專利名稱：平板保持體的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種平板保持體，例如，關于一種對使用于曝光裝置等的掩模或平面鏡進行保持的保持體。
背景技術：
圖5是表示現(xiàn)有技術的曝光裝置的概略構成的圖。
如該圖所示，該曝光裝置大致包括射出曝光光的光照射部110；對形成圖形的掩模進行保持的掩模載臺部120；對被曝光的工件進行載放保持的工件載臺部130。
光照射部110設有放射曝光光的燈111；反射來自燈111的光并進行聚光的聚光鏡112；使被照射面的曝光光的照度分布均勻的積分儀(integrator)113(也稱為復眼微透鏡)；將曝光光的光路折返的平面鏡114(此處使用3枚)；支持平面鏡114的載臺基座115及支持體116；使曝光光成為平行光的準直儀(collimator)117等，并且從光射出口118射出曝光光。
在掩模載臺部120中，在光射出口118的光出口側，形成了電路等圖形的掩模121(也稱為光柵)，被保持固定在掩模載臺122上。另外，在該圖中，掩模121被安裝在掩模載臺122的上面?zhèn)?，但是也存在被安裝在下面?zhèn)鹊那闆r。
在工件載臺部130中，涂布或粘貼有感光劑的印刷電路基板或晶片等工件131，被保持在工件載臺132上。
在掩模載臺部120及/或工件載臺部130上，設有掩模載臺移動機構123及/或工件載臺移動機構133，掩模121及/或工件131在XYθ方向(掩模121及/或工件131平面的正交的2個方向、及與上述平面正交的軸周圍的旋轉方向)移動，并進行定位以便使掩模121與工件131成為預定的位置關系。
在掩模121與工件131的定位結束之后，工件載臺132通過工件載臺移動機構133，在與上述平面正交的Z方向移動，并將掩模121與工件131設定為預定間隔。
之后，從光照射部110經由掩模121對涂布有感光劑的工件131照射曝光光，掩模圖形被曝光轉印。完成曝光的工件131被從工件載臺132搬出，并搬入下一個要被處理的工件131。
另外，在上述中以曝光裝置為例進行了說明，但是在液晶面板的粘合工程中，經由形成了遮光部的掩模，只對涂布了光硬化型粘接劑的區(qū)域照射紫外線，使粘接劑硬化地粘合2個面板的裝置，也使用與圖5所示的曝光裝置相同的裝置。
該情況下，工件是與形成的面板的輪廓配合地涂布了粘接劑的玻璃面板基板，掩模形成有圖形以便使光照射上述粘接劑、而液晶等部分被遮光。從光照射部照射的光，是具有使光硬化型粘接劑硬化的波長的光。大多光硬化型粘接劑通過紫外線進行硬化，使用包含200nm～400nm的紫外線的光。
圖6是表示圖5所示的曝光裝置等所使用的現(xiàn)有技術的掩模載臺的構成的圖。
掩模載臺140主要包括保持掩模141的載臺基座142；載臺移動機構143，使載臺基座142在XYθ方向(掩模141的平面內的正交的2個方向、及正交于上述平面的軸周圍的旋轉方向)，并且根據情況也在Z方向(相對于掩模141的平面正交的方向)移動。
在載臺基座142上設有開口144，經由掩模141被照射于工件的光線(曝光光·紫外線)通過該開口144。并且，在開口144的周邊部，形成用于保持掩模141的真空吸附槽145，通過對掩模141的周邊部進行吸附，將掩模141保持固定在載臺基座142上。
由于掩模141在四周被吸附保持在載臺基座142上，因此載臺基座142的平面度需要高精度地進行加工。當載臺基座142的平面度低時，被轉印到工件的圖形產生歪斜、或光照射的位置偏移等，曝光精度或光照射精度變差。
專利文獻1日本特開平11-186124號公報專利文獻2日本特開平10-335204號公報然而，被曝光的工件(例如印刷電路基板)或進行粘合的液晶面板逐年大型化。例如，進行粘合的液晶面板用的玻璃基板，出現(xiàn)了一邊超過2m的。隨著工件的大型化，照射光(曝光光，紫外線)的區(qū)域也變大，因此掩模也大型化。隨著掩模的大型化，保持掩模的掩模載臺的載臺基座也大型化。
具有如圖6所示的開口144的大載臺基座142，難以進行高平面度的加工。對具有開口144的部件進行平面加工本來就很難，當在平面加工之后再設置開口144時，在設置開口144的加工時產生飛邊或歪斜，并且即使掩模141被高平面精度地制作，但是由于被保持在載臺基座142上也產生飛邊或歪斜。
作為其對策，代替通過載臺基座142吸附保持掩模141四周的方法，如圖7所示，可以考慮，將支持體146立在載臺基座142上，并在3點支持掩模141。由于掩模141基本上為平板，如果進行3點支持，理想地應成為平面。
但是，如圖7所示，在掩模141為大型的情況下，在僅3點的支持中，在掩模141未被支持的部分產生自重變形。當掩模141變形時，由于掩模圖形歪斜地投影在工件上，因此曝光精度降低。
并且，在上述中對掩模與掩模載臺的問題點進行了說明，但在圖5所示的曝光裝置的光照射部110中，在用于折返光路的平面鏡114的支持中也發(fā)生同樣的問題。當平面鏡114發(fā)生變形時，反射的光線變寬或變窄，無法得到平行的光。當無法得到平行的光時，例如在使掩模121與工件131接近地進行曝光的曝光裝置中，由于掩模圖形被變形地投影在工件131上，因此曝光精度降低。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供一種保持體，不使用加工困難、難以得到平面精度的載臺，可對曝光裝置等所使用的大型掩模或平面鏡等平板進行防止自重變形的保持。
本發(fā)明為了解決上述課題，采用如下方法。
第1方法是一種保持體，由保持平板的多個棒狀保持部件構成，其特征為，上述保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，在偏轉(yawing)、轉動(rolling)及起伏(pitching)移動被允許的狀態(tài)下，相對于保持體的基座在1處被支持；第二保持部件，在可轉動和第二保持部件可向延伸方向膨脹的狀態(tài)下，起伏及偏轉被限制，并相對于保持體的基座在2處被支持。
第2方法是一種保持體，由保持平板的多個棒狀保持部件構成，其特征為，上述保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，通過保持與球的支承關系，利用支柱在保持體的基座的1處被支持；第二保持部件，通過保持與球的支承關系，利用支柱在保持體的基座的2處被支持，并且在第二保持部件可在延伸方向膨脹的狀態(tài)下被支持。
第3方法是在第1方法或第2方法中，除上述第一保持部件及上述第二保持部件外，還具有其他保持上述平板的棒狀保持部件，該其他保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且相對于保持體的基座通過彈簧或氣缸進行支持。
根據方式1記載的發(fā)明，可對用于曝光裝置等的大型掩模或平面鏡等平板進行防止自重變形的保持。
根據方式2記載的發(fā)明，可對用于曝光裝置等的大型掩模或平面鏡等平板進行防止自重變形的保持。并且，通過使第一保持部件保持與球的支承關系，并利用支柱在1處進行支持，由此在偏轉、轉動及起伏移動被允許的狀態(tài)下，可在1處進行支持。并且，通過使第二保持部件保持與球的支承關系，并利用支柱在2處進行支持，并且在可以在第二保持部件的延伸方向膨脹的狀態(tài)下進行支持，由此可以限制起伏及偏轉地在2處進行支持，并且可對應于長度方向熱變化的膨脹伸縮。
根據方式3記載的發(fā)明，通過根據保持的平板的形狀或大小，適當地組合第一及第二保持部件和其他保持部件，由此可對第一及第二保持部件不能保持的部分進行補充。
圖1是表示第1實施方式的發(fā)明的保持體的構成的立體圖。
圖2是表示第一保持部件2及第二保持部件3的詳細構成的斷面圖或立體圖。
圖3是表示第2實施方式的發(fā)明的保持體的構成的立體圖、及第三或第四保持部件7、8的構成的斷面圖。
圖4是表示對第3實施方式的發(fā)明的平板進行保持的保持體的構成例的圖。
圖5是表示現(xiàn)有技術的曝光裝置的概略構成的圖。
圖6是表示圖5所示的曝光裝置等所使用的現(xiàn)有技術的掩模載臺的構成的圖。
圖7是用于對在掩模141為大型的情況下、在只有3點的支持中在掩模141未被支持的部分產生自重變形進行說明的圖。
具體實施例方式
使用圖1或圖2來說明本發(fā)明的第1實施方式。
圖1是表示本實施方式的發(fā)明的保持體的構成的立體圖。
在該圖中，1是在曝光裝置等中對四方型的掩模6等平板進行保持的保持體；2是對掩模6的一邊進行保持的第一保持部件；21是支柱；22、23是按壓彈簧；3是對掩模6的與上述一邊相對的一邊進行保持的第二保持部件；31、32是支柱；33是按壓彈簧；4是載臺基座；5是開口；6是掩模。
另外，在該圖中，將掩模6平面內的圖中左右方向設為X軸，將在掩模6平面內與X軸正交的方向設為Y軸，并將與掩模6平面正交的方向設為Z軸，并且將X軸周圍的旋轉稱為轉動(rolling)R，將Y軸周圍的旋轉稱為起伏(pitching)P，將Z軸周圍的旋轉稱為偏轉(yawing)Y。
如該圖所示，掩模6由棒狀的第一保持部件2、及第二保持部件3保持，所述第一保持部件2、及第二保持部件3與掩模6的4邊中相對的2邊的各邊相對應的部分被加工為平面。
如后述的圖2所示，第一及第二保持部件2、3的表面，形成有真空吸附槽25、37并被抽真空，對載放的掩模6進行吸附保持。并且，第一及第二保持部件2、3都被安裝在載臺基座4上，載臺基座4設置有開口5以便使通過了掩模6的光通過。
使第一保持部件2允許相對于載臺基座4的偏轉Y、轉動R、起伏P移動，并由支柱21在1點支持。
另一方面，使第二保持部件3僅允許相對于載臺基座4的轉動R移動、限制偏轉Y、起伏P移動，并由支柱31、32在2點支持。
并且，第一及第二保持部件2、3很長，在由于本身自重產生變形的情況下，設置抬起按壓彈簧22、23以便使支持第一保持部件2的支柱21以外部分的自重變形消失，并設置抬起按壓彈簧33以便使支持第二保持部件3的支柱31、32以外部分的自重變形消失。另外，也可使用氣缸來代替按壓彈簧。
圖2是表示第一保持部件2及第二保持部件3的詳細構成的斷面圖或立體圖。
圖2(a)是表示第一保持部件2的構成的圖，通過1根支柱21并通過球面軸承24對第一保持部件2進行保持，并在X軸、Y軸、Z軸向的移動被限制、偏轉Y、轉動R、起伏P移動被允許的狀態(tài)下進行支持。另外，如圖2(b)所示，代替球面軸承24，也可以構成為將在削尖的頂端設置了球27的支柱21，插入在第一保持部件2上形成的圓錐孔26中。但是，需要進行使第一保持部件2不在Z方向抬起的研究。
圖2(c)是表示第二保持部件3的構成的圖，第二保持部件3通過2根支柱31、32在2點被支持。一個支柱32通過球面軸承34支持第二保持部件3，另一個支柱31，考慮到第二保持部件3因熱變化在第二保持部件3的長度方向(第二保持部件3的延伸方向)進行膨脹伸縮的情況，在第二保持部件3的一部分沿著長度方向形成V形槽35，并通過將在削尖的頂端設置了球36的支柱31插入該V形槽35中，來保持第二保持部件3。通過這種構成，第二保持部件3可進行轉動R移動和第二保持部件3在伸展方向的膨脹、但是在偏轉Y與起伏P移動、及X軸、Y軸、Z軸向的移動被限制的狀態(tài)下被支持。
圖2(d)是表示第二保持部件3的其他構成的圖。在一個支柱32中，與第一保持部件2的情況相同，代替球面軸承34也可以由球38與圓錐孔39構成。并且，在另一個支柱31中，也可以代替考慮了第二保持部件3長度方向的膨脹伸縮的V形槽35與球36的構成，使其為利用了軸40與套筒(bush)41的花鍵(spline)構造。該情況下，設置沿第二保持部件3的長度方向延伸的軸40，并將設置在支柱31頂端的套筒41安裝在該軸40上。
返回圖1，使第一及第二保持部件2、3的構成采用如圖2所示的構成，并將第一保持部件2與第二保持部件3作為保持框，當在其上載放掩模6時，第一及第二保持部件2、3沿著被高平面精度制作的掩模6的平面吸附掩模6。由此，通過在X方向延伸的第一及第二保持部件2、3，掩模6無自重變形地被保持。掩模6通過第二保持部件3限制偏轉Y與起伏P移動、通過掩模6本身限制轉動R移動，并被定位。
另外，在本實施方式的發(fā)明的保持體中，在保持的掩模6的Y軸向變形為不成問題程度的小的情況下，如上所述，用第一及第二的兩根保持部件2、3進行保持即可。但是，在掩模6為非常大型、并在Y軸向產生變形的情況下，需要設置對掩模6剩余的2邊進行保持的棒狀的第三及第四保持部件，并構成保持框。
以下，使用圖3來說明本發(fā)明的第2實施方式。
圖3(a)是表示本實施方式的發(fā)明的保持體的構成的立體圖，圖3(b)是表示第三及第四保持部件7、8的構成的斷面圖。
在這些圖中，7是保持掩模6一邊的第三保持部件，71、72、73是按壓彈簧，8是對掩模6的與上述一邊相對的一邊進行保持的第四保持部件，81、82、83是按壓彈簧。另外，其他構成對應于圖1所示的相同符號的構成，因此省略說明。
如這些圖所示，與第一及第二保持部件2、3同樣，第三及第四保持部件7、8的表面被加工為平面、形成真空吸附槽74、84并被抽真空，并吸附保持載放的掩模6。第三及第四的保持部件7、8不由支柱保持，僅由多個按壓彈簧71～73、81～83進行相對于載臺基座4的支持，按壓彈簧71～73、81～83的彈簧常數被決定，以便在第三及第四保持部件7、8吸附掩模6時，使其成為1個平面。另外，也可使用氣缸來代替按壓彈簧。
如圖3(a)所示，掩模6由第一及第二保持部件2、3保持，并且由第三及第四保持部件7、8保持。在Y軸向延伸的第三及第四保持部件，通過沿著被高平面精度制作的掩模6的平面被吸附，使其Y軸向的自重變形消失地被保持。
在上述第1實施方式及第2實施方式中，以對用于曝光裝置的掩模6進行保持的保持體為例進行了說明，但并不被限于此，也可適用于對用于曝光裝置的平面鏡、或用于其他光照射器的反射鏡等平板進行保持的保持體。
以下，使用圖4來說明本發(fā)明的第3實施方式。
圖4是表示對本實施方式的發(fā)明的平板進行保持的保持體的構成例的圖。
圖4(a)是表示在平板9為三角形的情況下，使由1個支柱支持的第一保持部件10為縱、由2個支柱支持的第二保持部件11為橫，并組合成T字型地保持平板9的例的俯視圖。
圖4(b)是表示在平板12為與圖4(a)所示的平板9不相同的三角形的情況下，使第一保持部件13和第二保持部件14組合成L字型地保持2邊，并通過由未圖示的按壓彈簧或氣缸支持的第三保持部件15來支持剩余一邊的例的俯視圖。
如此，第一保持部件10、13與第二保持部件11、14，不但相對并行地配置，還可根據保持的平板9、12的形狀或大小適當組合地配置，并且，也可設置第三保持部件15來補充第一及第二保持部件13、14無法保持的部分。
符號說明1保持體 2第一保持部件 21支柱 22、23按壓彈簧24球面軸承 25真空吸附槽 26圓錐孔 27球3第二保持部件 31、32支柱 33按壓彈簧34球面軸承 35V形槽 36球 37真空吸附槽 38球39圓錐孔 40軸 41套筒4載臺基座 5開口6掩模 7第三保持部件 71、72、73按壓彈簧8第四保持部件 81、82、83按壓彈簧 9平板10第一保持部件 11第二保持部件 12平板13第一保持部件 14第二保持部件 15第三保持部件
權利要求
1.一種保持體，由保持平板的多個棒狀保持部件構成，其特征為上述保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，在偏轉、轉動及起伏移動被允許的狀態(tài)下，在保持體的基座的1處被支持；第二保持部件，在可進行轉動與在第二保持部件延伸方向膨脹的狀態(tài)下，起伏及偏轉被限制地在保持體的基座的2處被支持。
2.一種保持體，由保持平板的多個棒狀保持部件構成，其特征為上述保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，通過保持與球的支承關系，利用支柱在保持體的基座的1處被支持；第二保持部件，通過保持與球的支承關系，利用支柱在保持體的基座的2處被支持，并且在第二保持部件延伸方向膨脹成為可能的狀態(tài)下被支持。
3.如權利要求1或2所述的保持體，其特征為除了上述第一保持部件及上述第二保持部件之外，還具有保持上述平板的棒狀的其他保持部件，該其他保持部件構成為與上述平板相接的部分為平面，并且在保持體的基座上通過彈簧或氣缸支持。
全文摘要
提供一種保持體，可對用于曝光裝置等的大型掩?；蚱矫骁R等平板進行防止自重變形的保持。該保持體由保持平板(6)的多個棒狀保持部件構成，其特征為，上述保持部件構成為與平板(6)相接的部分為平面，并且上述保持部件包括第一保持部件(2)，在偏轉、轉動及起伏移動被允許的狀態(tài)下，相對于保持體的基座(4)在1處被支持；第二保持部件(3)，在可進行轉動與在第二保持部件延伸方向膨脹的狀態(tài)下，起伏及偏轉被限制，并相對于保持體的基座(4)在2處被支持。
文檔編號H01L21/00GK101025572SQ200710005750
公開日2007年8月29日 申請日期2007年2月13日 優(yōu)先權日2006年2月17日
發(fā)明者田中米太 申請人:優(yōu)志旺電機株式會社