專利名稱：垂直記錄磁頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種垂直記錄磁頭，包括軟磁材料磁極和由兩塊保護(hù)塊組成的主體。保護(hù)塊有一個(gè)與磁性記錄介質(zhì)相配合的接觸面，磁極被包圍在兩保護(hù)塊之間，并且向上延伸到接觸面。兩保護(hù)塊中至少一塊有一個(gè)磁性部分和非磁性部分之間的交界面，非磁性材料部分從該交界面向上延伸到接觸面。在交界面上，磁性部分有一個(gè)繞線孔，至少有一圈線穿繞該孔。這種類型的磁頭已由英國(guó)專利申請(qǐng)2126408號(hào)所公知(本發(fā)明參考本專利)。
在用短波長(zhǎng)進(jìn)行磁記錄的技術(shù)中，使用垂直記錄方式是眾所周知的。就是說垂直記錄比縱向記錄更為優(yōu)越，垂直記錄中，記錄介質(zhì)的磁性涂層是在垂直于記錄介質(zhì)運(yùn)動(dòng)方向且垂直于介質(zhì)表面方向上被磁化的。縱向記錄是在記錄介質(zhì)運(yùn)動(dòng)方向上磁化的。對(duì)上述結(jié)果的一種解釋是縱向記錄時(shí)，波長(zhǎng)越短，記錄介質(zhì)磁性涂層中的消磁場(chǎng)就越大。而垂直記錄時(shí)則相反，波長(zhǎng)越短，消磁場(chǎng)越小。記錄介質(zhì)可以是帶形的，在其上涂復(fù)軟磁涂層和記錄涂層而形成。
在垂直記錄時(shí)，重要的是使來自磁頭的磁場(chǎng)主分量盡可能地與磁記錄介質(zhì)相垂直。這可以用上述英國(guó)專利申請(qǐng)中所公開的磁頭來達(dá)到，其中磁極是薄膜型，并被圍在兩塊保護(hù)塊之間，同保護(hù)塊一起構(gòu)成磁頭整體，每個(gè)保護(hù)塊都由磁性部分和非磁性部分組成。
這種公知的磁頭的缺點(diǎn)是在使用之中，磁極側(cè)面的磁場(chǎng)形成雜散磁通，因而效率不高。
本發(fā)明的任務(wù)是改進(jìn)上述的磁頭，使之能達(dá)到高效率。
為此，本發(fā)明的磁頭的特征是在磁極和上述非磁性部分之間夾有超導(dǎo)材料。
所謂超導(dǎo)材料可以理解為處于超導(dǎo)狀態(tài)，并呈現(xiàn)出完全或基本上完全的邁斯納效應(yīng)的材料。實(shí)踐中，這些材料最好具有相當(dāng)高的臨界溫度，例如臨界溫度高于在常壓下氮的液化溫度。適用的材料是由下列元素的化合物組成的陶瓷材料，例如鑭、鋇、銅和氧，如La1-XBaXCuOX其中X為0.15～0.6;鑭、鍶、銅和氧，如La2-XSrXCuO4其中X為0.15～0.2;釔、鋇、銅和氧，如YBa2Cu3O7-d其中d為0.0～1.0，或者Y0.4Ba0.6Cu1.0O3.0;也可以是釔、鋇、鍶、銅和氧，如YBa2-XSrXCu3O8;其中一部分元素可以部分地被代替，如用氟代替氧，用鈣代替鍶。
邁斯納效應(yīng)可以防止在上述與超導(dǎo)材料層相對(duì)的磁極側(cè)面上形成磁力線，當(dāng)然，磁極最好用薄膜型的，其兩側(cè)面可涂復(fù)上超導(dǎo)材料層。本發(fā)明磁頭的優(yōu)點(diǎn)是，可以最大限度地避免在保護(hù)塊中產(chǎn)生雜散磁通，這就使磁極頂部形成高的磁通密度，從而產(chǎn)生高效率。
一個(gè)能更進(jìn)一步阻止磁頭中出現(xiàn)雜散磁通的優(yōu)選實(shí)施例，其特征是在界面區(qū)域，在磁極和繞線孔之間也延伸有超導(dǎo)材料涂層。通過在繞線孔中涂復(fù)超導(dǎo)材料，能更進(jìn)一步減少磁頭的損耗磁通。
應(yīng)注意到，西德專利DE-A1522971描述了一種具有傾斜隙縫的錄音磁頭，它可以增大磁帶錄音的動(dòng)態(tài)范圍，并能提高信噪比。其中錄音磁頭局部地采用抗磁材料，以增強(qiáng)隙縫處的磁力線，并避免在隙縫處產(chǎn)生太大的雜散磁場(chǎng)。然而，DE-A1522971的圖示的并按照其所述的方法得到的磁頭，其形狀和結(jié)構(gòu)僅在雜散磁通已經(jīng)比較小的位置上能抑制雜散磁通，在這些位置上，對(duì)磁頭的靈敏度并無多大影響。因此，就所示磁頭的效率來說，用不用抗磁材料并無多大區(qū)別。圖中所示磁頭的隙縫，其長(zhǎng)度由所用的抗磁材料部分來限定，大于小隙縫的高度，且是不變的。這就意味著，在工作期間，由于磁頭的磁帶接觸面的磨損，隙縫長(zhǎng)度將迅速改變，因而縮短了磁頭的壽命。
下面將參照附圖，通過實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。其中

圖1是本發(fā)明磁頭的一個(gè)實(shí)施例的立體透視圖。
圖2是圖1所示磁頭的截面示意圖。
圖中所示磁頭用來和磁記錄介質(zhì)相配合，例如同磁帶配合，磁帶能相對(duì)于磁頭移動(dòng)，磁帶中記錄介質(zhì)的磁性涂層在垂直于記錄介質(zhì)的運(yùn)動(dòng)方向且垂直于介質(zhì)表面方向上被磁化。
磁頭包括磁極1和保護(hù)塊3和5，磁極包圍在其間。磁極是軟磁材料薄膜，例如鐵-鎳合金(坡莫合金);鐵、硅、鋁合金(鐵硅鋁磁性合金)或非晶質(zhì)磁性合金等薄膜。這些薄膜是用陰極濺射、真空沉積或離子涂復(fù)等工藝，加工在保護(hù)塊上。保護(hù)塊3和5用粘結(jié)層(圖中未示)粘結(jié)在一起，粘結(jié)層可以是粘結(jié)劑，低熔點(diǎn)玻璃或者金屬焊劑，兩塊保護(hù)塊分別有磁性部分3A和5A以及非磁性部分3B和5B。
磁性部分3A和5A最好用導(dǎo)磁率高的磁性材料制成，如錳鋅鐵氧體。3B和5B是非磁性的，可以用非磁性鐵氧體、石英玻璃或適當(dāng)?shù)奶沾刹牧现瞥伞?br> 磁性和非磁性部分3A、5A和3B、5B構(gòu)成緊靠繞線孔9和11的交界面7，繞線孔9和11位于磁性部分3A和5A上。磁頭還包括繞有W匝的多匝線圈，此線圈經(jīng)由孔9和11環(huán)繞磁極1。為沿磁極1導(dǎo)引磁帶，磁頭有一個(gè)接觸面S，該接觸面大致在中間處被被磁極1的頂部1A斷開。
為提高效率，本發(fā)明磁頭在位于非磁性部分3B和5B之間的磁極1的兩邊，涂復(fù)有超導(dǎo)材料層13，如YBa2Cu2O7-d。在磁極1和繞線孔9、11之間的界面7上也涂有同樣的超導(dǎo)材料層15，而且在保護(hù)塊3和5的每個(gè)繞線孔的壁上也分別涂有上述超導(dǎo)材料層17。
超導(dǎo)材料層13、15和17可用真空濺射，蒸涂等工藝加工完成。
當(dāng)然，本發(fā)明不僅限于所示的實(shí)施例，各種可能的變形實(shí)施例也都在本發(fā)明的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種垂直記錄磁頭，包括軟磁材料磁極和由兩塊保護(hù)塊組成的主體，保護(hù)塊有一個(gè)同磁性記錄介質(zhì)相配合的接觸面，磁極被包圍在兩保護(hù)塊之間，并向上延伸到接觸面，兩保護(hù)塊中至少一塊有磁性部分和非磁性部分的交界面，非磁性部分由交界面向上延伸到接觸面，在磁性部分的交界面上有一個(gè)繞線孔，經(jīng)繞線孔至少繞有一圈線，其特征是在磁極和所述的非磁性部分之間有超導(dǎo)材料層。
2.按照權(quán)利要求1所述的磁頭，其特征在于，交界面區(qū)域上還有另一個(gè)延伸于磁極和繞線孔之間的超導(dǎo)材料層。
3.按照權(quán)利要求2所述的磁頭，其特征在于，另一超導(dǎo)材料層延伸入繞線孔。
全文摘要
垂直記錄磁頭包括軟磁材料磁極1，磁極被圍在兩保護(hù)塊之間，終止在接觸面S上。保護(hù)塊是由磁性部分(3A，5A)和非磁性部分(3B，5B)組成，在磁性部分有繞線孔(9，11)，環(huán)繞磁極1繞有W匝線圈。為提高效率，本發(fā)明的磁頭加有超導(dǎo)材料層13，或許還加有超導(dǎo)材料層15。
文檔編號(hào)G11B5/11GK1030659SQ88104819
公開日1989年1月25日 申請(qǐng)日期1988年7月12日 優(yōu)先權(quán)日1987年7月15日
發(fā)明者維克托·齊爾倫, 雅各布斯·約瑟夫斯·瑪麗亞·魯伊葛羅克 申請(qǐng)人:菲利浦光燈制造公司