專利名稱：一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種刻蝕裝置，特別涉及一種氧化物薄膜絨面的濕法刻蝕裝置。
背景技術(shù)：
目前，在太陽(yáng)能電池的生產(chǎn)中，通常將太陽(yáng)能電池的入射面制備成類似 "金字塔"式的絨面結(jié)構(gòu)，使同一束光在絨面之間多次反射，提高入射光的 散射，絨面起到了 "陷光"的作用，有效降低入射光的反射，延長(zhǎng)光線在電 池有源層的度越時(shí)間，增強(qiáng)了光的吸收,增加電池的光電轉(zhuǎn)換效率。所以在晶 硅電池制備過(guò)程中，需要對(duì)硅片表面進(jìn)行氫氟酸蝕刻制絨；在第二代薄膜電 池中，前電極氧化物薄膜也需進(jìn)行絨面處理， 一般使用稀鹽酸溶液對(duì)其進(jìn)行 酸刻制絨。不過(guò)，傳統(tǒng)制絨工藝在批量生產(chǎn)、流水作業(yè)及絨面均勻度上都存在弊端， 如常用的薄膜電池的前電極制絨方式是將盛放鍍有透明導(dǎo)電膜的基片的盛放 架從下而上置入酸液槽中，靜置一段時(shí)間后，再將架子取出。這種制絨方式 存在兩個(gè)問(wèn)題其一，最上面的基片最后進(jìn)入酸液槽，最先從酸液槽中出來(lái)， 因而會(huì)造成基片間刻蝕的不均勻性；其二，由于基片在蝕刻過(guò)程中處于靜置 狀態(tài)，刻蝕導(dǎo)致局部溶液酸性降低會(huì)使得對(duì)氧化物薄膜刻蝕的速度下降。這 些制絨工藝均難以達(dá)到預(yù)期快速，均勻的刻蝕效果。所以，現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)是1. 由于基片先后進(jìn)入酸液槽，浸在酸液槽中的時(shí)間長(zhǎng)短不同，造成基片 之間的受刻蝕成度不均勻，產(chǎn)品質(zhì)量不高。2. 每次放置基片的架子從進(jìn)入到取出酸液槽的過(guò)程都造成了后一個(gè)架 子的等待時(shí)間，生產(chǎn)效率低下。3.由于基片在刻蝕過(guò)程中處于靜止?fàn)顟B(tài)，酸液被反應(yīng)而稀釋，造成基片 蝕刻過(guò)程的過(guò)程中基片附近的酸液濃度不斷下降，延長(zhǎng)了生產(chǎn)周期。發(fā)明內(nèi)容針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足之處，本發(fā)明提供一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，它能夠保證每一片基片的受反應(yīng)時(shí)間相同，刻蝕均勻；保證基片蝕刻 過(guò)程的局部酸液濃度，提高了酸液的利用率。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種薄膜基片的濕法刻蝕裝置，包括一 刻蝕槽和一裝載薄膜基片的載體，所述刻蝕槽底部是弧形；所述載體設(shè)有車(chē) 輪，沿刻蝕槽底部運(yùn)動(dòng)。所述刻蝕槽底部設(shè)有軌道，車(chē)輪沿軌道運(yùn)動(dòng)。所述載體上設(shè)有基片夾，固定薄膜基片。所述載體底部?jī)蓚?cè)各設(shè)有兩個(gè)車(chē)輪;沿刻蝕槽的底部設(shè)有兩條弧形軌道。 所述刻蝕槽的出入口分別設(shè)有水平軌道，水平軌道與弧形軌道相接。 所述刻蝕槽上有蓋板，蓋板不干涉載體進(jìn)出刻蝕槽。 所述載體的高度小于刻蝕槽的深度。所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，還包括一控制單元，控制單元控制 載體運(yùn)動(dòng)。本發(fā)明由于采用了以上技術(shù)方案，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn) 和積極效果1. 保證基片浸在酸液槽中的時(shí)間相同，基片之間的受刻蝕程度均勻，提咼產(chǎn)品質(zhì)量。2. 使用了流水線生產(chǎn)的設(shè)計(jì)理念，取消了等待時(shí)間，加快了生產(chǎn)效率。3. 在小車(chē)的帶動(dòng)下，基片在刻蝕過(guò)程中處于運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，保證了酸液的濃 度波動(dòng)范圍較小，縮短了生產(chǎn)周期。


此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的 不當(dāng)限定。在附圖中圖l是本發(fā)明中小車(chē)的主意圖。 圖2是本發(fā)明中小車(chē)的側(cè)視圖。 圖3是本發(fā)明中弧形刻蝕槽的示意圖。圖4是本發(fā)明中小車(chē)駛?cè)肟涛g槽的示意圖。圖5是本發(fā)明中小車(chē)在刻蝕槽中運(yùn)動(dòng)的示意圖。圖6是本發(fā)明中小車(chē)駛出刻蝕槽的示意圖。附圖標(biāo)號(hào)[1]輪子 [2]基片 [3]后側(cè)面[5]蓋板 [6]弧形軌道 [7]水平軌道[9]載體 [h]小車(chē)高度 [H]刻蝕槽深度[4]基片夾 [8]刻蝕槽
圓心具體實(shí)施方式
下面結(jié)合說(shuō)明書(shū)附圖l一6來(lái)介紹本發(fā)明的一種較佳實(shí)施例。 如圖1和2所示，本發(fā)明使用帶有4個(gè)輪子1的小車(chē)作為裝載基片2的 載體9，小車(chē)高為h，小車(chē)底部?jī)蛇吀餮b有2個(gè)車(chē)輪，上部的層疊放置了50 片薄膜基片2，并通過(guò)基片夾4固定，使基片2在小車(chē)的運(yùn)動(dòng)中不會(huì)掉落。 控制單元通過(guò)傳動(dòng)裝置連接在小車(chē)的后側(cè)面3，控制小車(chē)的運(yùn)動(dòng)。如圖3所示，以0點(diǎn)為圓心的圓弧底刻蝕槽8，刻蝕槽8深度為H， H大 于h，酸液能完全浸沒(méi)小車(chē)。在刻蝕槽8底部沿圓弧布設(shè)兩條弧形軌道6，在 刻蝕槽8的進(jìn)出口兩端架設(shè)水平軌道7，弧形軌道6與水平軌道7接軌，使 小車(chē)能自如地進(jìn)出刻蝕槽8，同時(shí)有利于控制小車(chē)在刻蝕槽8的行進(jìn)速度和 浸泡時(shí)間，在刻蝕槽8的上部設(shè)置了蓋板5，蓋板5的兩端與刻蝕槽8的進(jìn) 出口保持一定距離，不干涉小車(chē)的進(jìn)出刻蝕槽8，同時(shí)也減緩了酸液的揮發(fā)，提高了酸液有效利用率，節(jié)約了成本。如圖4、 5、 6所示，小車(chē)在控制單元的控制下，水平軌道7駛向弧形軌道6，進(jìn)入刻蝕槽8，通過(guò)基片夾4的夾持，使50片薄膜基片2在小車(chē)沿圓 弧的運(yùn)動(dòng)中和被酸液刻蝕的過(guò)程中保持固定。小車(chē)裝載著薄膜基片2進(jìn)入刻 蝕槽8后，酸液開(kāi)始對(duì)所有的基片進(jìn)行刻蝕，基片2附近的酸液急劇下降， 但是小車(chē)通過(guò)不斷的前進(jìn)，駛離上一時(shí)刻酸液濃度降低的區(qū)域，直到小車(chē)駛 出刻蝕槽8。整個(gè)過(guò)程中，小車(chē)的運(yùn)動(dòng)也是對(duì)酸液的一種攪拌，加快了被稀 釋部分的酸液濃度的恢復(fù)速度，縮短了生產(chǎn)周期。放置在小車(chē)前部的薄膜基 片2先進(jìn)先出，放置在小車(chē)后部的薄膜基片2后進(jìn)后出，保證了整車(chē)的薄膜 基片2在刻蝕槽8中的反應(yīng)時(shí)間一致，自然基片之間的受刻蝕成度均勻，產(chǎn) 品質(zhì)量也就得到了提高。顯而易見(jiàn)，在使用這種方法的過(guò)程中，不必等前一 輛小車(chē)駛出刻蝕槽8，小車(chē)可以一輛接著一輛裝載著薄膜基片2進(jìn)入刻蝕槽8， 這種流水線使的刻蝕操作方式大大提高了生產(chǎn)效率。最后應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案而非對(duì)其 限制；盡管參照較佳實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，所屬領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解依然可以對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式
進(jìn)行修改或者對(duì)部分技 術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而不脫離本發(fā)明技術(shù)方案的精神，其均應(yīng)涵蓋在本發(fā) 明請(qǐng)求保護(hù)的技術(shù)方案范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求
1、一種薄膜基片的濕法刻蝕裝置，包括一刻蝕槽(8)和一裝載薄膜基片(2)的載體(9)，其特征在于所述刻蝕槽(8)底部是弧形；所述載體(9)設(shè)有車(chē)輪(1)，沿刻蝕槽(8)底部運(yùn)動(dòng)。
2、 如權(quán)利要求l所述的薄膜基片的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述刻 蝕槽(8)底部設(shè)有軌道，車(chē)輪(1)沿軌道運(yùn)動(dòng)。
3、 如權(quán)利要求2所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述載體(9)上設(shè)有基片夾(4)，固定薄膜基片(2)。
4、 如權(quán)利要求3所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 載體(9)底部?jī)蓚?cè)各設(shè)有兩個(gè)車(chē)輪(1);沿刻蝕槽(8)的底部設(shè)有兩條弧 形軌道(6)。
5、 如權(quán)利要求4所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 刻蝕槽(8)的出入口分別設(shè)有水平軌道(7)，水平軌道(7)與弧形軌道(6) 相接。
6、 如權(quán)利要求5所述的薄膜基片的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述刻 蝕槽(8)上有蓋板(5)，蓋板(5)不干涉載體(9)進(jìn)出刻蝕槽(8)。
7、 如權(quán)利要求6所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于所述 載體(9)的高度小于刻蝕槽(8)的深度。
8、 如權(quán)利要求5或6所述的氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，其特征在于 還包括一控制單元，所述控制單元控制載體(9)運(yùn)動(dòng)。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種氧化物薄膜的濕法刻蝕裝置，包括一刻蝕槽和一放置薄膜基片的載體，所述刻蝕槽底部是弧形；所述載體底部設(shè)有車(chē)輪，刻蝕槽內(nèi)設(shè)有軌道，車(chē)輪沿軌道進(jìn)出刻蝕槽，刻蝕槽上有蓋板，蓋板不干涉載體進(jìn)出刻蝕槽，該裝置還包括一控制單元，控制單元控制載體運(yùn)動(dòng)，所述載體上設(shè)有基片夾，固定薄膜基片。通過(guò)載體在刻蝕槽中的運(yùn)動(dòng)的流水線生產(chǎn)設(shè)計(jì)理念，使得每一片在酸液槽中的時(shí)間相同，同時(shí)保證了酸液的濃度波動(dòng)范圍較小，提高了酸液的利用率，提升了產(chǎn)品的質(zhì)量，加快了生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)H01L31/18GK101404303SQ20081004266
公開(kāi)日2009年4月8日 申請(qǐng)日期2008年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月9日
發(fā)明者劉古巖, 芃 夏, 鄭飛璠 申請(qǐng)人:上海拓引數(shù)碼技術(shù)有限公司