裝置 CC沿X軸方向移動至基板處理單元SPU的送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2。收容有 處理后的基板S的送出用盒C2在送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2內(nèi)的待機(jī)位置P7 待機(jī)。輸送單元CRU以使盒輸送裝置CC的盒支承板72的長邊方向與送 出用盒C2的長邊方向一致的方式使盒支承板72旋轉(zhuǎn)。
在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，輸送單元CRU以使盒輸送裝置CC的X軸 方向上的位置與該送出用盒C2的X軸方向上的位置一致的方式進(jìn)行該盒 輸送裝置CC的對位。在對位后，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC進(jìn)行在 待機(jī)位置P7待機(jī)的送出用盒C2的取入。該取入動作與上述取入動作相同。
在取入動作后，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC朝向基板送出單元 ULU向+X方向移動，使盒支承板72的長邊方向與X軸方向一致地使該 盒支承板72旋轉(zhuǎn)。輸送單元CRU在使盒支承板72旋轉(zhuǎn)后，在盒輸送裝 置CC和設(shè)置于基板送出單元ULU的回收用帶61b之間進(jìn)行X軸方向上 的對位。
在對位后，輸送單元CRU將載置于盒支承板72上的送出用盒C2載置于回收用帶61b的+Y側(cè)端部上，使盒保持部件74向+Y側(cè)退避。該載
置動作及退避動作與上述載置動作及退避動作相同。通過這些動作，將取
入盒輸送裝置CC的送出用盒C2向基板送出單元ULU內(nèi)輸送。 (盒回收動作)
其次，說明回收空的送入用盒Cl及收容有處理后的基板S的送出用 盒C2的盒回收動作。
基板送入單元LDU在確認(rèn)了空的送入用盒C1輸送過來的情況后，使 回收用帶llb旋轉(zhuǎn)，使該送入用盒C1向一Y方向移動。在向該一Y方向 移動時(shí)，例如使送入用盒C1徑直去往盒出入口 IO也可，以空開回收用帶 lib的+Y側(cè)端部的程度使送入用盒Cl移動少量也可。
在使送入用盒C1徑直去往盒出入口 10的情況下，送入用盒C1經(jīng)由 盒出入口 10向基板送入單元LDU的外部輸送。向基板送入單元LDU的 外部輸送的送入用盒Cl由未圖示的回收機(jī)構(gòu)來回收。在每次向基板送入 單元LDU輸送送入用盒C1過來時(shí)，反復(fù)進(jìn)行該動作。
在使送入用盒Cl移動少量的情況下，例如在每次向基板送入單元 LDU輸送送入用盒Cl時(shí)，可以使其向一Y方向以一個(gè)量的送入用盒Cl 的空間偏離地移動。反復(fù)進(jìn)行多次該動作，最靠向一Y側(cè)的送入用盒Cl 到達(dá)盒出入口 IO的情況下，進(jìn)行基于未圖示的回收機(jī)構(gòu)的回收動作。
另一方面，基板送出單元ULU在確認(rèn)了收容有處理后的基板S的送 出用盒C2輸送過來的情況后，使回收用帶61b旋轉(zhuǎn)，使該送出用盒C2 向一Y方向移動。在該移動時(shí)，與基板送入單元LDU的情況相同地，使 送出用盒C2徑直去往盒出入口 60也可，以少量向一Y方向偏離地移動也 可。通過該移動，送出用盒C2最終經(jīng)由盒出入口 60向基板送出單元ULU 的外部輸送。向基板送出單元ULU的外部送出的送出用盒C2由未圖示的 回收機(jī)構(gòu)來回收。 (盒補(bǔ)充動作)
在上述說明中，進(jìn)行基板處理單元SPU中的處理的期間，送入用盒 Cl配置于送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1的待機(jī)位置P4，送出用盒C2配置于送出 側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的待機(jī)位置P8。此時(shí)，送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1的待機(jī)位置 Pl及送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的待機(jī)位置P5形成為空的狀態(tài)(盒未待機(jī)的狀態(tài))。
輸送單元CRU在確認(rèn)了待機(jī)位置Pl及待機(jī)位置P5形成為空的狀態(tài) 的情況后，利用盒輸送裝置CC將接下來的送入用盒Cl及送出用盒C2向 該待機(jī)位置PI及待機(jī)位置P5輸送。輸送單元CRU首先使盒輸送裝置CC 移動至基板送入單元LDU，取入接下來的送入用盒C1。在取入動作后， 輸送單元CRU使盒輸送裝置CC移動至送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1，將取入的 送入用盒Cl載置在待機(jī)位置PI 。同樣，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC 向基板送出單元ULU移動，取入接下來的送出用盒C2，然后使盒輸送裝 置CC向送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2移動，將送出用盒C2載置在待機(jī)位置P5。
在送入用盒Cl及送出用盒C2的載置動作后，基板處理單元SPU使 輸送帶20a及輸送帶20b的動作待機(jī)至在待機(jī)位置P4的送入用盒Cl收容 的基板S的處理大致結(jié)束。若該處理結(jié)束，則基板處理單元SPU使輸送 帶20b旋轉(zhuǎn)，使送入用盒Cl從待機(jī)位置P4向待機(jī)位置P2移動。
通過該動作，形成為收容有處理前的基板S的送入用盒Cl在待機(jī)位 置PI待機(jī)，空的送入用盒Cl在待機(jī)位置P2待機(jī)的狀態(tài)。在該狀態(tài)下， 基板處理單元SPU使輸送帶20a旋轉(zhuǎn)的情況下，待機(jī)位置P2的送入用盒 Cl向待機(jī)位置P3移動，待機(jī)位置P1的送入用盒C1向待機(jī)位置P2移動。 這樣，有效地進(jìn)行移動動作。從而，優(yōu)選實(shí)際上用基板處理單元SPU進(jìn)行 涂敷動作等的情況下，形成為送入用盒Cl在待機(jī)位置Pl及待機(jī)位置P2 待機(jī)的狀態(tài)。
同樣，在形成為送出用盒C2從待機(jī)位置P8向待機(jī)位置P6移動了的 狀態(tài)時(shí)使輸送帶22a旋轉(zhuǎn)的情況下，待機(jī)位置P6的送出用盒C2向待機(jī)位 置P7移動，待機(jī)位置P5的送出用盒C2向待機(jī)位置P6移動。這樣，在送 出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2中，也有效地進(jìn)行移動動作。從而，優(yōu)選實(shí)際上用基板 處理單元SPU進(jìn)行涂敷動作等情況下的，形成為送出用盒C2在待機(jī)位置 P5及待機(jī)位置P6待機(jī)的狀態(tài)。
送入用盒Cl從待機(jī)位置Pl向待機(jī)位置P2移動，送出用盒C2從待機(jī) 位置P5向待機(jī)位置P6移動的情況下，待機(jī)位置Pl及待機(jī)位置P5再次形 成為空的狀態(tài)。可以進(jìn)而向該空的狀態(tài)的待機(jī)位置Pl及待機(jī)位置P5輸送 接下來的送入用盒C1及送出用盒C2，分別使其待機(jī)。這樣，每次送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1及送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的待機(jī)位置Pl及待機(jī)位置P5成為 空的狀態(tài)時(shí)，輸送單元CRU從基板送入單元LDU輸送送入用盒C1，從 基板送出單元ULU輸送送出用盒C2。
如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式可知，設(shè)置于輸送單元CRU的盒輸送裝 置CC在裝載位置LP和基板送入單元LDU之間輸送送入用盒Cl ，并且， 在卸載位置UP和基板送出單元ULU之間輸送送出用盒C2，因此，能夠 使一個(gè)盒輸送裝置CC進(jìn)行不同的輸送區(qū)間的輸送動作。因此，能夠單純 化基于盒輸送裝置CC的輸送處理，能夠簡化基板處理系統(tǒng)SYS的結(jié)構(gòu)， 能夠縮短處理節(jié)拍。另外，根據(jù)本實(shí)施方式可知，分開使用送入用盒Cl 和送出用盒C2，因此，還具有能夠防止基板S的污染的優(yōu)點(diǎn)。
另夕卜，根據(jù)本實(shí)施方式可知，基板處理單元SPU、基板送入單元LDU 及基板送出單元ULU配置于直線方向上，因此，能夠?qū)⒏鲉卧g的輸 送路徑設(shè)定于該直線方向上。由此，能夠避免輸送路徑的復(fù)雜化，能夠簡 單化基板處理系統(tǒng)SYS的結(jié)構(gòu)。而且，根據(jù)本實(shí)施方式可知，基板處理單 元SPU配置于基板送入單元LDU和基板送出單元ULU之間，因此，各 單元沿基板的輸送的流動的方向配置。由此，能夠提高處理的效率。
除此之外，在本實(shí)施方式中，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC沿直線 方向(X軸方向)移動，因此，能夠單純化盒輸送裝置CC的移動動作。 另外，在基板送入單元LDU及基板送出單元ULU中，多個(gè)盒可以分別待 機(jī)，這些成為多個(gè)盒待機(jī)部，因此，能夠迅速地處理更多的基板。
另外，基板送入單元LDU及基板送出單元ULU能夠利用供給用帶 lla、 61a及回收用帶llb、 61b，對送入用盒Cl使盒待機(jī)部向輸送單元 CRU側(cè)移動，對送出用盒C2使盒待機(jī)部向盒出入口 60側(cè)移動，因此， 能夠有效地進(jìn)行送入用盒Cl及送出用盒C2的供給動作及回收動作。
另外，在基板處理單元SPU設(shè)置有與裝載位置LP及卸載位置UP對 應(yīng)的送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1及送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2，在各緩沖機(jī)構(gòu)中能夠使 多個(gè)盒C待機(jī)，因此，能夠迅速地進(jìn)行基板處理單元SPU中的基板S的 裝載動作及卸載動作，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。另外，該緩沖機(jī)構(gòu)BF具 有使盒C的待機(jī)位置移動的輸送帶20、 22，能夠根據(jù)盒C內(nèi)的基板S的 殘留量來移動盒C的待機(jī)位置，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。這些待機(jī)位置沿基于盒輸送裝置CC的輸送方向(X軸方向)設(shè)置，因此，盒輸送
裝置cc和各待機(jī)位置的距離分別恒定。通過將該距離保持為恒定，盒輸 送裝置cc容易進(jìn)入各待機(jī)位置。
另外，基板處理單元SPU具有從送入用盒Cl抬起基板s，將其配置 于裝載位置LP的基板裝載機(jī)構(gòu)21，因此，能夠迅速地進(jìn)行基板的裝載動 作。同樣，基板處理單元SPU具有基板卸載機(jī)構(gòu)27，因此，關(guān)于基板S 的卸載動作也能夠迅速地進(jìn)行。
另外，盒輸送裝置CC具有使盒支承板72的朝向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，因 此，在輸送方向和盒的朝向不同的情況下，也能夠順暢地進(jìn)行輸送動作及 轉(zhuǎn)移動作。另外，在送入用盒C1及送出用盒C2形成有卡合部Cx，輸送 裝置具有與該卡合部Cx卡合，保持送入用盒Cl及送出用盒C2的盒保持 部件74，因此，能夠可靠地保持送入用盒C1及送出用盒C2。
另外，控制單元CNU根據(jù)基板處理單元SPU中的基板S的處理狀況， 控制送入用盒C1及送出用盒C2的輸送位置，因此，能夠更有效地進(jìn)行輸 送動作。
本發(fā)明的技術(shù)范圍不限定于上述實(shí)施方式，可以在不脫離本發(fā)明的宗 旨的范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行變更。
在上述實(shí)施方式中，形成為控制單元CNU根據(jù)基板處理單元SPU中 的基板S的處理狀況，控制送入用盒Cl及送出用盒C2的輸送位置的結(jié) 構(gòu)，但不限于此，例如，在基板處理系統(tǒng)SYS的整體的動作中，預(yù)先確定 送入用盒Cl及送出用盒C2的輸送的位置及時(shí)序的狀態(tài)下控制也可無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，在送入用盒C1及送出用盒C2形成有卡合 部Cx，盒輸送裝置CC使盒保持部件74的保持部74a與該卡合部Cx卡 合，保持送入用盒C1及送出用盒C2，但不限于此，例如，盒保持部件74 保持送入用盒Cl及送出用盒C2的底部等其他部分也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，盒輸送裝置CC具有使盒支承板72的朝向 旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，但不限于此，例如，形成為固定有盒支承板72的朝向 的結(jié)構(gòu)也無妨。在這種情況下，在基板處理系統(tǒng)SYS內(nèi)，成為使盒C的 長邊方向與盒支承板72的長邊方向始終一致的狀態(tài)地供給、回收、移動。 由此，能夠更單純化盒輸送裝置CC的動作。
50另外，在上述實(shí)施方式中，基板處理單元SPU具有從送入用盒C1抬 起基板S，將其配置于裝載位置LP的基板裝載機(jī)構(gòu)21，但不限于此，將 基板裝載機(jī)構(gòu)21的結(jié)構(gòu)形成為其他結(jié)構(gòu)也無妨。關(guān)于基板卸載機(jī)構(gòu)27的 結(jié)構(gòu)也相同。
另外，在上述實(shí)施方式中，緩沖機(jī)構(gòu)BF形成為使盒C的待機(jī)位置沿 X軸方向移動的結(jié)構(gòu)，但不限于此，使盒C的待機(jī)位置向其他方向移動也 無妨。另外，不使盒C的待機(jī)位置移動，形成為固定的結(jié)構(gòu)也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為緩沖機(jī)構(gòu)BF，形成為分別配置送入 側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1及送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2的結(jié)構(gòu)，但不限于此，例如形成 為僅配置兩者的緩沖機(jī)構(gòu)BF中任一方的結(jié)構(gòu)也無妨。不限于配置多個(gè)緩 沖機(jī)構(gòu)BF的結(jié)構(gòu)，形成為集中在一處，配置緩沖機(jī)構(gòu)BF的結(jié)構(gòu)也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，利用供給用帶lla、 61a及回收用帶llb、 61b，對送入用盒C1使盒待機(jī)部向輸送單元CRU側(cè)移動，對送出用盒C2 使盒待機(jī)部向盒出入口 60側(cè)移動，但不限于此，使盒待機(jī)部向任一方移 動也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，使多個(gè)盒C分別在基板送入單元LDU及 基板送出單元ULU待機(jī)，但不限于此，例如，僅使一個(gè)盒C在各單元待 機(jī)也無妨。由此，在基板處理系統(tǒng)SYS為小型的情況下，也能夠適用本發(fā) 明。
另外，在上述實(shí)施方式中，輸送單元CRU使盒輸送裝置CC沿直線方 向(X軸方向)移動，但不限于此，向不同的多個(gè)方向移動也無妨，形成 為能夠沿曲線方向移動的結(jié)構(gòu)也無妨。
通過這樣不拘束于直線方向而寬幅設(shè)定輸送路徑，能夠擴(kuò)大與各單元 的配置有關(guān)的設(shè)計(jì)的寬度。
例如，除了像上述實(shí)施方式一樣基板處理單元SPU配置于基板送入單 元LDU和基板送出單元ULU之間的結(jié)構(gòu)之外，還可以形成為將基板送入 單元LDU及基板送出單元ULU和基板處理單元SPU配置于不同的位置 的結(jié)構(gòu)。
另外，不限于如上述實(shí)施方式一樣基板處理單元SPU、基板送入單元 LDU及基板送出單元ULU配置于直線方向上的結(jié)構(gòu)，例如，可以進(jìn)行在正三角形的頂點(diǎn)位置或直角三角形的頂點(diǎn)位置配置各單元等寬幅的設(shè)計(jì)。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為基板處理單元SPU中的處理，主要將 在基板S涂敷形成薄膜的涂敷處理舉出為例子進(jìn)行了說明，但不限于此， 例如，作為基板處理單元，形成為主要進(jìn)行該涂敷處理的前處理或后處理 的結(jié)構(gòu)也無妨。作為前處理，例如，可以舉出向基板S照射紫外線的處理、
或清洗基板s的處理等。作為后處理，可以舉出將基板s的周圍減壓的處 理、或加熱基板s的處理等。
另外，在上述實(shí)施方式中，說明了預(yù)先設(shè)定裝載位置LP及卸載位置 UP，與該裝載位置LP及卸載位置UP配合，配置基板裝載機(jī)構(gòu)21及基板 卸載機(jī)構(gòu)27的結(jié)構(gòu)的情況，但與此相反地，形成為先設(shè)定基板裝載機(jī)構(gòu) 21及基板上部保持機(jī)構(gòu)27的位置，在基板下部保持機(jī)構(gòu)24及26的位置 的+Z方向上設(shè)定裝載位置LP及卸載位置UP的結(jié)構(gòu)也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為涂敷裝置CT，形成為使基板S旋轉(zhuǎn) 的同時(shí)，向該基板S上噴出液狀體的結(jié)構(gòu)，但不限于此，使用其他類型的 涂敷裝置、例如浸漬式的涂敷裝置或縫隙噴嘴式的涂敷裝置等的情況下， 也能夠適用本發(fā)明。另外，作為涂敷裝置CT，不限于在基板S的單面?zhèn)?形成薄膜的類型的裝置，可以為能夠在基板S的兩面形成薄膜的類型的裝 置。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式可知，吸引基板S而保持的保持部32設(shè)置為 能夠相對于在基部30設(shè)置的臂部31旋轉(zhuǎn)，因此，能夠利用保持部32保 持了基板S的狀態(tài)下使該基板S旋轉(zhuǎn)。因此，在涂敷裝置CT或周緣部除 去裝置EBR等基板處理區(qū)域使基板S旋轉(zhuǎn)的情況下，也不需要對旋轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)等進(jìn)行基板S的轉(zhuǎn)移。由于沒有基板S的轉(zhuǎn)移的量，能夠相應(yīng)地迅速進(jìn) 行從基板S的輸送到基板S的處理為止的工序，因此，能夠縮短基板處理 系統(tǒng)SYS整體的節(jié)拍，能夠提高生產(chǎn)率。在本實(shí)施方式中，在臂部31搭 載使保持部32旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33，因此，能夠進(jìn)一步小型化裝置結(jié)構(gòu)。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式可知，進(jìn)行具有開口部Sa的基板S的處理的 情況下，槽部36c吸引沿該開口部Sa的基板S的表面，因此，能夠?qū)?基板S的外周部到由該槽部36c吸引的部分為止的寬的區(qū)域作為處理對 象。在本實(shí)施方式中，槽部36c配置為能夠吸引基板S的非處理部分S2，因此，能夠在不對基板S的處理部分Sl產(chǎn)生影響的情況下吸引基板S。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式可知，保持部32具有嵌入開口部Sa的閉塞部 件37，因此，由閉塞部件37堵塞開口部Sa的至少一部分。由此，在吸引 基板S時(shí)，吸引包含開口部Sa的區(qū)域的情況下，也能夠在不降低吸引力 的情況下吸引，能夠更可靠地保持基板S。
根據(jù)本實(shí)施方式可知，閉塞部件37設(shè)置為能夠相對于保持部32的其 他部分拆裝，因此，例如，在不需要閉塞部件37的情況下，能夠卸載該 其他部分。另外，例如，還能夠分開使用尺寸不同的多個(gè)閉塞部件37，因 此，在處理開口部Sa的尺寸不同的基板S的情況下也能夠應(yīng)對。由此， 能夠多樣化吸引保持的方式。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式可知，閉塞部件37的閉塞部37a的厚度為基板 S的厚度以下，因此，能夠防止該閉塞部37a向基板S的吸附面的相反面 側(cè)突出的情況。由此，能夠在基板S的吸附面的相反側(cè)容易地配置其他部 件。
本發(fā)明的技術(shù)范圍不限定于上述實(shí)施方式，可以在不脫離本發(fā)明的宗 旨的范圍內(nèi)施加變更。
例如，在上述實(shí)施方式中，在涂敷裝置CT中由保持部32保持了基板 S的狀態(tài)下，使其旋轉(zhuǎn)時(shí)，僅保持基板S的一面而使其旋轉(zhuǎn)，但不限于此， 保持基板S的兩面而使其旋轉(zhuǎn)也無妨。
圖14是表示保持基板S的兩面而使其旋轉(zhuǎn)的一方式的圖，表示涂敷 裝置CT內(nèi)的結(jié)構(gòu)。如該圖所示，在涂敷裝置CT內(nèi)配置第二保持部81也 無妨，該第二保持部81在進(jìn)行涂敷動作時(shí)，例如基板S中保持與由保持 部32保持的面相反的面(以下，標(biāo)記為背面)的。在該結(jié)構(gòu)中，第二保 持部81具有抵接部81a和軸部81b。
抵接部81a具有與保持部32的吸附面36e相同的尺寸、形狀的抵接部 81c。抵接部81c設(shè)置為能夠與基板S的背面中與吸附面36e重疊的區(qū)域 抵接。軸部81b設(shè)置于抵接部81a的中央部，利用未圖示的支承部件支承 為能夠旋轉(zhuǎn)。形成為另行設(shè)置有將軸部81b向基板S側(cè)按壓的按壓機(jī)構(gòu)的 結(jié)構(gòu)也無妨。
在該結(jié)構(gòu)中，若通過保持部32的旋轉(zhuǎn)使基板S旋轉(zhuǎn)，則該基板S的旋轉(zhuǎn)向第二保持部81傳遞，第二保持部81從動地旋轉(zhuǎn)。能夠在基板S的
表面?zhèn)燃氨趁鎮(zhèn)缺３窒嗤膮^(qū)域，因此，在使基板s旋轉(zhuǎn)的情況下，也能
夠可靠地避免基板S從保持部32脫落。在設(shè)置按壓機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的情況下， 能夠從兩面支承基板S，因此，能夠更可靠地避免基板S的脫落。
圖15是表示保持基板S的兩面而使其旋轉(zhuǎn)的其他方式的圖，表示涂 敷裝置CT內(nèi)的結(jié)構(gòu)。如該圖所示，將在進(jìn)行涂敷動作時(shí)保持基板S的背 面，并且自身也主動旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)保持部82配置于涂敷裝置CT也無妨。在 該結(jié)構(gòu)中，旋轉(zhuǎn)保持部82具有馬達(dá)裝置82a和旋轉(zhuǎn)保持部件82b。
馬達(dá)裝置82a是向旋轉(zhuǎn)保持部件82b賦予旋轉(zhuǎn)力的裝置，具有與保持 部32側(cè)的馬達(dá)裝置33a相同程度的驅(qū)動力。馬達(dá)裝置33a及馬達(dá)裝置82a 的轉(zhuǎn)速可以在上述控制單元CNU等中控制。旋轉(zhuǎn)保持部件82b具有抵接 部82c和軸部82d。
抵接部82c與圖14所示的抵接部81a相同地，具備具有與保持部 32的吸附面36e (參照圖7)相同的尺寸、形狀的抵接面82e。抵接面82e 設(shè)置為能夠與基板S的背面中與吸附面36e重疊的區(qū)域抵接。軸部82d設(shè) 置于抵接部82c的中央部，端部與馬達(dá)裝置82a連接。另行設(shè)置有將軸部 82d向基板S側(cè)按壓的按壓機(jī)構(gòu)也無妨。
在該結(jié)構(gòu)中，能夠利用吸附面36e和抵接面82e從兩面保持基板S， 并且，通過馬達(dá)裝置33a的驅(qū)動來使保持部32旋轉(zhuǎn)，利用馬達(dá)裝置82a 使抵接部82c旋轉(zhuǎn)，由此能夠從基板S的兩面供給旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力，因此，能 夠降低馬達(dá)裝置33a的負(fù)擔(dān)。在設(shè)置有按壓機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)的情況下，從兩面 支承基板S，而且從兩面使其旋轉(zhuǎn)，因此，進(jìn)一步提高基板S的旋轉(zhuǎn)的精 度。
在圖14及圖15所示的結(jié)構(gòu)中，在涂敷裝置CT內(nèi)進(jìn)行涂敷動作的情 況下有效，但不限于此，例如形成為與周緣部除去裝置EBR內(nèi)的結(jié)構(gòu)與 圖14及圖15所示的結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)也無妨。由此，關(guān)于送出側(cè)輸送裝置 SC2的處理也能夠更可靠地防止上述相同基板S的脫落，并且，能夠降低 馬達(dá)裝置43a的負(fù)擔(dān)。
在圖14及圖15所示的結(jié)構(gòu)中，吸附基板S的吸附面36e及第二保持 部81的抵接部8ic、以及吸附面36e及旋轉(zhuǎn)保持部82的抵接面82e從兩面保持基板s的重疊的部分，但不限于此，在基板s的表面和基板s的背
面保持不同的位置也無妨。
另外，在圖14及圖15所示的結(jié)構(gòu)中，將第二保持部81及旋轉(zhuǎn)保持 部82配置于涂敷裝置CT內(nèi)，但不限于此，配置于涂敷裝置CT的外部， 且能夠根據(jù)需要進(jìn)入涂敷裝置CT內(nèi)也無妨。
另外，代替上述第二保持部81及旋轉(zhuǎn)保持部82，使送出側(cè)輸送裝置 SC2進(jìn)行上述動作的結(jié)構(gòu)也無妨。在這種情況下，通過停止送出側(cè)輸送裝 置SC2的馬達(dá)裝置43a的動作，能夠得到與使用上述第二保持部81的情 況相同的效果。另外，通過進(jìn)行送出側(cè)輸送裝置SC2的馬達(dá)裝置43a的動 作，能夠得到與使用上述旋轉(zhuǎn)保持部82的情況相同的效果。
在使用送出側(cè)輸送裝置SC2的情況下，不需要在基板S的涂敷動作結(jié) 束后，進(jìn)行在送出側(cè)輸送裝置SC2保持基板S的動作，因此，將基板S 從送入側(cè)輸送裝置SC1向送出側(cè)輸送裝置SC2轉(zhuǎn)移的動作被縮短。因此， 能夠進(jìn)一步縮短處理節(jié)拍，能夠進(jìn)一步提高生產(chǎn)率。
如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式可知，能夠從以豎立的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)的基板S 的兩面利用噴嘴52噴出液狀體，因此，能夠使基板S的表面和背面中液 狀體的涂敷環(huán)境更接近。能夠使在基板S的表面和基板的背面之間涂敷的 液狀體的狀態(tài)接近，因此，能夠防止在基板S上涂敷的液狀體的薄膜的狀 態(tài)不同。由此，能夠改善在基板S上涂敷的液狀體的狀態(tài)。
關(guān)于噴嘴部NZ，形成為該噴嘴52從基板S的中央部側(cè)朝向基板的外 周部側(cè)噴出液狀體時(shí)，噴嘴52的噴出方向和作用于基板S上的離心力的 方向一致。由此，能夠更有效地涂敷液狀體。在本實(shí)施方式中，噴嘴52 從中央部側(cè)向外周部側(cè)折彎而形成，因此，無需另行設(shè)置調(diào)節(jié)液狀體的噴 出方向的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)等，能夠利用簡單的結(jié)構(gòu)來調(diào)節(jié)液狀體的噴出方向。
另外，噴嘴52中前端的噴出面52a相對于液狀體的噴出方向傾斜而形 成，因此，能夠減小噴嘴52的前端中的液狀體的表面張力。由此，液狀 體不易殘留在噴嘴52的前端。另外，噴嘴52設(shè)置在基板輸送裝置SC的 旋轉(zhuǎn)軸的下側(cè)，因此，能夠使液狀體的噴出方向和重力方向一致。由此， 能夠使液狀體在基板S上容易擴(kuò)散。
另外，噴嘴52在基板S的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)扰渲糜谙嗤奈恢脮r(shí)，能
55夠使涂敷環(huán)境在基板S的表面上和基板的背面上接近。由此，能夠?qū)⒁籂?體均一地涂敷在基板S的兩面。另外，設(shè)置有使噴嘴52移動的盒移動機(jī)
構(gòu)51時(shí)，可以根據(jù)涂敷裝置CT的處理狀況來使噴嘴52的位置移動。由 此，能夠進(jìn)行更寬幅的處理。
關(guān)于噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM，噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM具有通過將噴嘴52的前 端浸漬于清洗液中清洗的清洗部57a，因此，能夠清洗在噴嘴52的前端附 著的液狀體而除去。若在噴嘴52的前端附著液狀體，則噴嘴52堵塞，成 為噴出性能減低的要因。在本發(fā)明中，通過清洗噴嘴52的前端，能夠防 止這樣的噴出性能的降低。另外，噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM具有吸引噴嘴52的 前端的吸引部57b，因此，能夠從噴嘴52的前端除去在噴嘴52附著的液 狀體、或清洗該液狀體后的清洗液等。由此，能夠?qū)娮?2的前端保持 為更清潔的狀態(tài)。另外，噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM具有接受從噴嘴52預(yù)備性噴 出的液狀體的液體接受部57c，因此，成為容易進(jìn)行預(yù)備性液狀體的噴出 動作的狀態(tài)。由此，能夠防止噴嘴52的噴出性能降低的情況。
關(guān)于杯部CP，杯部CP具有收容液狀體的收容部53，因此，能夠?qū)w 散的液狀體集中在該收容部53。由此，能夠有效地管理飛散的液狀體。另 外，杯部CP中與基板S的側(cè)部的對置部分53a設(shè)置為能夠相對于杯部CP 的其他部分拆裝，因此，杯部CP成為容易維護(hù)的狀態(tài)。由此，能夠容易 地進(jìn)行杯部CP的清潔化。另外，具有調(diào)節(jié)該對置部分53a的開口尺寸的 調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)53b，因此，在基板S的厚度或液狀體的飛散的程度等涂敷處理 的環(huán)境不同的情況下也能夠靈活應(yīng)對。
另夕卜，杯部CP可以具有內(nèi)側(cè)杯CP1和外側(cè)杯CP2，可以在內(nèi)側(cè)杯CP1 設(shè)置有使該內(nèi)側(cè)杯CP1向沿基板S的外周的方向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)53c，在 該情況下，不會使杯部CP整體旋轉(zhuǎn)，能夠僅使內(nèi)側(cè)杯CP1旋轉(zhuǎn)。另外， 在收容部53連接排出液狀體及收容部53內(nèi)的氣體中至少一方的排出機(jī)構(gòu) 54，因此，利用該排出機(jī)構(gòu)54排出收容部53內(nèi)的液狀體，并且，能夠在 收容部53內(nèi)形成氣體的流動。另外，內(nèi)側(cè)杯CP1形成為圓形，排出機(jī)構(gòu) 54沿內(nèi)側(cè)杯CP1的外周的切線方向設(shè)置時(shí)，能夠沿基板S的旋轉(zhuǎn)方向排 出液狀體。另外，由于該排出機(jī)構(gòu)54中排出路徑上配置有收集機(jī)構(gòu)55， 因此，能夠容易處理液狀體。另外，還具備將清洗杯部CP的清洗液向基板S噴出的清洗液噴嘴部
56時(shí)，能夠通過基板S的旋轉(zhuǎn)，使噴出在基板S上的清洗液向內(nèi)側(cè)杯CP1 內(nèi)的收容部53飛散。由此，能夠有效地清洗杯部CP。
關(guān)于周緣部除去裝置EBR，具有通過將基板S的外周部浸漬在溶解液 中，除去液狀體的除去部58a時(shí)，能夠有效地除去涂敷在外周部的液狀體。 另外，具有吸引基板S的外周部的吸引部58b時(shí)，能夠迅速地除去在基板 S的外周部附著的液狀體或溶解液。
本發(fā)明的技術(shù)范圍不限定于上述實(shí)施方式，可以在不脫離本發(fā)明的宗 旨的范圍內(nèi)適當(dāng)?shù)厥┘幼兏?br> 例如，在上述實(shí)施方式中，作為噴出用于清洗杯部CP的清洗液的噴 嘴，配置了清洗液噴嘴部56，但不限于此，例如，作為清洗液噴嘴，兼用 上述噴嘴52也無妨。在這種情況下，配置能夠切換為噴嘴52的供給液和 清洗液的切換機(jī)構(gòu)(未圖示)。由此，不會復(fù)雜化裝置結(jié)構(gòu)，能夠有效地 進(jìn)行維護(hù)。
另外，在上述實(shí)施方式中，將噴嘴部NZ的位置配置在基板S的旋轉(zhuǎn) 軸的一Z側(cè)，沿重力方向噴出液狀體，但不限于此，例如，將噴嘴部NZ 的位置配置在基板S的旋轉(zhuǎn)軸的+Z偵ij，向與重力方向相反的方向噴出液 狀體也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，噴嘴52在折彎部52b中折彎，但不限于 此，例如，噴嘴52向基板S的旋轉(zhuǎn)軸的一Z側(cè)以曲線狀形成的結(jié)構(gòu)也無 妨。由此，能夠使液狀體的流通順暢。
另外，在上述實(shí)施方式中，噴嘴52在基板S的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)扰渲?于相同的位置，但不限于此，例如，將噴嘴52的表面?zhèn)鹊奈恢煤捅趁鎮(zhèn)?的位置配置在不同的位置也無妨。例如，關(guān)于涂敷位置50的+X側(cè)，將噴 嘴52配置在基板S的旋轉(zhuǎn)軸的一Z側(cè)，關(guān)于涂敷位置50的一X側(cè)，將噴 嘴52配置在基板S的旋轉(zhuǎn)軸的+Z側(cè)也無妨。當(dāng)然，使+Z側(cè)及一Z側(cè)的配 置相反也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，將噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM分別配置于各噴嘴部 NZ的+Y側(cè)的位置，但不限于此，只要是能夠進(jìn)行噴嘴部NZ的移動的范 圍，就可以配置于其他位置。另外，在上述實(shí)施方式中，在清洗杯部CP內(nèi)時(shí)，使用清洗液噴嘴部 56向基板S噴出清洗液，按不限于此，例如，將與基板S不同的清洗液
噴出用的基板配置于涂敷位置50,向該清洗液噴出用的基板噴出清洗液也
無妨。由此，能夠抑制薄膜形成以外使用的基板s的消耗。
另外，在上述實(shí)施方式中，在周緣部除去裝置EBR的結(jié)構(gòu)中，將除去 部58a和吸引部58b配置于相對于基板S的基板面垂直的方向，但不限于 此，例如，如圖23所示，在基板面上排列配置也無妨。在該結(jié)構(gòu)中，能 夠?qū)⒁粡埢錝的周緣部同時(shí)配置于除去部58a內(nèi)及吸引部58b內(nèi)。由此， 通過使基板S旋轉(zhuǎn)，能夠在除去的同時(shí)吸引周緣部，能夠縮短處理節(jié)拍。
另外，在上述實(shí)施方式中，使基板輸送裝置SC的臂部31、 41能夠在 與XY平面平行的方向上移動，但不限于此，例如，使臂部31、 41在Z 軸方向上移動也無妨。該結(jié)構(gòu)通過在臂部31、 41內(nèi)另行設(shè)置驅(qū)動機(jī)構(gòu)來 實(shí)現(xiàn)。由此，臂部31、 41的能夠移動的范圍擴(kuò)大，因此，保持部32、 42 的能夠進(jìn)入的區(qū)域擴(kuò)大。由此，能夠進(jìn)行更多樣的動作。
另外，在上述實(shí)施方式中，說明了使臂部31、 41移動的移動機(jī)構(gòu)35 或使保持部32、 42旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)33配置在臂部31、 41的內(nèi)部，但不 限于此，配置于臂部31、 41的外側(cè)也無妨。由此，能夠使臂部31、 41細(xì) 長，能夠減輕基板輸送時(shí)的負(fù)擔(dān)。
另外，在上述實(shí)施方式中，閉塞部件37的厚度比基板S的厚度薄， 但不限于此，以使閉塞部件37的厚度與基板S的厚度相同的方式形成閉 塞部件37也無妨。在這種情況下也能夠得到與上述實(shí)施方式相同的效果。
另外，在上述實(shí)施方式中，閉塞部件37設(shè)置為能夠相對于吸引部件 36拆裝，但不限于此，例如閉塞部件37和吸引部件36—體化也無妨。在 這種情況下，不需要將閉塞部件37相對于吸引部件36拆裝的工序。另外， 形成為不設(shè)置閉塞部件37的結(jié)構(gòu)也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為在吸附部36a的吸附面36e設(shè)置的槽 部36c的形狀，說明了該槽部36c在主視下形成為+狀的例子，但不限于 此，可以為其他形狀。在這種情況下，優(yōu)選配置為在吸附面36e與基板S 抵接的狀態(tài)下，槽部36c與基板S的表面重疊。由此，能夠可靠地吸引基 板S的表面，因此，能夠提高吸附的精度。另外，在上述實(shí)施方式中，基板輸送裝置SC配置于基板處理單元SPU
內(nèi)的兩處，但不限于此，例如基板輸送裝置sc配置于一處也無妨，配置
于三處以上也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，將基板送入單元LDU具有帶式傳送機(jī)構(gòu) 作為盒移動機(jī)構(gòu)11的例子進(jìn)行了說明，但不限于此，除了帶式傳送機(jī)構(gòu) 之外，例如，具有保持送入用盒C1的卡合部Cx的叉部件也無妨。作為該 叉部件，例如，可以形成為與盒輸送裝置CC的盒保持部件74相同的結(jié)構(gòu)。 可以利用叉部件，保持送入用盒Cl的卡合部Cx，使其在基板送入單元 LDU內(nèi)移動。該叉部件還可以用作基板送出單元ULU的盒移動機(jī)構(gòu)61 。 除了叉部件之外，當(dāng)然可以使用例如，軌道部件或線性馬達(dá)、汽缸等其他 輸送機(jī)構(gòu)。
另外，在上述實(shí)施方式中，在送入側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF1及送出側(cè)緩沖機(jī)構(gòu) BF2中，作為使送入用盒C1及送出用盒C2的待機(jī)位置移動的機(jī)構(gòu)，將輸 送帶20a、 20b、 22a及22b為例進(jìn)行說明，但不限于此，例如，在送入側(cè) 緩沖機(jī)構(gòu)BF1中，設(shè)置使送入用盒C1依次向待機(jī)位置P1、待機(jī)位置P2、 待機(jī)位置P4、待機(jī)位置P2、待機(jī)位置P3移動的移動機(jī)構(gòu)也無妨。在送出 側(cè)緩沖機(jī)構(gòu)BF2中同樣設(shè)置使送出用盒C2依次向待機(jī)位置P5、待機(jī)位置 P6、待機(jī)位置P8、待機(jī)位置P6、待機(jī)位置P7移動的移動機(jī)構(gòu)也無妨。
作為這樣的移動機(jī)構(gòu)，例如，可以舉出具有保持送入用盒C1、送出用 盒C2的卡合部Cx的叉部件的結(jié)構(gòu)等。作為該叉部件，與上述相同地，例 如，可以形成為與盒輸送裝置CC的盒保持部件74相同的結(jié)構(gòu)。
另外，在上述實(shí)施方式中，基板輸送裝置SC配置于基板處理單元SPU 內(nèi)的兩處，但不限于此，例如，基板輸送裝置SC配置于一處也無妨，配 置于三處以上也無妨。
另外，在上述實(shí)施方式中，盒C能夠以將基板S在Z軸方向豎立的狀 態(tài)收容，將基板S豎立的狀態(tài)下直接輸送，但不限于此，也可以是盒C能 夠?qū)⒒錝的基板面沿XY平面平行的狀態(tài)收容，在該狀態(tài)下直接輸送。
另外，在上述實(shí)施方式中，送入側(cè)輸送裝置SC1和送出側(cè)輸送裝置 SC2分別單獨(dú)保持基板S而使其旋轉(zhuǎn)，但不限于此，例如，用送入側(cè)輸送 裝置SC1和送出側(cè)輸送裝置SC2包夾一個(gè)基板S的表背地保持而使其旋轉(zhuǎn)也無妨。在這種情況下，使送入側(cè)輸送裝置SC1及送出側(cè)輸送裝置SC2
中一方主動地旋轉(zhuǎn)，使另一方從動地旋轉(zhuǎn)也無妨，使兩方主動地旋轉(zhuǎn)也無
妨。通過用送入側(cè)輸送裝置SC1和送出側(cè)輸送裝置SC2保持基板S的表 背，能夠使基板S的表面?zhèn)燃氨趁鎮(zhèn)鹊臍饬鞯鹊臓顟B(tài)極力相等。通過調(diào)節(jié) 基板S的兩面?zhèn)鹊臓顟B(tài)，能夠防止在基板S的兩面涂敷的膜質(zhì)不同的情況。 另外，在上述實(shí)施方式中，將周緣部除去裝置EBR僅配置在送出側(cè)輸 送裝置SC2側(cè)，但不限于此，例如，還在送入側(cè)輸送裝置SC1側(cè)配置也 無妨(圖1的單點(diǎn)劃線部分)。通過如此構(gòu)成，例如，可以使送入側(cè)輸送 裝置SC1及送出側(cè)輸送裝置SC2這兩者分別進(jìn)行涂敷動作及周緣部除去 動作。
例如，利用送入側(cè)輸送裝置SC1進(jìn)行涂敷動作的期間，能夠利用送出 側(cè)輸送裝置SC2進(jìn)行周緣部除去動作，相反在使送入側(cè)輸送裝置SC1進(jìn) 行周緣部除去動作的期間，能夠利用送出側(cè)輸送裝置SC2進(jìn)行涂敷動作。 這樣，通過使兩個(gè)基板輸送裝置SC交替地進(jìn)入涂敷裝置CT，能夠進(jìn)行并 行處理，因此，能夠進(jìn)行有效的處理，能夠?qū)崿F(xiàn)處理節(jié)拍的進(jìn)一步的縮短 化。
另外，如上所述地用送入側(cè)輸送裝置SC1和送出側(cè)輸送裝置SC2同時(shí) 保持一個(gè)基板S而使其旋轉(zhuǎn)的情況下，將周緣部除去裝置EBR內(nèi)設(shè)置于 涂敷裝置CT內(nèi)也無妨。通過該結(jié)構(gòu)，用送入側(cè)輸送裝置SC1和送出側(cè)輸 送裝置SC2保持基板S而使其旋轉(zhuǎn)的同時(shí)進(jìn)行涂敷動作，在涂敷動作后， 能夠與該涂敷動作連續(xù)而進(jìn)行周緣部除去動作。由此，能夠在一個(gè)裝置中 進(jìn)行涂敷動作及周緣部除去動作，因此，能夠?qū)崿F(xiàn)處理的效率化。另外， 通過在一個(gè)涂敷裝置CT內(nèi)進(jìn)行涂敷動作及周緣部除去動作，例如，能夠 在進(jìn)行了對一個(gè)基板S的涂敷動作及周緣部除去動作后，利用送出側(cè)輸送 裝置SC2送出該一個(gè)基板S的同時(shí)，利用送入側(cè)輸送裝置SC1送入接下 來處理的基板S。能夠同時(shí)進(jìn)行基于送入側(cè)輸送裝置SC1的載置動作和基 于送出側(cè)輸送裝置SC2的卸載動作，因此，能夠進(jìn)行有效的處理。
另外，基板處理系統(tǒng)SYS除了上述實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)之外，還具備例如 檢測涂敷處理后的基板S上有無異物的異物檢測單元也無妨。若在涂敷處 理后的基板S附著有異物，則在進(jìn)行之后的處理例如蓋印處理時(shí)，基板S在該異物的附著位置可能破損。針對此，通過還具備檢測涂敷處理后的基 板S上有無異物的異物檢測單元，能夠檢測這樣的異物的附著的基板S， 能夠防止使用于之后的蓋印處理中的情況，因此，能夠避免基板S的破損。另外，在基板處理系統(tǒng)SYS具備異物檢測單元的情況下，將該異物檢 測單元作為獨(dú)立于上述載物臺單元STU、基板處理單元SPU、基板送入單 元LDU、基板送出單元ULU、輸送單元CRU的單元來配置也無妨，例如， 配置于基板處理單元SPU的內(nèi)部也無妨。優(yōu)選能夠在涂敷處理后的基板S 收容于送出用盒C2之前進(jìn)行異物檢測的結(jié)構(gòu)，但當(dāng)然可以為能夠以在該 送出用盒C2收容的狀態(tài)進(jìn)行異物檢測的結(jié)構(gòu)。形成為基板S收容于送出 用盒C2之前進(jìn)行異物檢測的結(jié)構(gòu)的情況下，例如，可以為具備不將檢測 到異物的基板S收容于送出用盒C2，另行回收的回收機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)。在將周緣部除去裝置EBR配置于涂敷裝置CT內(nèi)的情況下，作為其方 式，例如，可以舉出將與在液狀體的涂敷用中使用的噴嘴相同的形狀的周 緣部除去用噴嘴另行配置于涂敷裝置CT內(nèi)，從該周緣部除去用噴嘴噴出 液狀體的溶解液的結(jié)構(gòu)等。另外，將該溶解液噴嘴兼用為清洗液噴嘴部56 也無妨。在這種情況下，使溶解液的供給源與清洗液噴嘴部56連接，切 換清洗液的供給源和溶解液的供給源而噴出，由此，能夠從同一清洗液噴 嘴部56噴出清洗液及溶解液這兩者。在從清洗液噴嘴部56噴出溶解液的情況下，例如，控制單元CNU首 先如圖24A所示，在溶解液不與基板S接觸的位置Tl,從清洗液噴嘴部 56噴出溶解液。然后，如圖24B所示，控制單元CNU以噴出了該溶解液 的狀態(tài)使清洗液噴嘴部56向?qū)錝噴出的噴出位置T2移動，在噴出位 置T2中將溶解液向基板S的周緣部噴出。通過這樣的動作，能夠防止來 自清洗液噴嘴部56的溶解液向基板S的中央部飛散，能夠提高基板S的 外周部的涂敷狀態(tài)的調(diào)節(jié)精度。另外，用送入側(cè)輸送裝置SC1和送出側(cè)輸送裝置SC2包夾一個(gè)基板S 的表背地保持而使其旋轉(zhuǎn)的情況下，例如，可以在送入側(cè)輸送裝置SC1中 吸引基板S，在送出側(cè)輸送裝置SC2中按壓基板S。圖16 圖18是表示涂敷裝置CT的結(jié)構(gòu)的圖。涂敷裝置CT具有噴 嘴部NZ、杯部CP和噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM。61噴嘴部NZ設(shè)置為能夠利用盒移動機(jī)構(gòu)51進(jìn)入涂敷位置50的Y軸方 向的中央部。噴嘴部NZ夾著涂敷位置50分別配置于+X側(cè)及一X側(cè)。噴 嘴部NZ具有將作為該薄膜的構(gòu)成材料的液狀體向基板S上噴出的噴嘴 52。噴嘴52在進(jìn)入涂敷位置時(shí)，從基板S的中央部側(cè)向外周部側(cè)噴出液 狀體地在折彎部52b中折彎而形成。噴嘴52相對于基板S的旋轉(zhuǎn)軸配置 于一Z偵U。噴嘴52以涂敷位置50為基準(zhǔn)，在基板S的表面?zhèn)?+X偵ij) 和背面?zhèn)?一X側(cè))配置于相同的位置，配置為在X軸方向上對稱。噴嘴52如圖19所示，前端的噴出面52a相對于液狀體的噴出方向傾 斜而形成。噴嘴52的前端形成為尖的狀態(tài)，例如，在停止液狀體的涂敷 時(shí)，能夠良好進(jìn)行該液狀體的除去。杯部CP具有內(nèi)側(cè)杯CP1和外側(cè)杯CP2。內(nèi)側(cè)杯CP1在X軸方向上觀 察的情況下形成為圓形，以包圍配置于涂敷位置50的基板S的側(cè)方的方 式配置。外側(cè)杯CP2在X軸方向上觀察的情況下形成為大致正方形，以 從外側(cè)支承內(nèi)側(cè)杯CP1的方式配置。外側(cè)杯CP2例如經(jīng)由支承部件等固 定于載物臺單元STU的上表面。內(nèi)側(cè)杯CP1和外側(cè)杯CP2在本實(shí)施方式中一體地形成，但當(dāng)然可以為 分離形成的結(jié)構(gòu)。內(nèi)側(cè)杯CP1具有收容液狀體的收容部53。在收容部53設(shè)置有排出液 狀體及收容部53內(nèi)的氣體中的至少一方的排出機(jī)構(gòu)54。排出機(jī)構(gòu)54沿形 成為圓形的內(nèi)側(cè)杯CP1的外周的切線方向設(shè)置。排出機(jī)構(gòu)54經(jīng)由外側(cè)杯 CP2與內(nèi)側(cè)杯CP1的收容部53內(nèi)連接。如圖17所示，排出機(jī)構(gòu)54例如 在外側(cè)杯CP2的各邊各一個(gè)地共計(jì)設(shè)置有四個(gè)。如圖17所示，各排出機(jī) 構(gòu)54分別與排出路徑連接。在各排出路徑上具有作為分離氣體和液體的 氣液分離機(jī)構(gòu)的收集機(jī)構(gòu)55。還有，對圖16 圖18的其他排出機(jī)構(gòu)54， 省略排出路徑及收集機(jī)構(gòu)55的圖示。收容部53的入口即內(nèi)側(cè)杯CP1中與基板S的側(cè)部對置的部分53a設(shè) 置為能夠相對于內(nèi)側(cè)杯CP1的其他部分拆裝。內(nèi)側(cè)杯CP1如圖20所示具 有調(diào)節(jié)該對置部分53a的開口尺寸的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)53b。利用該調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)53b， 例如，可以根據(jù)基板S的厚度，調(diào)節(jié)開口尺寸或根據(jù)涂敷液的濺起狀態(tài)來 調(diào)節(jié)。內(nèi)側(cè)杯CP1如圖17所示，設(shè)置有將X軸作為旋轉(zhuǎn)軸，使該內(nèi)側(cè)杯62(第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu))53c。在 噴嘴52的一Y側(cè)分別設(shè)置有將杯部CP的清洗液向基板S噴出的清洗液噴 嘴部56。噴嘴管理機(jī)構(gòu)NM將噴嘴52的噴出狀態(tài)管理為恒定。噴嘴管理機(jī)構(gòu) NM如圖21所示，具有清洗部57a、吸引部57b和液體接受部57c。清 洗部57a通過將噴嘴52的前端浸漬于清洗液中而清洗。吸引部57b具有 吸引噴嘴52的前端的吸引墊75d。吸引墊75d與未圖示的吸引泵等連接。 液體接受部57c是接受從噴嘴52預(yù)備性噴出的液狀體的部分。周緣部除去裝置EBR設(shè)置于涂敷裝置CT的+X側(cè)即沿基板處理單元 SPU的一Y側(cè)的端邊的位置。周緣部除去裝置EBR是除去在基板S的周 緣部形成的薄膜的裝置。優(yōu)選基于周緣部除去裝置EBR的除去處理是在 基板S形成的薄膜未干燥的期間進(jìn)行。因此，優(yōu)選周緣部除去裝置EBR 配置于能夠從涂敷裝置CT以短時(shí)間輸送基板S的位置。周緣部除去裝置 EBR如圖22所示，具有除去部58a和吸引部58b。除去部58a是例如通過 使基板S旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，將該基板S的周緣部浸漬于溶解液中來溶解在基板 S周緣部形成的薄膜而除去的部分。吸引部58b具有吸引基板S的周緣 部的吸引墊58c。吸引墊58c與未圖示的吸引泵等連接。作為圖16所示的情況下的基板S的旋轉(zhuǎn)方法，例如，基板處理單元 SPU使在送入側(cè)輸送裝置SC1的保持部32保持的基板S插入杯部CP內(nèi) 的同時(shí)，從保持部32的相反側(cè)使送出側(cè)輸送裝置SC2的保持部42按壓基 板S。具體來說，使保持部42的前端向基板S側(cè)移動?；逄幚韱卧猄PU 在保持部42的行程達(dá)到規(guī)定的閾值時(shí)判斷為保持部42的前端和基板S接 角蟲。在該判斷后，基板處理單元SPU例如維持來自保持部42側(cè)的按壓力 的狀態(tài)下解除保持部32側(cè)的基板S的吸附。在吸附解除后，基板處理單 元SPU使噴嘴52插入杯部CP內(nèi)，使基板S旋轉(zhuǎn)，開始涂敷動作。這樣， 在基板S的旋轉(zhuǎn)前解除保持部32側(cè)的吸附也無妨。另外，在上述判斷后，基板處理單元SPU在保持部32吸附基板S， 從保持部42側(cè)按壓基板S的狀態(tài)下，向基板S賦予旋轉(zhuǎn)力?；錝的旋 轉(zhuǎn)從加速旋轉(zhuǎn)成為穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)后，基板處理單元SPU解除保持部32側(cè)的基板S的吸附。這樣，在基板S的旋轉(zhuǎn)中解除保持部32側(cè)的吸附也無妨。
另外，在上述判斷后，基板處理單元SPU在保持部32吸附基板S的 狀態(tài)下，使保持部32及保持部42旋轉(zhuǎn)，開始涂敷動作。在涂敷動作結(jié)束 后，基板處理單元SPU使基板S旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，解除保持部32側(cè)的基板 S的吸附。在該吸附的解除后，基板處理單元SPU進(jìn)行一定時(shí)間的基板S 的旋轉(zhuǎn)。這樣，在基板S的旋轉(zhuǎn)中即涂敷處理后解除保持部32側(cè)的吸附 也無妨。
在這些情況下，在送入側(cè)輸送裝置SC1的保持部32吸附基板S，使 基板S按壓送出側(cè)輸送裝置SC2的保持部42，但不限于此，例如，使基 板S按壓送入側(cè)輸送裝置SC1的保持部32，在送出側(cè)輸送裝置SC2的保 持部42吸附基板S也無妨。另外，在送入側(cè)輸送裝置SC1的保持部32 及送出側(cè)輸送裝置SC2的保持部42這兩方吸附基板S也無妨，使基板S 從兩方按壓也無妨。另外，使用圖14所示的第二保持部81或圖15所示 的旋轉(zhuǎn)保持部82保持基板S時(shí)，利用上述旋轉(zhuǎn)方法來使基板S旋轉(zhuǎn)也無 妨。
另外，在這些情況下，使基板S旋轉(zhuǎn)時(shí)，僅驅(qū)動送入側(cè)輸送裝置SC1 及送出側(cè)輸送裝置SC2中一方也可，同步驅(qū)動兩方也可。在同步驅(qū)動兩方 的情況下，基板S和各保持部32及42之間難以打滑，能夠相應(yīng)地減小向 基板S的按壓力。
權(quán)利要求
1.一種基板處理系統(tǒng)，其中，具備處理單元，其對基板進(jìn)行規(guī)定處理；基板送入單元，其被供給收容有所述規(guī)定處理前的所述基板的送入用容器，并且回收空的所述送入用容器；基板送出單元，其回收收容有所述規(guī)定處理后的所述基板的送出用容器，并且被供給空的所述送出用容器；輸送單元，其具有輸送機(jī)構(gòu)，該輸送機(jī)構(gòu)在所述處理單元內(nèi)的裝載位置和所述基板送入單元之間輸送所述送入用容器，并在所述處理單元內(nèi)的卸載位置和所述基板送出單元之間輸送所述送出用容器。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中，所述處理單元、所述基板送入單元及所述基板送出單元配置于直線方 向上。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述處理單元配置于所述基板送入單元和所述基板送出單元之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述輸送單元具有使所述輸送機(jī)構(gòu)沿所述直線方向移動的移動機(jī)構(gòu)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中，在所述基板送入單元及所述基板送出單元分別設(shè)置有多個(gè)容器待機(jī)部。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述基板送入單元及所述基板送出單元中至少一方具有使多個(gè)所述容器待機(jī)部移動的第二移動機(jī)構(gòu)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述第二移動機(jī)構(gòu)以使供給對象容器靠近所述輸送單元，并使回收對象容器離開所述輸送單元的方式使所述容器待機(jī)部移動。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 在所述處理單元設(shè)置有緩沖機(jī)構(gòu)，該緩沖機(jī)構(gòu)具有與所述裝載位置及所述卸載位置中至少一方對應(yīng)的多個(gè)第二容器待機(jī)部。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理系統(tǒng)，其中，所述緩沖機(jī)構(gòu)具有使多個(gè)所述第二容器待機(jī)部移動的第三移動機(jī)構(gòu)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理系統(tǒng)，其中，所述第三移動機(jī)構(gòu)使所述第二容器待機(jī)部在與所述輸送機(jī)構(gòu)的輸送 方向相同的方向上移動。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述處理單元具有拾取機(jī)構(gòu)，該拾取機(jī)構(gòu)從所述送入用容器抬起所述基板，并將所述基板配置于所述裝載位置。
12. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述輸送單元具有使所述輸送機(jī)構(gòu)的朝向旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 在所述送入用容器及所述送出用容器形成有卡合部， 所述輸送機(jī)構(gòu)具有與所述卡合部卡合并保持所述送入用容器及所述送出用容器的保持部件。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 還具備控制裝置，所述控制裝置根據(jù)所述處理單元中的所述基板的處理狀況，控制所述送入用容器及所述送出用容器中至少一方的輸送位置。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述規(guī)定處理包括在所述基板上涂敷液狀體的涂敷處理、所述涂敷處理的前處理及所述涂敷處理的后處理。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述前處理包括向所述基板照射紫外線的處理及清洗所述基板的處理中的至少一種處理。
17. 根據(jù)權(quán)利要求i6所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 所述后處理包括使所述基板的周圍減壓的處理及加熱所述基板的處理中的至少一種處理。
18. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理系統(tǒng)，其中， 還具備異物檢測單元，所述異物檢測單元檢測所述規(guī)定處理后的所述基板上有無異物。
19. 一種輸送裝置，其在基板送入?yún)^(qū)域及基板送出區(qū)域與基板處理區(qū)域之間輸送基板，其中，具備 臂部，其設(shè)置于基部；吸引部，其設(shè)置為能夠相對于所述臂部旋轉(zhuǎn)，且吸引所述基板并將其 保持。
20. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的輸送裝置，其中， 所述基板為具有開口部的基板，所述吸引部具有吸引沿所述開口部的所述基板的表面的吸引孔。
21. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的輸送裝置，其中， 所述吸引孔配置為能夠吸引所述基板的非處理部分。
22. 根據(jù)權(quán)利要求20所述的輸送裝置，其中， 所述吸引部具有嵌入所述開口部的突出部。
23. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的輸送裝置，其中，所述突出部設(shè)置為能夠相對于所述吸引部的其他部分拆裝。
24. 根據(jù)權(quán)利要求22所述的輸送裝置，其中， 所述突出部的突出量為所述基板的厚度以下。
25. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的輸送裝置，其中， 在所述臂部搭載有使所述吸引部旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部。
26. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的輸送裝置，其中，還具備外部驅(qū)動部，所述外部驅(qū)動部在與所述吸引部之間以夾著所述 基板的狀態(tài)使所述基板旋轉(zhuǎn)。
27. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的輸送裝置，其中， 所述外部驅(qū)動部設(shè)置于所述基板處理區(qū)域。
28. 根據(jù)權(quán)利要求26所述的輸送裝置，其中， 所述外部驅(qū)動部具有按壓所述基板的按壓部， 所述按壓部與所述吸引部對應(yīng)而形成。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28所述的輸送裝置，其中，所述外部驅(qū)動部在將所述基板配置于所述基板處理區(qū)域的基板處理 位置的同時(shí)，使所述按壓部按壓所述基板。
30. 根據(jù)權(quán)利要求29所述的輸送裝置，其中，還具備控制部，所述控制部在由所述外部驅(qū)動部驅(qū)動的所述基板的旋 轉(zhuǎn)之際，切換所述吸引部的吸引狀態(tài)。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的輸送裝置，其中，所述控制部在由所述外部驅(qū)動部驅(qū)動的所述基板的旋轉(zhuǎn)前，解除基于 所述吸引部的吸引。
32. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的輸送裝置，其中，所述控制部在由所述外部驅(qū)動部驅(qū)動的所述基板的旋轉(zhuǎn)中，解除基于 所述吸引部的吸引。
33. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的輸送裝置，其中，所述控制部根據(jù)所述基板的旋轉(zhuǎn)狀態(tài)解除所述吸引。
34. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的輸送裝置，其中，所述控制部在對所述基板進(jìn)行規(guī)定處理后，解除基于所述吸引部的吸引。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的輸送裝置，其中，所述外部驅(qū)動部在所述規(guī)定處理后還使所述基板旋轉(zhuǎn)。
36. 根據(jù)權(quán)利要求19所述的輸送裝置，其中，所述臂部具有軸部，其能夠相對于所述基部旋轉(zhuǎn)，且能夠在該旋轉(zhuǎn) 的旋轉(zhuǎn)軸方向上伸縮；伸縮部，其設(shè)置于所述軸部，且能夠在與所述旋轉(zhuǎn) 軸方向正交的方向上伸縮，所述吸引部設(shè)置于所述伸縮部的前端。
37. —種涂敷裝置，其中，具有-旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)，其以基板豎立的狀態(tài)使所述基板旋轉(zhuǎn)； 涂敷機(jī)構(gòu)，其具有在所述基板旋轉(zhuǎn)的同時(shí)向所述基板的表面及背面分 別噴出液狀體的噴嘴。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)在將所述基板相對于水平面豎立為70°以上且卯°以 下的角度的狀態(tài)下使所述基板旋轉(zhuǎn)。
39. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中，所述噴嘴形成為從所述基板的中央部側(cè)向所述基板的外周部側(cè)噴出 所述液狀體。
40. 根據(jù)權(quán)利要求39所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴從所述中央部側(cè)向所述外周部側(cè)折彎而形成。
41. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴的前端的噴出面相對于液狀體的噴出方向傾斜而形成。
42. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴相對于所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)軸設(shè)置于下側(cè)。
43. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴在所述基板的表面?zhèn)群捅趁鎮(zhèn)扰渲糜谙嗤恢谩?br> 44. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 所述涂敷機(jī)構(gòu)具有使所述噴嘴移動的移動機(jī)構(gòu)。
45. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 還具備噴嘴管理機(jī)構(gòu)，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)管理所述噴嘴的狀態(tài)。
46. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的涂敷裝置，其中，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有清洗部，所述清洗部通過將所述噴嘴的前端浸 漬于清洗液中而進(jìn)行清洗。
47. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的涂敷裝置，其中， 所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有吸引所述噴嘴的前端的吸引部。
48. 根據(jù)權(quán)利要求45所述的涂敷裝置，其中，所述噴嘴管理機(jī)構(gòu)具有接受從所述噴嘴預(yù)備性噴出的所述液狀體的 液體接受部。
49. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 還具備杯部，所述杯部以包圍所述基板的側(cè)方的方式配置。
50. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的涂敷裝置，其中， 所述杯部具有收容所述液狀體的收容部。
51. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的涂敷裝置，其中，所述杯部中與所述基板的側(cè)部的對置部分設(shè)置為能夠相對于所述杯 部的其他部分拆裝。
52. 根據(jù)權(quán)利要求51所述的涂敷裝置，其中，所述杯部具有調(diào)節(jié)所述對置部分的開口尺寸的調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。
53. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的涂敷裝置，其中，所述杯部具有內(nèi)側(cè)杯和外側(cè)杯，在所述內(nèi)側(cè)杯設(shè)置有使該內(nèi)側(cè)杯在沿所述基板的外周的方向上旋轉(zhuǎn) 的第二旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
54. 根據(jù)權(quán)利要求50所述的涂敷裝置，其中，所述收容部具有排出機(jī)構(gòu)，所述排出機(jī)構(gòu)排出所述液狀體及所述收容 部內(nèi)的氣體中的至少一種。
55. 根據(jù)權(quán)利要求54所述的涂敷裝置，其中， 所述杯部形成為圓形，所述排出機(jī)構(gòu)沿所述杯部的外周的切線方向設(shè)置。
56. 根據(jù)權(quán)利要求54所述的涂敷裝置，其中， 所述排出機(jī)構(gòu)在排出路徑上具有氣液分離機(jī)構(gòu)。
57. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的涂敷裝置，其中，還具備清洗液噴嘴，所述清洗液噴嘴將所述杯部的清洗液向所述基板 噴出。
58. 根據(jù)權(quán)利要求57所述的涂敷裝置，其中， 作為所述清洗液噴嘴，使用所述噴嘴。
59. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的涂敷裝置，其中， 還具備調(diào)整所述基板的外周部的涂敷狀態(tài)的調(diào)整部。
60. 根據(jù)權(quán)利要求59所述的涂敷裝置，其中，所述調(diào)整部具有除去部，所述除去部通過將所述基板的外周部浸漬于 溶解液中而除去所述液狀體。
61. 根據(jù)權(quán)利要求60所述的涂敷裝置，其中，所述除去部具有將所述溶解液向所述基板的周緣部噴出的溶解液噴嘴。
62. 根據(jù)權(quán)利要求61所述的涂敷裝置，其中， 所述溶解液噴嘴能夠噴出所述杯部的清洗液。
63. 根據(jù)權(quán)利要求61所述的涂敷裝置，其中，所述除去部具有控制部，所述控制部在所述溶解液不與所述基板接觸 的位置從所述溶解液噴嘴噴出所述溶解液，并且，在噴出了所述溶解液的 狀態(tài)下使該溶解液噴嘴向?qū)λ龌鍑姵龅膰姵鑫恢靡苿印?br> 64.根據(jù)權(quán)利要求59所述的涂敷裝置，其中， 所述調(diào)整部具有吸引所述基板的外周部的第二吸引部。
全文摘要
一種基板處理系統(tǒng)，具備處理單元，其對基板進(jìn)行涂敷處理；基板送入單元，其被供給收容有涂敷處理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出單元，其回收收容有所述涂敷處理后的所述基板的送出用容器，且被供給空的所述送出用容器；輸送單元，其具有輸送機(jī)構(gòu)，該輸送機(jī)構(gòu)在所述處理單元內(nèi)的裝載位置和所述基板送入單元之間輸送所述送入用容器，并在所述處理單元內(nèi)的卸載位置和所述基板送出單元之間輸送所述送出用容器。吸引基板并將其保持的吸引部設(shè)置為能夠相對于在基部設(shè)置的臂部旋轉(zhuǎn)，能夠在利用保持部保持了基板的狀態(tài)使其旋轉(zhuǎn)的輸送裝置。利用噴嘴從以豎立的狀態(tài)使其旋轉(zhuǎn)的基板的兩面噴出液狀體地構(gòu)成的涂敷裝置。
文檔編號H01L21/00GK101661873SQ20091016744
公開日2010年3月3日 申請日期2009年8月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年8月28日
發(fā)明者佐保田勉, 佐藤晶彥, 島井太 申請人:東京應(yīng)化工業(yè)株式會社