專利名稱：基板清洗裝置及其修正方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板清洗裝置及其修正方法，更詳細(xì)地說,是涉及一種 提高了清洗力的基板清洗裝置以及提高清洗力的基板清洗裝置的修正方 法。
背景技術(shù)：
一般而言，半導(dǎo)體基板上反復(fù)進(jìn)行蒸鍍、光刻(lithography)、蝕亥lj、 化學(xué)的/機(jī)械的研磨，清洗和干燥等單位工序。在上述單位工序之中，清洗 工序是在進(jìn)行各個(gè)單位工序時(shí)、除去附著在半導(dǎo)體基板表面上的異質(zhì)物和 不必要的膜的工序。隨著半導(dǎo)體基板上形成的圖形被細(xì)微化、以及圖形的 縱橫比(aspectratio)增大，清洗工序的重要性也依次變大。
在這樣的清洗工序中，包含磁盤刷的基板清洗裝置包含基板和由基板 向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷。磁盤刷在與半導(dǎo)體基板的面接觸狀態(tài)下，邊 旋轉(zhuǎn)，邊清洗半導(dǎo)體基板。
包含歷來的磁盤刷的基板清洗裝置，由于由基板向下突出設(shè)置的多個(gè) 磁盤刷的負(fù)載,在基板上會(huì)發(fā)生下沉現(xiàn)象。特別是會(huì)造成基板清洗裝置的中 央部分相對(duì)較多的下沉。像這樣當(dāng)基板清洗裝置的中央部分發(fā)生下沉?xí)r， 降低設(shè)置在基板中央部位的磁盤刷的清洗力，可降低基板清洗裝置的清洗 力。
專利文獻(xiàn)1:大韓民國(guó)實(shí)用新型公開第1999-007164號(hào)公報(bào)(第3-7
頁(yè)、第7圖)
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的課題
本發(fā)明要解決的課題是，提供一種能提高清洗力的基板清洗裝置。
本發(fā)明要解決的另一個(gè)課題是，提供一種提高清洗力的基板清洗裝置 的修正方法。
本發(fā)明要解決的課題不僅限于以上提及的課題，上述未提及的或其它 的課題通過下述記載可使所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員明確的理解。
課題解決的手段
解決上述課題的本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置包含基板；設(shè) 由基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷；在基板上設(shè)置在多個(gè)磁盤刷兩側(cè)、支 承基板的第1和第2框架；分別設(shè)置在第1和第2框架的上部的第1和第 2凸緣；及從第1和第2凸緣開始貫通第1和第2框架設(shè)置的、分別調(diào)節(jié) 第1和第2凸緣到基板的距離的的第1和第2修正部件。
為解決上述課題的本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置包含基板； 由基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷；設(shè)置在基板上面、支承基板的框架； 設(shè)置在框架上的凸緣以及設(shè)置在凸緣上在框架的底部對(duì)凸緣施加拉伸力 的修正部件。
為解決上述課題的本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置的修正方 法包含提供包含基板，由基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷，設(shè)置在基板上、 支承基板的框架以及設(shè)置在框架上部的凸緣的基板清洗裝置的步驟；在框 架的內(nèi)部下面設(shè)置一個(gè)以上的修正塊的步驟；貫通凸緣的上部和框架的上 部、連接一個(gè)以上的修正螺絲釘和修正塊的步驟。
本發(fā)明的其它具體事項(xiàng)包含在詳細(xì)的說明及附圖中。 發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明的基板清洗裝置及其修正方法，能減少基板的下沉現(xiàn)象， 特別是能夠減少基板清洗裝置中央部位的下沉狀況。因此，能提高基板清洗裝置的尤其是設(shè)置在中央部位的磁盤刷的清洗力，能提高基板清洗裝置 的清洗力。


圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置的立體圖。
圖2是從A方向看圖1的基板清洗裝置的斷面圖。 圖3是從B方向看圖1的基板清洗裝置的斷面圖。 圖4是從C方向看圖1的基板清洗裝置的斷面圖。 圖5是說明圖4的磁盤刷驅(qū)動(dòng)部的附圖。
圖6是從圖1的C方向看本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的截 面圖。
圖7是從圖1的A方向看本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的附圖。
圖8是從圖1的C方向看本發(fā)明其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的截面圖。
圖9是表示本發(fā)明一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置的修正方法的步驟圖。
符號(hào)說明
110基板支承臺(tái) 120基板 130a第1框架 130b第2框架 140升降部 150刷盤 155磁盤刷160刷軸 170電刷的驅(qū)動(dòng)部 210a第1修正螺絲釘 210b第2修正螺絲釘 212螺母
220a第1修正塊 220b第2修正塊 230a第1凸緣 230b第2凸緣 260支承部件
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征以及實(shí)現(xiàn)這些的方法，通過參照附圖和其詳細(xì)后 述的實(shí)施方式，可明白。但是，本發(fā)明并不限于以下所公開的實(shí)施方式， 而是能夠通過多種互不相同的實(shí)施方式具體實(shí)現(xiàn)，本實(shí)施方式僅僅是本發(fā) 明內(nèi)容的完全公開，是為了使本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的具有通常知識(shí)的技術(shù) 人員能夠完全理解本發(fā)明的范圍而提供的，本發(fā)明只根據(jù)權(quán)利要求書定 義。在本說明書全文中，同一參照符號(hào)表示同一個(gè)構(gòu)成要素。另外，"和 /或"包含言及的項(xiàng)目中的單個(gè)項(xiàng)目和一個(gè)以上條款的所有的組合。
例如第1和第2等是為了對(duì)多樣的元件、構(gòu)成要素及/或部分進(jìn)行敘述 而使用的，當(dāng)然這些元件、構(gòu)成要素及/或部分不受這些用語(yǔ)的限制。這些 用語(yǔ)只是為了將一個(gè)元件、構(gòu)成要素及/或部分與其它單元、構(gòu)成要素或部 分進(jìn)行區(qū)別而使用的。因此，在本發(fā)明的技術(shù)思想中，下文提及的第l元 件、第1構(gòu)成要素或第1部分當(dāng)然也可以是第2元件、第2構(gòu)成要素或第 2部分。本說明書中使用的用語(yǔ)只是用于說明本發(fā)明的實(shí)施方式，并不限制本 發(fā)明。在本說明書中，只要沒有在文字上特別提及單數(shù)型的，也包含復(fù)數(shù) 型。
本說明書中使用的"包含(comprises)"和/或"包含(comprising)"
是指提及的構(gòu)成要素、步驟、動(dòng)作和/或元件不排除一個(gè)以上其它的構(gòu)成要 素、步驟、動(dòng)作和/或元件的存在或追加。
如果沒有其他的定義，本說明書中使用的所有用語(yǔ)(包含技術(shù)和科學(xué) 的用語(yǔ))是本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的具有通常知識(shí)的技術(shù)人員能夠共通理解 的，可被使用。此外， 一般使用的已經(jīng)被事先定義的用語(yǔ)，只要沒有被清 楚的特別的定義，就不能對(duì)其進(jìn)行理想的或過度的解釋。
以下，參照附圖，說明本發(fā)明的實(shí)施方式的基板清洗裝置及基板清洗 裝置的修正方法。
參照?qǐng)D1至圖5，說明本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置。圖1 是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置的立體圖。圖2是圖1中的基板 清洗裝置從A方向看的截面圖。圖3是圖1的基板清洗裝置從B方向看 的附圖。圖4是圖1的基板清洗裝置從C方向看的截面圖。圖5是說明圖 4中的磁盤刷的驅(qū)動(dòng)部的附圖。
參照?qǐng)D1至圖5，基板清洗裝置包含基板120、設(shè)置在基板120上的 多個(gè)磁盤刷155、支承基板的第1框架130a和第2框架130b、設(shè)置在第1 框架130a上部的第1凸緣230a、設(shè)置在第2框架130b上部的第2凸緣 230b、設(shè)置在第1凸緣上的第1修正部件210a、 220a、和設(shè)置在第2凸緣 上的第2修正部件210b、 220b。
基板120上設(shè)置有多個(gè)磁盤刷155，半導(dǎo)體基板(W)裝載在基板支 承臺(tái)110上。附圖中沒有圖示，但基板支承臺(tái)110在裝載半導(dǎo)體基板(W) 的狀態(tài)下轉(zhuǎn)動(dòng)，可移送半導(dǎo)體基板(W)。
多個(gè)磁盤刷155由基板120向下突出設(shè)置。多個(gè)磁盤刷155可在一列 以上的隊(duì)列中排列。例如，可按圖1和圖4所示的兩列排列，如圖3所示，
8多個(gè)磁盤刷155可交替配置。通過數(shù)個(gè)磁盤刷155被交替配置，能夠提高 磁盤刷155在半導(dǎo)體基板(W)上接觸面積的密度。
圖1和圖2中顯示的是磁盤刷155的數(shù)量為8個(gè)的情形，然而這個(gè)數(shù) 量只是表示方便。例如，最近的基板清洗裝置中設(shè)置了39個(gè)磁盤刷155。 這樣地，隨著磁盤刷155的數(shù)量的增加，由于磁盤刷155的負(fù)載所造成的 基板120的下沉更為嚴(yán)重。然而在本發(fā)明中的第1實(shí)施例中，通過利用第 1凸緣230a、第2凸緣230b、第1修正部件210a、 220a以及第2修正部 件210b、 220b，能夠減少框架120的這種下沉現(xiàn)象。
磁盤刷155包含刷盤150和刷軸160。
為了與半導(dǎo)體基板(W)面接觸，磁盤刷155具有與磁盤原版相同的 形狀。刷盤150的下面為平面，清洗時(shí)可與半導(dǎo)體基板(W)的全面面接
觸清洗。
刷盤150可以是在本體上結(jié)合有刷毛。
電刷 盤150的本體由類似海綿的合成樹脂或天然材料形成的三聚氰胺 (melamine)、樹脂(resin)、泡沫(foam)這樣的材料形成?；蛘哌€可 以是由輕量、清洗力優(yōu)秀的PVA (Polyvinyl Alcohol)海綿形成。因此， 可防止頻繁的清洗工序中刷盤150的尼龍毛受到不均衡的磨耗。例如，與 刷盤150結(jié)合的刷毛是尼龍毛。
刷軸160是在清洗時(shí)可轉(zhuǎn)動(dòng)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸。電刷軸160的一端連接著磁盤 刷150，另一端連接著電刷驅(qū)動(dòng)部170。如圖5所示，發(fā)動(dòng)機(jī)(M)和發(fā) 動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)變換90。為例，在電刷驅(qū)動(dòng)部170可由傘齒輪構(gòu)成。
第1框架130a和第2框架130b設(shè)置在基板上多個(gè)的磁盤刷155的兩 側(cè)。第1框架130a和第2框架130b，相對(duì)于基板120受到的多個(gè)磁盤刷 的負(fù)載，支承基板120。第l框架130a和第2框架130b可以是中空的四 角柱形態(tài)。并且，第l框架130a和第2框架130b的長(zhǎng)度方向可與排列多 個(gè)磁盤刷155的列方向平行。
第1凸緣230a設(shè)置在第1框架130a的上部，第2凸緣230b設(shè)置在 第2框架130b的上部。第1凸緣230a特別地設(shè)置在第1框架130a的中央部位的上部，第2 凸緣230b特別地設(shè)置在第2框架130b的中央部位的上部。由于多個(gè)磁盤 刷155的負(fù)載在基板120發(fā)生下沉現(xiàn)象，特別是基板120中央部位會(huì)發(fā)生 相對(duì)多的下沉。因此，通過將第1凸緣230a和第2凸緣230b設(shè)置在框架 的中央部位，可減少材料費(fèi)用，有效地減少下沉現(xiàn)象。
第1凸緣230a包含與第1框架130a的上壁垂直豎立的兩個(gè)側(cè)壁和連 接這兩個(gè)側(cè)壁上段的上壁。第2凸緣230b包含與第2框架130b的上壁垂 直豎立的兩個(gè)側(cè)壁和連接這兩個(gè)側(cè)壁的上段的上壁。
第1凸緣230a和第2凸緣230b能夠承受一定大小以上的反作用力。 如下文所述，第1修正部件210a、 220a在第1框架130a的底部施加拉力， 第2修正部件210a、 220b在第2框架130b的底部施加拉力。此時(shí)在第1 凸緣230a和第2凸緣230b施加了相對(duì)于上述拉力起反作用的反作用力。 第l凸緣230a和第2凸緣230b能夠承受該反作用力。
第1修正部件210a、 220a從第1凸緣230a開始貫穿第1框架130a 設(shè)置。第2修正部件210b、 220b從第1凸緣開始貫穿第2框架設(shè)置。
第1修正部件210a、 220a是由第1凸緣230a支承，沿第1凸緣230a 的方向，在第l框架130a的底部施加拉力。第2修正部件210b、 220b是 由第2凸緣230b支承，沿第2凸緣230b的方向，在第2框架130b的底
部施加拉力。
第1修正部件210a、 220a包含設(shè)置在第1框架130a內(nèi)部下面的第1 修正塊220a,從第1凸緣230a開始貫穿第1框架130a、連接第1修正塊 220a的第1修正螺絲釘210a。第2修正部件210b、 220b包含設(shè)置在第1 框架130b內(nèi)部下面的第2修正塊220b，從第2凸緣230b開始貫穿第2 框架130b、連接第2修正塊220b的第2修正螺絲釘210b。
第1修正部件210a、 220a調(diào)節(jié)第1凸緣230a與基板120的距離，第 2修正部件210b、 220b調(diào)節(jié)第2凸緣230b與基板120之間的距離。艮P， 在第1修正螺絲釘210a的螺帽部分與第1凸緣230a的上部相連接，第2 修正螺絲釘210b的螺帽部分與第2凸緣230b的上部相連接的狀態(tài)下，調(diào)節(jié)第1修正螺絲釘210a與第1修正塊220a結(jié)合的長(zhǎng)度和第2修正螺絲釘 210b與第2修正塊220b結(jié)合的長(zhǎng)度，修正基板清洗裝置的下沉。
如果從力學(xué)的觀點(diǎn)進(jìn)行說明的話，第1修正部件210a、 220a設(shè)置在 第l凸緣230a上，在第l框架130a的下面，對(duì)第1凸緣230a施加拉力。 第2修正部件210a、 220b設(shè)置在第2凸緣230b上，在第1框架130b的 下面，對(duì)第2凸緣230b施加拉力。
具體而言，第1修正塊220a與第1框架130a的下面一體地固定，第 1修正螺絲釘210a與第1修正塊220a結(jié)合。第2修正塊220b與第2框架 130b的下面一體地固定，第2修正螺絲釘210b與第2修正塊220b結(jié)合。 因此，第l修正螺絲釘210a在第l框架130a的下面施加拉力，第2修正 螺絲釘210b在第2框架130b的下面施加拉力。
就這樣，通過向第l框架130a和第2框架130b的下面施加拉力，隨 著拉伸第1框架130a和第2框架130b的下面，能夠減少基板120的下沉 現(xiàn)象，特別是能夠減少基板清洗裝置的中央部位的下沉現(xiàn)象。因此提高設(shè) 置在基板清洗裝置上特別是在其中央部位中的磁盤刷155的清洗力，提高 基板清洗裝置的清洗力。
此外，為減少基板清洗裝置的下沉，沒有在第1框架130a和第2框 架130b之間重復(fù)設(shè)置加強(qiáng)部件，由于在第1框架130a和第2框架130b 的上部設(shè)置第1修正部件210a、 212a、 220a和第2修正部件210b、 212b、 220b，有利于維護(hù)。即在基板清洗裝置的維護(hù)中，由于磁盤刷155等能夠 容易地從基板清洗裝置上分離，可較容易地進(jìn)行裝備的維持和保養(yǎng)。
如圖2所示，基板120兩側(cè)設(shè)置有升降部140。例如，升降部140具 有類似油空壓汽缸的驅(qū)動(dòng)部，通過其上下運(yùn)動(dòng)，可上下升降基板120及其 上設(shè)置的多個(gè)磁盤刷155。因此，通過升降部140，磁盤刷155在半導(dǎo)體 基板(W)位于清洗位置之前，向上上升，半導(dǎo)體基板(W)位于清洗位 置時(shí)，通過升降部140向下下降。雖沒有圖示，但基板清洗裝置還包含清洗液噴射噴嘴。清洗液噴射噴
嘴向半導(dǎo)體基板上噴射清洗液?？墒褂贸兯?DI water)作為清洗液。 還可以追加提供噴射氟酸(HF)等化學(xué)藥品的清洗液噴射噴嘴。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，說明了基板清洗裝置具有第1框架130a 和第2框架130b的情況，但框架也可以為與此不同的一個(gè)或三個(gè)以上。 例如，在磁盤刷155排列成兩列，僅僅設(shè)置一個(gè)框架時(shí)，框架設(shè)置在基板 120上、排列磁盤刷155的兩列的中間。
參照?qǐng)D6說明本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置。圖6是從圖1 中的C方向看本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的截面圖。本發(fā)明的 一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置和相同構(gòu)成要素使用的相同參照符號(hào)，為了 便利，省略了與本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置實(shí)質(zhì)上重復(fù)的說 明。
參照?qǐng)D6，第一修正部件210a、 212、 220a和第2修正部件210b、 212、 220b包含第1修正塊220a、第2修正螺絲釘210a、第2修正塊220b、第 2修正螺絲釘210b以及螺母212。
螺母212將第1修正螺絲釘210a固定在第1凸緣230a的上部，將第 2修正螺絲釘210b固定在第2凸緣230b的上部。即，第1修正螺絲釘210a 和第1修正塊220a連接，第2修正螺絲釘210b和第2修正塊220b連接， 對(duì)基板清洗裝置的下沉進(jìn)行修正后，第1修正螺絲釘210a和第2螺絲釘 210b可分別固定在第1凸緣230a和第2凸緣230b的上部。
參照?qǐng)D7和圖8，說明本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置。圖7 是從圖1的A的方向看本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的附圖。圖 8是從圖1的C的方向看本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置的截面 圖。本發(fā)明的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置和相同構(gòu)成要素使用相同的參 照符號(hào)，為了便利，省略了與本發(fā)明中的其它實(shí)施方式的基板清洗裝置實(shí) 質(zhì)上重復(fù)的說明。
參照?qǐng)D7和圖8，基板清洗裝置還包含基板120、設(shè)置在基板120上 的多個(gè)磁盤刷155、支承基板的第1框架130a和第2框架130b、設(shè)置在第1框架130a上的第1凸緣230a、設(shè)置在第2框架130b上的第2凸緣 230b、設(shè)置在第1凸緣上的第1修正部件210a、 212、 220a、設(shè)置在第2 凸緣上的第2修正部件210b、 212、 220b以及連接第1凸緣230a和第2 凸緣230b的支承部件260。
支承部件260在第1框架130a和第2框架130b的長(zhǎng)度方向的垂直相 交的方向上連接第1凸緣和第2凸緣。
支承部件260連接在第1凸緣230a和第2凸緣230b之間，當(dāng)?shù)?修 正部件210a、 212、 220a和第2修正部件210b、 212、 220b向第1框架130a 和第2框架130b的下面施加拉力時(shí)，第1凸緣230a和第2凸緣230b給 予輔助，使其能更好地承受受到的反作用力。
支承部件260是利用如圖所示的螺栓262設(shè)置在第1凸緣230a和第2 凸緣230b上的，特別是從第1凸緣和第2凸緣上裝卸容易地設(shè)置。
如果裝卸容易地設(shè)置支持部件260，在基板清洗裝置的維護(hù)方面，磁 盤刷155等可容易地從基板清洗裝置上分離，設(shè)備的維持和保護(hù)更容易。
參照?qǐng)D6和圖9，對(duì)基板清洗裝置的修正方法進(jìn)行說明。圖9是表示 本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的基板清洗裝置的修正方法的步驟圖。在此，圖6 表示第1修正螺絲釘和第2修正螺絲釘分別與第1修正塊和第1修正塊連 接的情況，修正螺絲釘和修正塊可以是1個(gè)以上的任意個(gè)數(shù)。
首先在框架130a、 130b的內(nèi)部的下面設(shè)置修正塊220a、 220b(S310)。 例如，使用螺栓在框架130a、 130b的內(nèi)部的下面連接修正塊220a、 220b。
其次，將修正螺絲釘210a、 210b貫穿凸緣230a、 230b的上部和框架 130a、 130b的上部后，與修正塊220a、 220b相連接。通過調(diào)節(jié)修正螺絲 釘210a、 210b和修正塊220a、 220b的連接長(zhǎng)度，調(diào)節(jié)框架130a、 130b 下面和凸緣230a、 230b的距離，能夠調(diào)節(jié)凸緣230a、 230b和基板120間 的距離。因此，能修正基板的下沉，即能修正基板清洗裝置的下沉。
接著，將修正螺絲釘210a、 210b固定在凸緣230a、 230b的上部(S 330)。例如，使用螺母212，能將修正螺絲釘210a、 210b固定在凸緣230a、230b的上部。另一方面，設(shè)計(jì)使修正螺絲釘210a、 210b的螺帽部分與凸 緣230a、 230b的上面接觸時(shí)，可排除上述過程(S330)。
參照以上的附圖，說明了本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)，但本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng) 域的具有通常知識(shí)的人應(yīng)該理解，不改變本發(fā)明的技術(shù)思想和必要特征， 也可通過其他的具體實(shí)施方式
的實(shí)施。因此必須理解以上所述的實(shí)施方式 是全面的示例，而非限定。
產(chǎn)業(yè)上應(yīng)用的可能性
本發(fā)明的基板清洗裝置及其修正方法適用于以清洗半導(dǎo)體基板為目 的的全部的基板清洗裝置。特別地，本發(fā)明對(duì)于包含磁盤刷的基板清洗裝 置更有用。但是上述提及的基板清洗裝置僅為示例。
權(quán)利要求
1. 一種基板清洗裝置，其特征在于包含基板，由上述基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷，在基板上、設(shè)置在上述多個(gè)磁盤刷兩側(cè)的支承上述基板的第1和第2框架，分別設(shè)置在第1和第2框架上部的第1和第2凸緣，及從上述第1和第2凸緣開始貫通上述第1和第2框架設(shè)置的、分別調(diào)節(jié)上述第1和第2凸緣到上述基板的距離的第1修正和第2修正部件。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于上述第1和 第2修正部件包含分別設(shè)置在上述第1和第2框架內(nèi)部下面的第1和第2 修正塊，從上述第1和第2凸緣開始貫通上述第1和第2框架、分別與上 述第1和第2修正塊連接的第1和第2修正螺絲釘。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于還包含將上述 第1和第2修正螺絲釘分別固定在上述第1和第2凸緣上部的螺母。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于上述的框架為 中空的四角柱形狀、上述第1和第2凸緣包含與上述框架的上壁垂直豎立 的兩個(gè)側(cè)壁以及連接上述兩個(gè)側(cè)壁的上段的上壁。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于上述多個(gè)磁盤 刷在一列以上的隊(duì)列中排列，上述框架沿上述排列方向設(shè)置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的基板清洗裝置，其特征在于上述第1和第2 凸緣分別設(shè)置在第1和第2框架的中央部位。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于還包含在垂與 上述第1和第2框架的長(zhǎng)度方向的垂直方向上連接上述第1和第2凸緣之 間的支承部件。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的基板清洗裝置，其特征在于上述支承部件 能夠從第l和第2凸緣上裝卸。
9. 一種基板清洗裝置，其特征在于包含基板，由上述基板向下突 出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷，設(shè)置在上述基板上面、支承上述基板的框架，設(shè)置在上述框架的上部的凸緣，以及設(shè)置在上述凸緣上、在上述框架的下面對(duì) 上述凸緣施加拉伸力的修正部件。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板清洗裝置，其特征在于上述修正部件 包含設(shè)置在上述框架內(nèi)部下面的修正塊，從上述凸緣開始貫穿上述框架、 并與上述修正塊相連接的、施加上述拉伸力的修正螺絲釘。
11. 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的基板清洗裝置，其特征在于還包含將上 述修正螺絲釘固定在上述凸緣的上部的螺母。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板清洗裝置，其特征在于上述多個(gè)磁 盤刷在一個(gè)以上的隊(duì)列中排列、上述框架沿上述排列方向設(shè)置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的基板清洗裝置，其特征在于上述凸緣設(shè) 置在上述框架的中央部位。
14. 一種基板清洗裝置的修正方法，其特征在于包含提供包含基板， 由上述基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷，設(shè)置在上述基板上、用于支承上 述基板的框架以及設(shè)置在上述框架上部的凸緣的基板清洗裝置的步驟；在 框架內(nèi)部下面設(shè)置一個(gè)以上的修正塊的步驟；以及貫通上述凸緣的上部和 上述框架的上部、連接一個(gè)以上的修正螺絲釘和上述修正塊的步驟。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的基板清洗裝置的修正方法，其特征在于 還包含在連接上述修正螺絲釘后，將上述修正螺絲釘固定在上述凸緣的上 部的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種提高清洗力的基板清洗裝置和提高清洗裝置的清洗能力為目的的修正方法?；迩逑囱b置包含基板，由基板向下突出設(shè)置的多個(gè)磁盤刷，設(shè)置在基板上多個(gè)磁盤刷兩側(cè)的、支承基板的第1框架和第2框架，分別設(shè)置在第1框架和第2框架上部的第1凸緣和第2凸緣，從第1凸緣和第2凸緣貫通第1框架和第2框架的、分別調(diào)節(jié)第1凸緣和第2凸緣到基板的距離的第1修正部件和第2修正部件。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101452822SQ20081011135
公開日2009年6月10日 申請(qǐng)日期2008年5月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月5日
發(fā)明者尹泰烈, 李晟熙 申請(qǐng)人:株式會(huì)社細(xì)美事