專利名稱：開關(guān)閥及具有該開關(guān)閥的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及開關(guān)閥與具有該開關(guān)閥的處理裝置，該開關(guān)閥 設置于對半導體晶圓等被處理體進行真空處理的處理裝置的腔 室與排氣裝置之間。
背景技術(shù)：
在半導體制造工序中，大多采用成膜處理或蝕刻處理等真 空處理。在進行這樣的真空處理的處理裝置中，將作為被處理 體的半導體晶圓搬入內(nèi)部可進行真空排氣的腔室內(nèi)，由具有真 空泵的排氣裝置對腔室內(nèi)進行真空排氣，并且對半導體晶圓實 施頭見定的處理。該處理期間，由真空泵對腔室內(nèi)進行真空排氣，并且通過 調(diào)整設置于腔室與真空泵之間的壓力控制閥的開度，將腔室內(nèi) 控制在規(guī)定壓力。另一方面，在維護時等，有時需要在真空泵的上游側(cè)或下 游側(cè)完全切斷排氣通路，因此，除了壓力控制閥之外，還設有 可以完全切斷排氣通路的開關(guān)閥。在專利文獻l (日本特開平9一89139號)中記載有這樣的 開關(guān)閥。如在此所記載的那樣，一^l殳的開關(guān)閥，由閥體與開口 接觸或分離來進行閥的開閉。并且，為了使闊的關(guān)閉準確可靠， 在閥體上安裝富有彈性的環(huán)狀密封構(gòu)件，當閥體壓接于開口時， 密封構(gòu)件發(fā)生彈性變形而堵塞間隙，從而可以實現(xiàn)密封。專利文獻l:日本特開平9一89139號公報在上述以往的開關(guān)閥中，通過閥體直進與開口接觸或分離 來進行打開關(guān)閉動作，因此，在閥打開狀態(tài)時，閥體位于與開口相對的位置。但是，作為上述真空處理，例如，進行用CF氣體或氧氣等進行的清潔或等離子處理，在該期間該開關(guān)閥打開著，閥體離 開開口、位于與開口相對的位置。而且，等離子氣體通過開口被排氣裝置吸引時，產(chǎn)生如下問題閥體的密封構(gòu)件曝露在等 離子中的自由基中而老化，從而使密封能力下降，產(chǎn)生微粒等。 因此，需要在密封構(gòu)件發(fā)生老化的時刻使裝置停止，更換密封 構(gòu)件。目前，隨著等離子、自由基的高能源化，為了提高耐等離 子性與抗自由基性，使用高價的完全氟素化橡膠作為密封構(gòu)件， 但是即便如此還是會產(chǎn)生老化，幾個月就必需更換密封構(gòu)件， 密封構(gòu)件成本較高，另外，為了更換密封構(gòu)件需要使裝置停止， 因此，存在生產(chǎn)率降低這樣的問題。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明是鑒于這樣的問題而做成的，其目的在于提供一種 可以實現(xiàn)密封構(gòu)件的長壽命化的開關(guān)閥及具有該開關(guān)閥的處理裝置。為了達成上述目的，本發(fā)明的第l技術(shù)方案為提供一種開 關(guān)閥，該開關(guān)閥設置于腔室與對該腔室內(nèi)進行真空排氣的排氣 裝置之間，該腔室可將內(nèi)部保持真空，該開關(guān)閥具有閥主體、閥體、密封構(gòu)件、直進移動部件、閥退避部與轉(zhuǎn)動部件，該閥 主體在內(nèi)部形成有連通上述腔室側(cè)與上述排氣裝置側(cè)的開口 ，該閥體在該閥主體內(nèi)與上述開口接觸分離來打開關(guān)閉開口 ，該 密封構(gòu)件設置于上述閥體，在上述閥體關(guān)閉了上述開口時密封 開口，該直進移動部件使上述閥體進退，該閥退避部設置于離 開上述開口的位置，供從上述開口離開的上述閥體退避，該轉(zhuǎn)動部件使上述閥體在如下兩個位置之間轉(zhuǎn)動 一個位置為與上 述開口對應的位置，另 一 個位置為上述閥退避部或與上述閥退避部對應的位置；上述閥體從上述開口離開時，由上述直進移 動部件與轉(zhuǎn)動部件將上述閥體移動到上述閥退避部。在第l技術(shù)方案中，可以做成如下的結(jié)構(gòu)上述閥退避部 設置于離開上述開口的壁部，上述閥體移動到與上述閥退避部 對應的位置時，上述直進移動部件使上述閥體直進從而使上述 密封構(gòu)件與閥退避部壓接。另外，在第l技術(shù)方案中，可以做成如下的結(jié)構(gòu)上述直 進移動部件具有凸輪機構(gòu)?；蛘?，也可以做成如下的結(jié)構(gòu)上 述凸輪機構(gòu)為板狀構(gòu)件表面形成有槽的板凸輪。同樣在第l技術(shù)方案中，可以做成如下的結(jié)構(gòu)上述轉(zhuǎn)動 部件使凸輪機構(gòu)與上述閥體一起轉(zhuǎn)動。另外，在第l技術(shù)方案中，可以做成如下結(jié)構(gòu)上述閥體 在上述密封構(gòu)件的外側(cè)具有保護密封部，上述保護密封部緊密 附著在上述閥退避部時，上述密封構(gòu)件被氣密地密封在上述保 護密封部內(nèi)。另外，也可以做成如下結(jié)構(gòu)在上述開口的周邊形成收容 上述保護密封部的凹槽，上述密封構(gòu)件密封了開口時，上述保 護密封部被收容在上述凹槽。本發(fā)明的第2技術(shù)方案是提供一種處理裝置，該處理裝置 具有腔室、處理機構(gòu)、排氣裝置與開關(guān)閥，該腔室收容被處理 體，可將內(nèi)部保持真空，該處理機構(gòu)在上述腔室內(nèi)對被處理體 實施等離子處理，該排氣裝置對上述腔室內(nèi)進行真空排氣，該 開關(guān)閥設置于上述腔室與上述排氣裝置之間；上述開關(guān)閥具有 閥主體、閥體、密封構(gòu)件、直進移動部件、閥退避部與轉(zhuǎn)動部 件，該閥主體在內(nèi)部形成有連通上述腔室側(cè)與上述排氣裝置側(cè)的開口，該閥體在該閥主體內(nèi)與上述開口接觸分離來打開關(guān)閉 開口，該密封構(gòu)件設置于上述閥體，在上述閥體關(guān)閉了上述開 口時密封開口，該直進移動部件4吏上述閥體進退，該閥退避部 設置于離開上述開口的位置，供從上述開口離開的上述閥體退避，該轉(zhuǎn)動部件z使上述閥體在如下兩個位置之間轉(zhuǎn)動 一個位 置為與上述開口對應的位置，另一個位置為上述閥退避部或與 上述閥退避部對應的位置；上述閥體從上述開口離開時，由上 述直進移動部件與轉(zhuǎn)動部件將上述閥體移動到上述閥退避部。使用本發(fā)明的開關(guān)閥，可取得如下優(yōu)良效果在處理半導 體基板過程中，閥體移動到位于離開開口的位置的岡退避部， 可以減少接觸密封構(gòu)件的排氣流的量，從而可以減少由等離子 中的自由基等所引起的密封構(gòu)件的老化，可以延長密封構(gòu)件的 使用壽命、降低處理裝置的運行成本，還可以提高處理的生產(chǎn) 率。特別是，閥體在打開狀態(tài)時，通過使密封構(gòu)件壓接于閥退 避部，可基本完全地隔斷自由基等進入密封構(gòu)件，可以取得更 大的效果。若做成如下的結(jié)構(gòu)，則可以防止在閥體退避到閥退避部時， 密封構(gòu)件被等離子中的自由基等侵蝕。上述結(jié)構(gòu)為在上述密 封構(gòu)件外側(cè)具有保護密封部，上述保護密封部緊密附著在閥退若做成如下的結(jié)構(gòu)，則在密封構(gòu)件密封著開口時，保護密 封部進入凹槽而不會變形，因此，可以使移動到閥退避部時的 密封確實可靠。上述結(jié)構(gòu)為在上述開口的周邊形成收容上述 保護密封部的凹槽，在上述密封構(gòu)件密封了開口時將上述保護 密封部收容在上述凹槽內(nèi)。


圖l是表示本發(fā)明的一實施方式的成膜裝置的示意圖。圖2是表示本發(fā)明的開關(guān)閥的圖，圖2 ( a )是圖2 ( b )的B 一B剖視圖，圖2 ( b)是圖2 ( a)的A—A剖視圖。圖3是圖2的閥體與板凸輪的局部放大示意俯視圖。 圖4 (a) 圖4 (e)是對本發(fā)明開關(guān)閥的開關(guān)動作即從閥 關(guān)閉狀態(tài)到打開閥、閥體退避到退避部的動作進行說明的圖。
具體實施方式
以下參照附圖，對本發(fā)明的實施方式進行詳細說明。在本 實施方式中，以通過CVD在作為被處理基板的半導體晶圓(以 下簡稱為晶圓)的表面形成TiN膜的裝置為例進行說明。以下參照附圖，對本發(fā)明的開關(guān)閥與具有該開關(guān)閥的處理 裝置進行詳細說明。圖l是使用了本發(fā)明的開關(guān)閥的RLSA微波 等離子處理裝置10的概略剖視圖。如圖1所示，該RLSA微波等 離子處理裝置10具有腔室11、基座(susceptor) 12、氣體導 入部13、平面天線14、微波發(fā)生部15、微波傳送機構(gòu)16與處理 氣體供給系統(tǒng)17,該腔室ll為大致圓筒狀，并可保持真空，用 于收容半導體基板，該基座12設置于腔室11底部，用于載置半 導體基板S,該氣體導入部13為環(huán)狀，設置于腔室ll的側(cè)壁， 用于導入處理氣體，該平面天線14設置成面臨腔室11上部的開 口部，形成有許多微波透過孔14a，該微波發(fā)生部15產(chǎn)生微波， 該微波傳送機構(gòu)16將微波發(fā)生部15引導到平面天線14，該處理 氣體供給系統(tǒng)17向氣體導入部13供給處理氣體。在平面天線14下方設有由介電體形成的微波透過板21,在 平面天線14上設有屏蔽構(gòu)件2 2 。微波傳送機構(gòu)16具有導波管 31、同軸導波管32與模式轉(zhuǎn)換機構(gòu)35,該導波管31沿水平方向 延伸，用于自微波發(fā)生部115引導微波，該同軸導波管32由從換機構(gòu)35設置于導波管31與同軸導波管32之間。在腔室11底部設有排氣機構(gòu)24,該排氣機構(gòu)24由用于對腔 室ll內(nèi)進行排氣的閥、排氣裝置等形成。排氣機構(gòu)24具有排氣 管23,該排氣管23與腔室11底部的排氣口 lla連接，在該排氣 管23的前級設置有作為排氣裝置的吸引泵53，在后級同樣設置 有作為排氣裝置的干式真空泵54，用干式真空泵54進行粗抽 吸，用吸引泵53進一步進行真空抽吸直到成為高真空。在排氣管23的吸引泵53的上游側(cè)設置有壓力控制閥60。在 腔室ll設置有檢測腔室11中壓力的壓力傳感器55,壓力控制閥 60可以根據(jù)壓力傳感器55的值調(diào)節(jié)開度。在排氣管23上，在吸 引泵53與干式真空泵54之間設有本發(fā)明的開關(guān)閥100。另外， 在壓力控制閥60的上游側(cè)也設有與開關(guān)閥IOO同樣的開關(guān)閥 101。在腔室ll側(cè)壁設置有可搬入搬出半導體基板s的搬入搬出口25，該搬入搬出口25可由閘閥G打開關(guān)閉。另外，在基座12 內(nèi)埋設有加熱器18。處理氣體供給系統(tǒng)17例如是供給C F氣體或氧氣之類處理 氣體的系統(tǒng)，這些從各氣體供給源被連接到共通的氣體供給管體供給管路19上安裝有開關(guān)閥與質(zhì)量流控制器等流量控制器 (未圖示)。該R L S A微波等離子處理裝置10為如下構(gòu)成具有程序控 制器50，該程序控制器50控制各構(gòu)成部、由微處理器(計算機) 構(gòu)成，各構(gòu)成部與該程序控制器5 0連接并由該程序控制器5 0控 制。例如，由基于壓力傳感器55的值的程序控制器50的指令來 控制壓力控制閥60 ，使開關(guān)閥IOO也由來自程序控制器50的指令打開關(guān)閉。另外，在程序控制器50上連接用戶接口 51，該用 戶接口 51由為了操作者管理RLSA微波等離子處理裝置IO而進 行命令輸入操作等的鍵盤、可視化表示等離子處理裝置的運轉(zhuǎn) 情況的顯示器等構(gòu)成。另外，程序控制器50上連接存儲有處理方法的存儲部52, 該處理方法為用于由程序控制器5 0的控制來實現(xiàn)用R L S A微波 等離子處理裝置10實施的各種處理的控制程序、或根據(jù)處理條 件使RLSA微波等離子處理裝置IO的各構(gòu)成部進行處理的程 序。該處理方法存儲在存儲部52中的存儲介質(zhì)中。存儲介質(zhì)既 可以是硬盤或半導體存儲器，也可以是CDROM、 DVD、閃存 等可移動的存儲介質(zhì)。另外，還可以從其他裝置通過例如專用 線^各適宜；也傳送處理方法。而且，根據(jù)需要，由來自用戶接口51的指示等從存儲部52 調(diào)出任意的處理方法，并使程序控制器50實施該處理方法，從 而來實現(xiàn)所期望的處理。另外，用壓力傳感器55檢測腔室11內(nèi) 的壓力，通過程序控制器50對壓力控制閥60的開度進行調(diào)節(jié)。接著，對在上述構(gòu)成的RLSA微波等離子處理裝置10中進 行的RLSA微波等離子處理裝置的方法的概略進行說明。首先，將半導體基板S搬入腔室11內(nèi)，并載置在基座12上。 然后，由排氣機構(gòu)24對腔室11內(nèi)進行真空排氣，從處理氣體供 應系統(tǒng)17經(jīng)由氣體供給管路19、通過氣體導入部13、將例如上 述的CF氣體、氧氣之類的處理氣體供給到腔室ll內(nèi)，進行蝕刻 處理等處理。該RLSA等離子微波方式的等離子處理在低電子溫度下形 成以高密度的自由基為主體的等離子，因此，可以實現(xiàn)低損傷 的等離子處理。在具有多個處理工序的情況下，l個處理工序結(jié)束之后，繼續(xù)進行真空排氣，并且，將設置于處理氣體供應系統(tǒng)17的Ar 等清掃氣體供給到腔室ll內(nèi)，對在前一道工序中殘留的氣體進 行清掃。其后，切換供給用于進行下一處理的氣體，形成微波 等離子并進行下一工序的處理。圖2是表示本發(fā)明的開關(guān)閥的圖，圖2(a)是圖2(b)的B 一B剖視圖，圖2 (b)是圖2 (a)的A—A剖視圖。開關(guān)閥100具有j故成大致立方體形狀的閥主體110。在閥主 體110的一方有作為流體入口的開口 111,與該開口 lll相對的 位置有作為流體出口的開口 112，在這些入口側(cè)的開口 lll與出 口側(cè)的開口 112之間形成有大致圓筒形狀的空間113。在空間113內(nèi)設置有可與入口側(cè)的開口 lll接近或分離的 閥體120。閥體與空間113內(nèi)壁的開口 111的周緣^妄近或分離來 打開關(guān)閉開口。在開口 lll的外側(cè)形成有凹槽llla。閥體120 為圓板形狀，在周緣嵌入有環(huán)狀密封構(gòu)件120b,在該密封構(gòu)件 120b外側(cè)嵌入有同樣環(huán)狀的保護密封部120a，從而可氣密地密 封入口側(cè)的開口 111。密封構(gòu)件120b優(yōu)選是完全氟化橡膠制的 構(gòu)件。保護密封部120a可以使用與密封構(gòu)件120b相同的原材 料，也可以使用別的原材料。在閥體120的后方設有閥桿122， 該閥桿122以可自由滑動的狀態(tài)貫穿小框體130，該小框體130 收容在空間113內(nèi)。在閥體120與小框體130之間有對閥體120 向入口側(cè)的開口 111施加力的彈簧部件124。在該實施例中使用 螺旋彈簧作為彈簧部件124。在閥桿122的中間豎立設置有銷123,銷123向閥桿122的 兩側(cè)突出，銷123的頂端進入作為凸輪機構(gòu)的板凸輪131的凸輪 槽132。銷123與凸輪槽132之間存在一些間隙，彈簧部件124 使銷123處于總是壓接于凸輪槽132的 一 邊的狀態(tài)。板凸輪131 位于小框體130內(nèi)、從兩側(cè)夾著閥桿122，兩側(cè)的^反凸輪131的兩端被連接、由設置于閥體120的外側(cè)的驅(qū)動部件135和桿136 連接。桿136貫通小框體130與閥主體110。由線性電動機或氣 缸構(gòu)成的驅(qū)動部件135使桿136沿圖2 (b)箭頭所示方向進退， 從而使與桿136成為 一體的板凸輪131進退。圖3是放大表示圖2的閥體120與板凸輪131的局部的示意 俯視圖。上下的板凸輪131的凸輪槽132是互為鏡像的關(guān)系，具 有直行部132a、 132c與斜行部132b,該直行部132a、 132c位 于兩端，與桿136的進退方向平行，該斜行部132b聯(lián)結(jié)這些直 行部132a與直行部132c。板凸輪131借助桿136的進退而沿圖3的y軸方向移動。另一 方面，閥桿122的兩端被支承在小框體130，如圖2(b)所示， 因為小框體130的兩端與閥主體110的空間113內(nèi)壁抵接，因此， 小框體130不能在y軸方向移動，閥桿122與固定在閥桿122上的 銷123都不能在y軸方向移動。因此，若板凸輪131沿y軸方向移 動，則使得銷123在凸輪槽132內(nèi)移動。板凸輪131沿y軸方向移動，銷123在凸輪槽132的直行部 132a內(nèi)移動時，閥體120從入口側(cè)的開口 111離開成為閥打開狀 態(tài)。此時，閥體120與入口側(cè)的開口 lll保持恒定的距離，閥體 120既不接近入口側(cè)的開口 111,也不遠離入口側(cè)的開口 111。板凸輪131沿y軸方向自如圖3所示的銷123的位置向圖的 上方向移動，銷123從凸輪槽132的直行部132a出來進入斜行部 132b、并在斜行部132b內(nèi)移動時，銷123沿x軸方向向圖3左方 移動，使閥體120接近入口側(cè)的開口 111。銷123到達斜行部 132b與直行部132a的分界處，成為閥體120與入口側(cè)的開口 lll周緣壓接的狀態(tài)，成為密封構(gòu)件120b彎曲而氣密地封閉入 口側(cè)的開口 lll的閥關(guān)閉狀態(tài)。另外，板凸輪131向圖上方移動，則銷123進入直行部132c內(nèi)，并在直行部132c中移動。此時，閥體120保持與入口側(cè)的 開口lll壓接的狀態(tài)。由于銷123進入直行部132c,則即使板凸 輪131停止，也可以防止銷123返回斜行部132b,可以保持關(guān)閉 閥的狀態(tài)。如以上說明那樣，由驅(qū)動部件135、桿136、板凸輪 131、銷123、閥4奉122構(gòu)成閥體120的直進移動部件140。上述為閥體120的直進運動的說明，但是，開關(guān)閥100還具 有轉(zhuǎn)動部件150。該轉(zhuǎn)動部件150使驅(qū)動部件135、桿136、小 框體130、板凸輪131、閥桿122、閥體120 —起以桿136的中心 軸為中心進行轉(zhuǎn)動。閥體120可在如下兩個位置之間轉(zhuǎn)動一 個位置為與開口 lll對應的位置，另一個位置為與位于從閥主 體110內(nèi)壁的開口 111離開大約90度的位置的閥退避部113b對 應(相對)的位置。另外，驅(qū)動部件135與轉(zhuǎn)動部件150獨立動 作，基于來自程序控制器5 0的指令由未圖示的控制裝置控制。 在這種情況下，由轉(zhuǎn)動部件150使閥體120轉(zhuǎn)動到與閥退避部 113b對應的位置后，由驅(qū)動部件135^:閥體120進出，從而可以 使密封構(gòu)件120b與閥體120內(nèi)壁緊密接觸。可以使用具有減速 器的電動機等作為轉(zhuǎn)動部件150。接著，參照圖4 ( a) 圖4 ( e)，對本發(fā)明開關(guān)閥110的開 關(guān)動作、即從閥關(guān)閉狀態(tài)到打開閥、閥體退避到退避部的動作 進行說明。圖4 ( a )是表示閥關(guān)閉狀態(tài)、即閥體120密封入口側(cè)的開 口lll的狀態(tài)。該狀態(tài)為如下狀態(tài)圖2 ( b )所示的板凸輪131 移動到最上面，圖3所示的銷123位于直行部132c的最下部，桿 136變?yōu)樽疃?。密封?gòu)件120b與開口 lll壓接，外側(cè)的保護密封 部120a收容在形成于開口 lll外側(cè)的凹槽llla內(nèi)。在凹槽llla 內(nèi)，保護密封部120a前端為不與凹槽llla底面抵接的狀態(tài)。通 過做成這樣來防止保護密封部120a變形、確保密封力。圖4 ( b)表示閥打開狀態(tài)。該狀態(tài)為如下狀態(tài)在圖3中， 桿136變?yōu)樽铋L，板凸輪131移動到最下面，銷123位于直行部 132a的最上部。此時，閥體120從入口側(cè)的開口 lll離開，成為 入口側(cè)的開口 lll與出口側(cè)的開口 112連通的狀態(tài)。即，通過板 凸輪131從最上部移動到最下部來進行從(a)到(b)的變化。圖4 ( c)是表示從圖4 ( b)狀態(tài)由轉(zhuǎn)動部件150使從驅(qū)動 部件135到閥體120 —起轉(zhuǎn)動了大約45度的狀態(tài)。閥體120為從 開口lll離開了的狀態(tài)，而且，閥主體110的內(nèi)部空間113為圓 形，因此即使使閥體120以桿136的中心軸為軸進行旋轉(zhuǎn)，也不 會與空間113內(nèi)壁干涉。另外，即使內(nèi)部空間113不為圓形，可 以做成閥體120不與空間113內(nèi)壁干涉的形狀。圖4 ( d)是表示由轉(zhuǎn)動部件150進一步轉(zhuǎn)動小框體130等、 轉(zhuǎn)動角度變?yōu)榇蠹s90度的狀態(tài)。閥體120移動到與位于從開口 111離開大約90度的位置的閥退避部113b相對的位置。在該狀態(tài)下，使驅(qū)動部件135動作，縮小桿136。于是，板 凸輪131從圖3的狀態(tài)上升，銷123到達凸輪槽132的直行部 132c的最下端，如圖4(e)所示，閥體120到達閥退避部113b。 在該狀態(tài)下，保護密封部120a緊密附著在閥退避部113b,成為 由保護密封部120a密封密封構(gòu)件120b 、且密封構(gòu)件120b的前 端面與任何地方都不接觸的狀態(tài)。在腔室ll內(nèi)進行規(guī)定的等離子處理時，開關(guān)閥100為圖4 (e )所示的狀態(tài)，該狀態(tài)為如下狀態(tài)閥體120退避到閥退避 部113b,用保護密封部120a密封密封構(gòu)件120b;因此，使得 從入口側(cè)的開口 lll進入并流向出口側(cè)的開口 112的自由基等 不與密封構(gòu)件120b接觸。因此，可以延長閥桿122的壽命，可 以降低裝置的運行成本。另外提高處理的生產(chǎn)率。另外，本發(fā)明可以不限于上述實施方式，可進行各種變形。例如，在上述實施方式中示出了將本發(fā)明的開關(guān)閥應用于RLSA微波等離子處理裝置10的例子，但并不局限于此，也可 以適用于其他的等離子處理裝置。另外，在上述實施方式中做 成如下結(jié)構(gòu)閥退避部113b位于閥主體110的內(nèi)壁，閥體120 處于退避狀態(tài)時，使保護密封部120a緊密附著在閥退避部113b 上。而且，此時，使密封構(gòu)件120b不與內(nèi)壁抵接。通過做成這 樣，從而防止密封構(gòu)件120b的變形、延長密封構(gòu)件120b的使用 壽命。在本發(fā)明的實施例中，閥退避部113b位于空間113的圓筒 形內(nèi)壁，因此，密封構(gòu)件120b不與內(nèi)壁抵接。但是，內(nèi)壁為平 面的情況等，有時移動到閥退避部的密封構(gòu)件120b與壁面壓 接。在這樣的情況下，優(yōu)選是做成在閥退避部形成凹部而使密 封構(gòu)件120b不與壁面壓接。在本發(fā)明的實施例中，閥退避部也可以不必位于闊主體 110的內(nèi)壁。即使在密封構(gòu)件不緊密附著在壁部的狀態(tài)下，只 要可以減少與密封構(gòu)件接觸的排氣流的量，就可得到減少密封 構(gòu)件的老化的效果。另外，閥的驅(qū)動方式等也不限于上述實施 方式。
權(quán)利要求
1.一種開關(guān)閥，該開關(guān)閥設置于腔室與對該腔室內(nèi)進行真空排氣的排氣裝置之間，該腔室可將內(nèi)部保持真空，其特征在于，具有閥主體、閥體、密封構(gòu)件、直進移動部件、閥退避部與轉(zhuǎn)動部件，該閥主體在內(nèi)部形成有連通上述腔室側(cè)與上述排氣裝置側(cè)的開口，該閥體在該閥主體內(nèi)與上述開口接觸分離來打開關(guān)閉開口，該密封構(gòu)件設置于上述閥體，在上述閥體關(guān)閉了上述開口時密封開口，該直進移動部件使上述閥體進退，該閥退避部設置于離開上述開口的位置，供從上述開口離開的上述閥體退避，該轉(zhuǎn)動部件使上述閥體在如下兩個位置之間轉(zhuǎn)動一個位置為與上述開口對應的位置，另一個位置為上述閥退避部或與上述閥退避部對應的位置；上述閥體從上述開口離開時，由上述直進移動部件與轉(zhuǎn)動部件將上述閥體移動到上述閥退避部。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的開關(guān)閥，其特征在于，上述閥退 避部設置于離開上述開口的壁部，上述閥體移動到與上述閥退 避部對應的位置時，上述直進移動部件使上述閥體直進從而使 上述密封構(gòu)件與閥退避部壓接。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的開關(guān)閥，其特征在于，上述 直進移動部件具有凸輪機構(gòu)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的開關(guān)閥，其特征在于，上述凸輪 機構(gòu)是在板狀構(gòu)件表面上形成有槽的板凸輪。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1 4中任意一項所述的開關(guān)閥，其特征在 于，上述轉(zhuǎn)動部件使凸輪機構(gòu)與上述閥體一起轉(zhuǎn)動。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1 4任意一項所述的開關(guān)閥，其特征在于，封部緊密附著在上述閥退避部時，上述密封構(gòu)件被氣密地密封 在上述保護密封部內(nèi)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的開關(guān)閥，其特征在于，在上述開 口的周邊形成收容上述保護密封部的凹槽，上述密封構(gòu)件密封 開口時，上述保護密封部被收容到上述凹槽。
8. —種處理裝置，該處理裝置具有腔室、處理機構(gòu)、排 氣裝置與開關(guān)閥，該腔室收容被處理體，可將內(nèi)部保持真空， 該處理機構(gòu)在上述腔室內(nèi)對被處理體實施等離子處理，該排氣 裝置對上述腔室內(nèi)進行真空排氣，該開關(guān)閥設置于上述腔室與 上述排氣裝置之間；其特征在于，上述開關(guān)閥具有閥主體、閥體、密封構(gòu)件、直進移動部件、 閥退避部與轉(zhuǎn)動部件，該閥主體在內(nèi)部形成有連通上述腔室側(cè) 與上述排氣裝置側(cè)的開口 ，該閥體在該閥主體內(nèi)與上述開口接 觸分離來打開關(guān)閉開口，該密封構(gòu)件設置于上述閥體，在上述 岡體關(guān)閉了上述開口時密封開口 ，該直進移動部件-使上述閥體 進退，該閥退避部設置于離開上述開口的位置，供/人上述開口 離開的上述閥體退避，該轉(zhuǎn)動部件使上述閥體在如下兩個位置 之間轉(zhuǎn)動 一個位置為與上述開口對應的位置，另一個位置為 上述閥退避部或與上述閥退避部對應的位置；上述閥體從上述 開口離開時，由上述直進移動部件與轉(zhuǎn)動部件將上述閥體移動 到上述閥退避部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可以實現(xiàn)密封構(gòu)件長使用壽命化的開關(guān)閥及具有該開關(guān)閥的處理裝置。該開關(guān)閥(100)設置于可將內(nèi)部保持真空的腔室(11)與排氣裝置(53、54)之間，具有連通腔室側(cè)與排氣裝置側(cè)的開口(111)的閥主體(110)、在閥主體內(nèi)與開口接觸或分離來打開關(guān)閉開口的閥體(120)、設置于閥體并在閥體關(guān)閉了開口時密封開口的密封構(gòu)件(120b)、使閥體進退的直進移動部件(140)、設置于離開開口的位置、并供從開口離開的閥體退避的閥退避部(113b)、與使閥體在與開口對應的位置和與閥退避部對應的位置之間轉(zhuǎn)動的轉(zhuǎn)動部件(150)。
文檔編號H01L21/3065GK101270831SQ20081008558
公開日2008年9月24日 申請日期2008年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月19日
發(fā)明者野澤俊久 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社