專利名稱:一種導(dǎo)電漿料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種導(dǎo)電漿料,更具體地說,是涉及一種防止金屬濺射的導(dǎo)電漿料。
但是,當(dāng)片式元件通過表面貼裝焊接到電路板時,外部導(dǎo)體電極上的錫金屬層或錫、鉛合金層會在高溫下再次熔化,與此同時,外部導(dǎo)體電極內(nèi)部結(jié)構(gòu)存在較多孔隙,在電鍍過程中會殘留一定的水汽;當(dāng)受熱超過200℃后,這些水汽會暴沸、膨脹,像噴管一樣向外噴發(fā),從而導(dǎo)致熔融金屬的濺射到電路板四周,引起鄰近電子電路的短路。
針對上述問題,美國專利US6198618公開了一種導(dǎo)電漿料,其特點(diǎn)是在導(dǎo)電漿料中直接添加SiO2粉。由于SiO2粉粒徑過小,從而造成SiO2在導(dǎo)電漿料的分散極為困難,操作難度大,實(shí)際效果欠佳。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對上述不足,提供一種操作簡易的防止金屬濺射的導(dǎo)電漿料。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的所述導(dǎo)電漿料的組分與重量百分為金屬粉75~80%、乙基纖維素松油醇或松節(jié)油溶液11~19%、玻璃粉1~5%和有機(jī)硅化合物1~5%。
所述金屬粉為銅、銀。
所述玻璃粉為硼硅酸鋅、硼硅酸鉛。
所述有機(jī)硅化合物為原硅酸四乙酯、硅酸甲酯。
本發(fā)明的特點(diǎn)是添加的有機(jī)硅化合物能極好地分散于導(dǎo)電漿料中,在高溫?zé)Y(jié)過程中分解成氧化硅,并均勻地分散開。這些氧化硅小顆粒填充了外部導(dǎo)體電極內(nèi)部結(jié)構(gòu)中的孔隙,從而避免了水份進(jìn)入孔隙中,在焊接過程中防止了熔融金屬濺射,而且有機(jī)硅化合物能調(diào)節(jié)導(dǎo)電漿料的粘度,操作簡便,降低成本。有機(jī)硅化合物應(yīng)在總重量的1~5%范圍內(nèi)。當(dāng)含量低于1%時,高溫分解的SiO2太少,難以充分填充外電極內(nèi)部結(jié)構(gòu)中的孔隙,起不到阻止水分進(jìn)入孔隙的作用,因此也就不能防止熔融金屬的濺射;當(dāng)含量高于5%時,導(dǎo)電漿料的粘度難以控制,而且由于分解的SiO2過多,會導(dǎo)致電鍍過程中鎳層難以鍍上或鍍不到預(yù)期的厚度。
本發(fā)明可用于片式多層陶瓷電容器、片式多層陶瓷電感器、片式多層壓敏電阻器、片式多層熱敏電阻器以及類似于上述所需的元件。
片式多層陶瓷電容器采用鎳金屬作為內(nèi)電極,瓷體主要成份為鈦酸鋇。采用傳統(tǒng)的流延成型、印刷、疊層、切割、燒結(jié)、倒角等工藝制備完成,然后在封端機(jī)上分別涂敷這六種導(dǎo)電漿料,在180~250℃溫度下烘烤,排出有機(jī)揮發(fā)物,在800~900℃溫度下燒結(jié)約10分鐘,從而形成外部導(dǎo)電電極端頭,最后在電鍍線上先電鍍上一層鎳,再電鍍上一層錫。
從六種導(dǎo)電漿料制備的片式多層陶瓷電容器中分別取1000粒,240℃進(jìn)行表面貼裝試驗(yàn)。從表1中可以看出,當(dāng)有機(jī)硅化合物含量低于1%時,導(dǎo)致金屬發(fā)生濺射的片式多層陶瓷電容器約占總數(shù)的18/1000,當(dāng)有機(jī)硅化合物含量高于5%時,導(dǎo)致金屬發(fā)生濺射的片式多層陶瓷電容器約占總數(shù)的13~17%。依此為實(shí)施例1~6,見表1。
表1
權(quán)利要求
1.一種導(dǎo)電漿料,其特征在于由以下重量百分的組分組成金屬粉75~80、乙基纖維素松油醇或松節(jié)油溶液11~19、玻璃粉1~5和有機(jī)硅化合物1~5。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電漿料,其特征在于所述金屬粉為銅、銀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電漿料,其特征在于所述玻璃粉為硼硅酸鋅、硼硅酸鉛。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電漿料,其特征在于所述有機(jī)硅化合物為原硅酸四乙酯、硅酸甲酯。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種導(dǎo)電漿料。由以下重量百分的組分組成金屬粉75~80、乙基纖維素松油醇或松節(jié)油溶液11~19、玻璃粉1~5和有機(jī)硅化合物1~5。本發(fā)明提供了一種操作簡易的防止金屬濺射的導(dǎo)電漿料。該導(dǎo)電漿料可用于片式多層陶瓷電容器、片式多層陶瓷電感器、片式多層壓敏電阻器、片式多層熱敏電阻器以及類似于上述所需的元件。
文檔編號H01B1/02GK1400610SQ0213463
公開日2003年3月5日 申請日期2002年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月2日
發(fā)明者周少榮, 陳錦清, 王建明 申請人:廣東風(fēng)華高新科技集團(tuán)有限公司