曝光裝置、記錄介質(zhì)、記錄裝置及再現(xiàn)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及記錄介質(zhì)。所述記錄介質(zhì)包括：簡單磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成；及有溝磁道，所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。所述簡單磁道和所述有溝磁道以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置。
【專利說明】曝光裝置、記錄介質(zhì)、記錄裝置及再現(xiàn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于執(zhí)行母盤(master disc)的曝光操作的曝光裝置，并涉及記錄介質(zhì)，其中母盤用于制造光盤記錄介質(zhì)。而且，本發(fā)明還涉及用于在包括記錄層的可記錄型記錄介質(zhì)上執(zhí)行記錄操作的記錄裝置，并涉及用于執(zhí)行記錄介質(zhì)的再現(xiàn)(reproduction)操作的再現(xiàn)裝置，其中在記錄層中，允許響應(yīng)于激光照射來執(zhí)行標(biāo)記記錄。
[0002]引用列表
[0003]專利文獻(xiàn)
[0004]專利文獻(xiàn)1:日本未審查專利申請2007-226965
[0005]專利文獻(xiàn)2:日本未審查專利申請2002-123982
【背景技術(shù)】
[0006]對于通過光的照射來執(zhí)行信號(hào)的記錄操作或再現(xiàn)操作的光學(xué)記錄介質(zhì)，例如廣泛地使用了諸如CD (致密盤),DVD (數(shù)字化通用磁盤)和BD (藍(lán)光光盤:注冊商標(biāo))等所謂的光盤記錄介質(zhì)(在下文中，還可被簡稱為“光盤”)。
[0007]通過提高光盤的信息記錄密度實(shí)現(xiàn)了光盤的記錄容量的增加。為提高信息記錄密度，采取了在徑向上減小作為凹坑線(pitline)或標(biāo)記線的磁道的形成間距的方法，即，提高記錄密度的方法。而且，還采取了通過減小凹坑或標(biāo)記的尺寸來在線方向(與徑向正交的方向)上提高記錄密度的方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]然而，期望考慮到在為提高信息記錄密度而減小磁道間距的方法中存在著空間分辨率的限制。
[0009]例如，在BD的情況下，用于記錄和再現(xiàn)操作的光學(xué)條件為:記錄-再現(xiàn)波長λ為約405nm ；以及物鏡的數(shù)值孔徑NA為約0.85。然而，當(dāng)采取作為現(xiàn)有技術(shù)的跟蹤誤差檢測法(tracking error detection method)時(shí)，在磁道間距減小至λ/2ΝΑ以下(在BD的情況下約0.238 μ m以下)時(shí)，不能夠獲得跟蹤誤差信號(hào)的振幅。因此，很難檢測到跟蹤誤差。換句話說，不能夠執(zhí)行跟蹤伺服操作。因此，以高密度記錄的信息完全不能夠得到再現(xiàn)。
[0010]在此情況下，上述“ λ/2ΝΑ”是理論值?？紤]到諸如光學(xué)噪音等實(shí)際劣化因素，允許適當(dāng)?shù)貦z測跟蹤誤差的磁道間距界限值變大。例如，在BD的情況下，磁道間距的界限值為約 0.27 μ m。
[0011]在采取作為現(xiàn)有技術(shù)的跟蹤誤差檢測法的這類情況下，由于光學(xué)界限值的存在而難以在超出界限值的情況下減小磁道。換句話說，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)中的方法，在通過減小磁道間距來提高信息記錄密度時(shí)存在著限制，且進(jìn)一步增大記錄容量是極其困難的。
[0012]因此，期望能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作，從而進(jìn)一步提高信息記錄密度。
[0013]為了解決上述問題，以下列方式配置根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的曝光裝置。[0014]具體地，所述曝光裝置包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，以用于驅(qū)動(dòng)母盤以使所述母盤旋轉(zhuǎn)。而且，所述曝光裝置還包括曝光部，以用于在被所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的所述母盤上執(zhí)行曝光操作，以使簡單凹坑線和有溝凹坑線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單凹坑線由布置的凹坑構(gòu)成，且所述有溝凹坑線是通過在凹坑之間插入溝而構(gòu)成的。
[0015]另外，以下列方式配置根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的記錄介質(zhì)。
[0016]具體地，所述記錄介質(zhì)包括:簡單磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成；及有溝磁道，所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。所述簡單磁道和所述有溝磁道以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置。
[0017]此外，以下列方式配置根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的記錄裝置。
[0018]具體地,所述記錄裝置包括記錄部，所述記錄部用于在記錄介質(zhì)的記錄層上執(zhí)行記錄操作，以使簡單標(biāo)記線和有溝標(biāo)記線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單標(biāo)記線由布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝標(biāo)記線是通過在標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。
[0019]此外，以下列方式配置根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的再現(xiàn)裝置。
[0020]具體地，所述再現(xiàn)裝置包括光照射接收部，所述光照射接收部通過物鏡向記錄介質(zhì)照射激光并接收所照射的激光的反射光，所述記錄介質(zhì)包括以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置的簡單磁道和有溝磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。
[0021]而且，所述再現(xiàn)裝置還包括跟蹤誤差信號(hào)生成部，所述跟蹤誤差信號(hào)生成部基于光接收信號(hào)生成跟蹤誤差信號(hào)，所述光接收信號(hào)是根據(jù)由所述光照射接收部接收的所述反射光得到的。
[0022]而且，所述再現(xiàn)裝置還包括位置控制部，所述位置控制部基于所述跟蹤誤差信號(hào)控制所述物鏡在跟蹤方向上的位置，并由此控制所述激光在所述徑向上的位置，所述跟蹤方向是與所述徑向平行的方向。
[0023]而且，所述再現(xiàn)裝置還包括再現(xiàn)部，所述再現(xiàn)部基于所述光接收信號(hào)執(zhí)行來自所述記錄介質(zhì)的記錄信號(hào)的再現(xiàn)操作。
[0024]根據(jù)本發(fā)明的上述實(shí)施例，在所述記錄介質(zhì)中，所述簡單磁道和所述有溝磁道以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，其中所述簡單磁道包括布置的凹坑或布置的標(biāo)記，且所述有溝磁道是通過在凹坑之間或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。
[0025]由于所述溝的形成，在所述有溝磁道中更大地獲得了所述跟蹤誤差信號(hào)的振幅。另一方面，在沒有形成溝的所述簡單磁道中，所述磁道間距被設(shè)定為0.27 μ m以下(超出實(shí)際光學(xué)界限值的間距)。因此，幾乎沒有獲得跟蹤誤差信號(hào)的振幅。
[0026]基于這些方面，根據(jù)本發(fā)明的上述實(shí)施例，可獲得幾乎僅與所述有溝磁道相對應(yīng)的所述跟蹤誤差信號(hào)的振幅。換句話說，可獲得幾乎與在光盤記錄介質(zhì)上僅形成有溝磁道的情況下的跟蹤誤差信號(hào)類似的跟蹤誤差信號(hào)。
[0027]由于能夠以這種方式獲得僅與有溝磁道相對應(yīng)的跟蹤誤差信號(hào)的振幅，所以可穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤伺服操作。換句話說，能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道的情況下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作。
[0028]在此情況下，通過以下列方式執(zhí)行稍后說明的切換來實(shí)現(xiàn)在沒有形成溝的簡單磁道與有溝磁道之間以不同的方式執(zhí)行的跟蹤伺服操作。即，在執(zhí)行以所述簡單磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)，基于通過在所述跟蹤誤差信號(hào)上執(zhí)行極性反轉(zhuǎn)或偏移而獲得的信號(hào)(第一控制信號(hào))來執(zhí)行位置控制。在執(zhí)行以所述有溝磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)，基于在所述跟蹤誤差信號(hào)上沒有執(zhí)行極性反轉(zhuǎn)或偏移的信號(hào)(第二控制信號(hào))來執(zhí)行位置控制。
[0029]如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，能夠在以超出所述光學(xué)界限值的間距來布置磁道的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作。于是，因此，進(jìn)一步提高了信息記錄密度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]圖1圖示了當(dāng)磁道間距從0.32 μ m逐漸地減小至0.27 μ m和0.23 μ m時(shí)觀察到的
SUM信號(hào)和推挽信號(hào)。
[0031]圖2圖示了 O次光和衍射光(激光的+1次光和-1次光)。
[0032]圖3A說明了根據(jù)實(shí)施例的形成在光盤記錄介質(zhì)中的磁道的結(jié)構(gòu)。
[0033]圖3B說明了根據(jù)實(shí)施例的形成在光盤記錄介質(zhì)中的磁道的結(jié)構(gòu)。
[0034]圖4A圖示了在以圖3A所示的布置形成磁道的情況下在磁道間距為0.32 μ m時(shí)各個(gè)磁道與NPP信號(hào)振幅之間的關(guān)系。
[0035]圖4B圖示了在以圖3A所示的布置形成磁道的情況下在磁道間距為0.27 μ m時(shí)各個(gè)磁道與NPP信號(hào)振幅之間的關(guān)系。
[0036]圖5圖示了 NPP信號(hào)振幅與有溝磁道T-g和無溝磁道Τ-s之間的更詳細(xì)的關(guān)系。
[0037]圖6說明了第一實(shí)施例中的光盤記錄介質(zhì)的制造處理。
[0038]圖7圖示了第一實(shí)施例中的曝光裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0039]圖8說明了執(zhí)行有溝磁道的記錄與無溝磁道的記錄之間的切換的方法。
[0040]圖9是示出了第一實(shí)施例中的為實(shí)現(xiàn)切換記錄操作的方法而將要執(zhí)行的具體處理的步驟的流程圖。
[0041]圖10圖示了用于執(zhí)行第一實(shí)施例的光盤記錄介質(zhì)的再現(xiàn)的再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0042]圖1lA示例地圖示了伺服電路的內(nèi)部構(gòu)造。
[0043]圖1lB示例地圖示了伺服電路的內(nèi)部構(gòu)造。
[0044]圖12是示出了為實(shí)現(xiàn)以不同的方式執(zhí)行有溝磁道和無溝磁道的跟蹤伺服操作而將要執(zhí)行的具體處理的步驟的流程圖。
[0045]圖13說明了第二實(shí)施例中的曝光裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例的圖。
[0046]圖14說明了第二實(shí)施例中的再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例的圖。
[0047]圖15是第三實(shí)施例中的作為記錄的目標(biāo)的光盤記錄介質(zhì)的剖面結(jié)構(gòu)圖。
[0048]圖16說明了利用形成在參考表面上的位置引導(dǎo)的位置控制方法的圖。
[0049]圖17是以局部放大的方式圖不了第三實(shí)施例中的光盤記錄介質(zhì)的參考表面的表面的圖(平面圖)。
[0050]圖18說明了在整個(gè)參考表面上形成凹坑的具體方法的圖。
[0051]圖19示意性地圖示了根據(jù)光盤記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)而在參考表面上移動(dòng)的伺服激光的光斑的狀態(tài)與在那時(shí)獲得的SUM信號(hào)、SUM差分信號(hào)和P/P信號(hào)之間的關(guān)系。
[0052]圖20示意性地圖示了從SUM差分信號(hào)生成的時(shí)鐘、基于該時(shí)鐘而生成的各個(gè)選擇器信號(hào)的波形以及形成在參考表面上的各個(gè)凹坑線(中的部分)之間的關(guān)系。
[0053]圖21說明了實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋運(yùn)動(dòng)的具體方法。
[0054]圖22是用于主要說明第三實(shí)施例中的記錄-再現(xiàn)裝置中所包括的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造的圖。
[0055]圖23圖示了第三實(shí)施例的整個(gè)記錄-再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0056]圖24說明了第四實(shí)施例中的第一方法。
[0057]圖25A-25B圖示了通過第一方法執(zhí)行記錄操作時(shí)的狀態(tài)，
[0058]圖26是用于主要說明通過第一方法實(shí)現(xiàn)記錄-再現(xiàn)操作的記錄-再現(xiàn)裝置中所包括的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造。
[0059]圖27圖示了用于通過第一方法實(shí)現(xiàn)記錄-再現(xiàn)操作的整個(gè)記錄-再現(xiàn)裝置的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0060]圖28說明了第四實(shí)施例的第二方法。
[0061]圖29A說明了采用第二方法的具體記錄操作(第一跟蹤伺服控制模式下的記錄)。
[0062]圖29B說明了采用第二方法的具體記錄操作(第一跟蹤伺服控制模式下的記錄)。
[0063]圖30A說明了采用第二方法的具體記錄操作(第二跟蹤伺服控制模式下的記錄)的圖。
[0064]圖30B說明了采用第二方法的具體記錄操作(第二跟蹤伺服控制模式下的記錄)的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0065]下面將對根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例進(jìn)行說明。
[0066]注意，將以下列順序進(jìn)行說明。
[0067]1.實(shí)施例中的跟蹤誤差檢測方法的概述
[0068]1-1.關(guān)于光學(xué)界限值
[0069]1-2.跟蹤誤差檢測方法的概述
[0070]2.第一實(shí)施例(單螺旋曝光操作)
[0071]2-1.盤制造處理
[0072]2-2.曝光裝置的構(gòu)造
[0073]2-3.具體曝光方法
[0074]2-4.再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0075]2-5.跟蹤伺服控制方法
[0076]3.第二實(shí)施例(雙螺旋曝光操作)
[0077]3-1.曝光裝置的構(gòu)造
[0078]3-2.再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0079]4.第三實(shí)施例(用于可記錄型盤的單螺旋記錄)
[0080]4-1.光盤記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)
[0081]4-2.利用參考表面的位置控制方法
[0082]4-3.任意間距螺旋移動(dòng)控制
[0083]4-4.記錄-再現(xiàn)裝置的構(gòu)造[0084]5.第四實(shí)施(消除任意間距螺旋移動(dòng)控制的必要性的方法)
[0085]5-1.第一方法
[0086]5-2.記錄-再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0087]5-3.第二方法
[0088]6.變形例
[0089]1.實(shí)施例中的跟蹤誤差檢測方法的概述
[0090]1-1.關(guān)于光學(xué)界限值
[0091]首先，在對實(shí)施例進(jìn)行說明之前，將對磁道間距的光學(xué)界限值(光學(xué)截止)進(jìn)行說明。
[0092]在下文中，將由在光盤記錄介質(zhì)中布置的凹坑(pit)或標(biāo)記形成的磁道稱為“磁道T”。而且，將磁道T的在徑向上的形成間隔(間距)稱為“磁道間距Tp”。
[0093]注意，在形態(tài)方面，光盤記錄介質(zhì)是泛指用于通過光照射執(zhí)行信號(hào)的記錄或再現(xiàn)的盤狀記錄介質(zhì)的名稱。
[0094]圖1圖示了在磁道間距Tp從0.32 μ m逐漸地減小至0.27 μ m以及減小至0.23 μ m的情況下觀察到的SUM信號(hào)(RF信號(hào)的低范圍成分信號(hào))和推挽信號(hào)P/P。
[0095]注意，此圖圖示了記錄-再現(xiàn)波長λ被設(shè)定為405nm且物鏡的數(shù)值孔徑NA被設(shè)定為0.85(作為與當(dāng)前的BD系統(tǒng)(BD為藍(lán)光光盤:注冊商標(biāo))中的光學(xué)條件類似的光學(xué)條件)的情況下的結(jié)果。
[0096]此外，假定SUM信號(hào)和推挽信號(hào)P/P是在所謂的遍歷(traverse)狀態(tài)(激光光斑在徑向上跨越磁道的狀態(tài))下觀察到的信號(hào)。注意，在下文中，還可將遍歷狀態(tài)下的推挽信號(hào)P/P稱為“NPP信號(hào)”。
[0097]此外，橫軸表示從0°至360°的范圍中的離磁道量(detrack amount)。在附圖中，“G”表示溝(groove)中心位置,且“L”表示岸(land)中心位置。
[0098]首先，通過參照磁道間距Tp為0.32 μ m的情況可以看出，在此情況下的SUM信號(hào)和推挽信號(hào)P/P中均適當(dāng)?shù)赜^察到與在遍歷時(shí)正被跨越的溝/岸相對應(yīng)的信號(hào)調(diào)制?；诖饲闆r下的推挽信號(hào)P/P，應(yīng)當(dāng)理解的是，激光光斑的在徑向上(跟蹤方向:徑向)的位置信息，即跟蹤誤差信號(hào)，是可檢測的。
[0099]另一方面，當(dāng)磁道間距Tp減小至0.27 μ m以及減小至0.23 μ m時(shí)，調(diào)制成分在SUM信號(hào)和推挽信號(hào)P/P中均減小?？梢钥闯?，在0.23 μ m的情況下沒有觀察到調(diào)制成分。
[0100]0.23 μ m的磁道間距Tp是與λ = 405nm且NA = 0.85的光學(xué)條件下的光學(xué)截止(optical cut-off)相比更短的間距。
[0101]將參考圖2對光學(xué)截止進(jìn)行說明。
[0102]圖2圖示了激光的O次光和衍射光(+1次光和-1次光)。在附圖中衍射光的偏移量被圖示為箭頭SF。
[0103]以如下方式表示在圓的半徑被設(shè)定為“I”的情況下的衍射光的偏移量。
[0104]衍射光的偏移量=λ/(NA.P) = (λ/NA)/ρ。
[0105]注意，“P”是周期結(jié)構(gòu)的周期。周期結(jié)構(gòu)可例如是諸如岸/溝等結(jié)構(gòu)的周期。
[0106]對于進(jìn)入光電探測器的激光(反射光)，0次光與± I次光的重疊部分為調(diào)制成分。[0107]因此，隨著被圖示為陰影部分的重疊部分的面積變大，光電探測器的探測中的亮度與暗度之間的差異也變大。因此，獲得了更大了信號(hào)調(diào)制。
[0108]在設(shè)定半徑為“I”的圓的情況下，當(dāng)衍射光的偏移量為“2”時(shí)，沒有出現(xiàn)重疊部分。因此，不能夠獲得調(diào)制成分。
[0109]換句話說，當(dāng)(λ/ΝΑ)/ρ = 2成立時(shí)，完全沒有獲得調(diào)制信號(hào)。
[0110]在使用BD系統(tǒng)的波長λ和數(shù)值孔徑NA等情況下，周期結(jié)構(gòu)的使偏移量為“2”的周期P被計(jì)算為約0.24 μ m(0.238 μ m)。
[0111]因此，作為與周期結(jié)構(gòu)的周期P相對應(yīng)的磁道間距，與光學(xué)截止相對應(yīng)的間距為約 0.24 μ m。
[0112]下面對上文作出如下總結(jié)。
[0113]當(dāng)周期P≤λ (2ΝΑ)成立時(shí)，沒有獲得調(diào)制信號(hào)。
[0114]當(dāng)周期ρ>λ (2ΝΑ)成立時(shí)，獲得了調(diào)制信號(hào)。
[0115]從上面可以看出，在通過減小磁道間距來增大記錄的密度時(shí)存在著光學(xué)界限。
[0116]這里，如上所推導(dǎo)的約0.24 μ m的界限值僅僅是理論值。在諸如光學(xué)噪音等各種劣化因素的影響下，實(shí)際界限值是大于0.24 μ m的值。
[0117]具體地，在BD 系統(tǒng)的情況下，磁道間距Tp的真正允許適當(dāng)?shù)母櫵欧僮鞯膶?shí)際光學(xué)界限值，即界限值，為約0.27 μ m。
[0118]1-2.跟蹤誤差檢測方法的概述
[0119]在如上所述地通過減小磁道間距來增大記錄密度時(shí)，約0.27 μ m的磁道間距Tp為實(shí)際界限。
[0120]在本實(shí)施例中，即使在通過使用超出這類實(shí)際界限值的磁道間距Tp來進(jìn)一步增加記錄的密度的情況下，也能夠執(zhí)行適當(dāng)?shù)母櫵欧僮?。與過去的方式相比，本實(shí)施例旨在以這種方式極大地增大記錄容量。
[0121]作為對解決上述問題的嚴(yán)謹(jǐn)考慮的結(jié)果，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了在光盤記錄介質(zhì)中以圖3A和3B所示的狀態(tài)下形成磁道T的方法。
[0122]圖3A和3B說明了本發(fā)明的在光盤記錄介質(zhì)中形成的磁道T的結(jié)構(gòu)的圖。圖3A示出了平面圖，且圖3B示出了剖面圖。
[0123]如圖3A所示，在本實(shí)施例中，作為通過在線方向上布置凹坑P而形成的磁道T，有溝磁道T-g和無溝磁道T-s在徑向上交替地布置。在有溝磁道T-g中，在凹坑P之間插入溝G。在無溝磁道T-s中，在凹坑P之間沒有插入溝G。
[0124]在此情況下，如圖3B所示，有溝磁道T-g中的溝G形成為具有比岸的深度深而比凹坑P的深度淺的深度。
[0125]在本實(shí)施例中，有溝磁道T-g和無溝磁道Τ-s以這種方式交替地布置，且另外，這些磁道T的間距至少減小至如下值，該值等于或小于0.27 μ m的實(shí)際光學(xué)界限值。
[0126]具體地，在本示例的情況下，磁道間距Tp被設(shè)定為約0.22 μ m。
[0127]圖4A和4B圖示了以圖3A所示的布置形成磁道T的情況下的關(guān)系。圖4A圖示了當(dāng)磁道間距Tp被設(shè)定為0.32 μ m時(shí)各個(gè)磁道T與NPP信號(hào)振幅之間的關(guān)系。圖4B圖示了當(dāng)磁道間距Tp被設(shè)定為0.27 μ m以下時(shí)各個(gè)磁道T與NPP信號(hào)振幅之間的關(guān)系。
[0128]注意，與BD系統(tǒng)的那些光學(xué)條件類似，在這些附圖中的光學(xué)條件也是λ = 405nm且 NA = 0.85。
[0129]首先，在圖4A所示的0.32 μ m的磁道間距Tp的情況下，可以確認(rèn)的是，獲得了與有溝磁道T-g和無溝磁道T-s這二者相一致的振幅來作為NPP信號(hào)。
[0130]在此情況下，由于溝G的插入，所獲得的推挽信號(hào)P/P的振幅在有溝磁道T-g中比在無溝磁道T-s中更大。
[0131]雖然沒有圖示，但是當(dāng)磁道間距Tp從0.32 μ m( S卩，當(dāng)前BD系統(tǒng)中的磁道間距Tp)逐漸地減小時(shí)，作為NPP信號(hào)，與無溝磁道T-s相對應(yīng)的部分的振幅逐漸地衰減。
[0132]此外，如圖4B所示，作為NPP信號(hào)，當(dāng)磁道間距Tp被設(shè)定為0.27 μ m以下(其超出實(shí)際光學(xué)界限值)時(shí)，很難獲得與無溝磁道T-s相對應(yīng)的部分的振幅，且?guī)缀鮾H在與有溝磁道T-g相對應(yīng)的部分中獲得振幅。因此，這意味著獲得了幾乎與僅在光盤記錄介質(zhì)上形成有溝磁道T-g的情況下的NPP信號(hào)類似的NPP信號(hào)。換句話說，獲得了幾乎與設(shè)定了實(shí)際光盤記錄介質(zhì)上的磁道間距Tp的兩倍的磁道間距的情況下的NPP信號(hào)類似的NPP信號(hào)。
[0133]獲得了僅與如上所述的有溝磁道T-g相一致的跟蹤誤差信號(hào)振幅。因此，能夠穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤伺服操作。具體地，能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的情況下穩(wěn)定地執(zhí)行跟蹤伺服操作。
[0134]然而，在此情況下，僅通過簡單地執(zhí)行基于跟蹤誤差信號(hào)的伺服控制，不能夠在有溝磁道T-g與無溝磁道T-s之間以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。具體地，既不能夠適當(dāng)?shù)刈x取有溝磁道T-g的記錄信息，也不能夠適當(dāng)?shù)刈x取無溝磁道T-s的記錄信息。
[0135]按照下列方法實(shí)現(xiàn)在無溝磁道Τ-s與有溝磁道T-g之間以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。
[0136]具體地，在以無溝磁道Τ-s為目標(biāo)執(zhí)行伺服控制的時(shí)候與在以有溝磁道T-g為目標(biāo)執(zhí)行伺服控制的時(shí)候，在基于第一控制信號(hào)的伺服控制與基于第二控制信號(hào)的伺服控制之間執(zhí)行切換，其中第一控制信號(hào)是通過反轉(zhuǎn)跟蹤誤差信號(hào)的極性而獲得的信號(hào)，而第二控制信號(hào)是沒有反轉(zhuǎn)跟蹤誤差信號(hào)時(shí)的信號(hào)。
[0137]圖5圖示了 NPP信號(hào)振幅與有溝磁道T-g和無溝磁道T-s之間的更詳細(xì)的關(guān)系。
[0138]注意，在附圖中，為便于說明，將紙面的右側(cè)設(shè)定為內(nèi)側(cè)，且將紙面的左側(cè)設(shè)定為外側(cè)。
[0139]如此圖所示，在激光的束斑位于有溝磁道T-g的中間的情況下和在激光的束斑位于無溝磁道T-s的中間的情況下，NPP信號(hào)的振幅均變成零。
[0140]注意，例如，關(guān)于有溝磁道T-g，當(dāng)束斑從內(nèi)側(cè)向外側(cè)遍歷時(shí)，NPP信號(hào)的值從負(fù)極性變化成正極性。另一方面，關(guān)于無溝磁道T-s當(dāng)束斑以類似的方式從內(nèi)側(cè)向外側(cè)遍歷時(shí)，NPP信號(hào)的值從正極性變化成負(fù)極性。
[0141]通過考慮到此關(guān)系能夠看出，當(dāng)以沒有形成溝G的無溝磁道Τ-s為目標(biāo)來執(zhí)行跟蹤伺服操作時(shí)，基于作為跟蹤誤差信號(hào)的具有反轉(zhuǎn)極性的信號(hào)來執(zhí)行跟蹤伺服控制。
[0142]而且，不言而喻，在此情況下，能夠基于跟蹤信號(hào)本身(具體地，沒有執(zhí)行上述極性反轉(zhuǎn)的跟蹤誤差信號(hào))來執(zhí)行以形成有溝G的有溝磁道T-g為目標(biāo)的跟蹤伺服控制。
[0143]這里，上面的說明參考了如下示例，在該示例中，通過使跟蹤誤差信號(hào)的極性反轉(zhuǎn)而獲得的信號(hào)用于在有溝磁道T-g與無溝磁道T-s之間以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。然而，不言而喻，還可以通過使用如下信號(hào)來以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作，該信號(hào)是通過將與磁道間距Tp相對應(yīng)的偏移值(具體地，與有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的形成間隔相對應(yīng)的偏移值)提供至跟蹤誤差信號(hào)而獲得的。
[0144]具體地，基于通過將上述偏移值添加至跟蹤誤差信號(hào)而獲得的信號(hào)來執(zhí)行以無溝磁道T-s為目標(biāo)的跟蹤伺服控制?；诟櫿`差信號(hào)本身(具體地，沒有添加上述偏移值的跟蹤誤差信號(hào))來執(zhí)行以有溝磁道T-g為目標(biāo)的跟蹤伺服控制。
[0145]2.第一實(shí)施例(單螺旋曝光操作)
[0146]基于上述假定，下面將對根據(jù)本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例進(jìn)行說明。
[0147]這里,首先,將對各個(gè)實(shí)施例進(jìn)行概括。對于只讀存儲(chǔ)器(Read Only Memory, ROM)型的只再現(xiàn)型光盤記錄介質(zhì)，第一實(shí)施例和第二實(shí)施例均提出了用于制造具有與上述圖3A和3B所示的磁道結(jié)構(gòu)一樣的磁道結(jié)構(gòu)的記錄介質(zhì)的方法。
[0148]此外，對于可記錄型光盤記錄介質(zhì)，第三實(shí)施例和第四實(shí)施例均提出了用于執(zhí)行記錄以實(shí)現(xiàn)如圖3A和3B所示的磁道結(jié)構(gòu)的方法。
[0149]第一實(shí)施例在制造具有如圖3A和3B所示的磁道結(jié)構(gòu)的ROM盤時(shí)以單螺旋方式執(zhí)行曝光操作。
[0150]2-1.光盤制造處理
[0151]首先，參考圖6，將對第一實(shí)施例中的光盤記錄介質(zhì)(在下文中，被稱為光盤Dscl)的制造處理進(jìn)行說明。
[0152]在圖6中，將制造光盤Dscl的處理大致分為母盤制造處理、記錄處理(曝光處理)、顯影處理、模具(壓模)制作處理以及記錄介質(zhì)生成處理。
[0153]圖6的部分(a)示出了用于構(gòu)成光學(xué)母盤(在下文中，還被簡稱為“母盤”)的母盤形成基板100。首先，通過諸如濺射法等方法在母盤形成基板100上均勻地形成由無機(jī)光刻膠材料制成的無機(jī)光刻膠層(photoresist layer) 101 (光刻膠層形成處理，圖6的部分(b))。因此，首先形成了無機(jī)光刻膠母盤102。
[0154]在此示例中，對于用于制造母盤的母盤制造處理，執(zhí)行使用無機(jī)光刻膠材料的相變母盤制造(Phase Transition Mastering, PTM)方法的母盤制造。
[0155]在此情況下，對于用于光刻膠層101的材料，使用了過渡金屬的不完全氧化物。對于具體過渡金屬，例如，可以包括T1、V、Cr、Mn、Fe、Nb、Cu、N1、Co、Mo、Ta、W、Zr、Ru和Ag等。
[0156]注意，對于光刻膠層101的具體材料，在沒有特殊限制的情況下，能夠使用任何實(shí)現(xiàn)所謂的熱感式記錄(thermal recording)的材料(能夠通過伴隨激光照射的熱反應(yīng)進(jìn)行感光的任何材料)。
[0157]這里，為了提高無機(jī)光刻膠層101的曝光靈敏度，可在基板100與光刻膠層101之間形成預(yù)定的中間層99。圖6的部分(b)示出了這種狀態(tài)。無論如何，光刻膠層101在基板100的上層中形成為暴露于外部就足夠了，以便在曝光操作時(shí)響應(yīng)激光照射而被曝光。
[0158]而且，在此情況下，可例如將硅片基板用作母盤形成基板100，且通過濺射來形成上述光刻膠層101。在此情況下，將DC或RF濺射用作膜形成方法。
[0159]接下來,在光刻膠層101上執(zhí)行與信號(hào)模式相對應(yīng)的選擇性曝光操作，且使光刻膠層101曝光(光刻膠層曝光處理，圖6的部分(C))。
[0160]注意，此曝光處理(記錄處理)是通過使用稍后說明的母盤記錄裝置I來執(zhí)行的。
[0161]此外，通過對光刻膠層101進(jìn)行顯影來形成母盤103(在下文中，還被稱為“顯影母盤103”)，其中在母盤103上形成有預(yù)定的凹凸圖案(光刻膠層顯影處理，圖6的部分(d))。在此光刻膠層顯影處理中，對于具體的顯影方法，可以涉及諸如使用浸沒的浸潰法以及將化學(xué)溶液涂敷至被旋轉(zhuǎn)器旋轉(zhuǎn)的母盤102的方法等方法。
[0162]對于顯影劑(developer),可例如使用諸如四甲基氫氧化銨(tetramethylammonium hydroxide, TMAH)等有機(jī)堿性顯影劑、諸如氫氧化鉀(KOH)和氫氧化鈉(NaOH)等無機(jī)堿性顯影劑以及磷酸鹽基顯影劑等。
[0163]隨后，用水清洗以上述方式形成的顯影母盤103。其后，在電鑄槽中制造金屬母盤(電鑄處理，圖6的部分(e))。此外，在此電鑄之后，從金屬母盤剝離顯影母盤103。因此，獲得了用于制模的壓模104，其中顯影母盤103的凹凸圖案被轉(zhuǎn)印到壓模104上(圖6的部分(f))。在此情況下，將Ni用作上述金屬母盤(壓模104)的材料。
[0164]這里，在執(zhí)行圖6的部分(e)中的電鑄處理之前，可以通過在顯影母盤103的表面上執(zhí)行脫模處理來提高脫模特性。必要時(shí)可以執(zhí)行此處理。
[0165]可例如通過在顯影母盤103上執(zhí)行下面所說明的任何處理來提高脫模特性。
[0166]I)將顯影母盤103浸入在被加熱至40°C?60°C的堿性溶液中幾分鐘。
[0167]2)在將顯影母盤103浸入在被加熱至40°C?60°C的電解堿性溶液中幾分鐘的同時(shí)以電解的方式使顯影母盤103氧化。
[0168]3)通過RIE等來形成氧化膜。
[0169]4)通過使用成膜裝置來形成金屬氧化膜。
[0170]或者，還可通過預(yù)先選擇如下材料作為無機(jī)光刻膠材料來提高脫模特性，該材料具有易于從金屬母盤脫模的氧成分比例的成分。
[0171]注意，在制造壓模104之后，將用水清洗之后的顯影母盤103儲(chǔ)存在干燥狀態(tài)下。因此，必要時(shí)重復(fù)制造期望數(shù)量的壓模104。
[0172]隨后，通過使用壓模104并采用注射成型法(injection molding method)形成由熱塑性樹脂(諸如聚碳酸酯等)制成的樹脂盤基板105(圖6的部分(g))。
[0173]其后，剝離壓模104(圖6的部分(h))，且在樹脂盤基板105的凹凸表面上形成由諸如Ag合金等材料制成的反射膜106(圖6的部分(i))和具有約0.1mm的厚度的保護(hù)膜107。因此，形成了光盤Dscl(圖6的部分(j))。因此，獲得了通過凹坑的形成圖案來存儲(chǔ)信息的光盤記錄介質(zhì)。
[0174]2-2.曝光裝置的構(gòu)造
[0175]圖7示出了母盤記錄裝置I的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0176]在圖6的部分(C)中所示的母盤制造處理中，本發(fā)明的母盤記錄裝置I通過將激光照射到記錄之前的其上形成有無機(jī)光刻膠層101的母盤102來執(zhí)行熱記錄操作，由此來形成記錄標(biāo)記。
[0177]在圖7中，母盤記錄裝置I包括由虛線示出的作為拾取頭10的構(gòu)造。在拾取頭10中，作為半導(dǎo)體激光器的激光源11的波長是根據(jù)將要制造的光盤記錄介質(zhì)的類型設(shè)定的。在本示例的情況下，假定設(shè)定了對應(yīng)于BD的約405nm的波長。
[0178]通過準(zhǔn)直透鏡12使從激光源11發(fā)出的激光變成平行光。其后，平行激光的光斑形狀可通過變形棱鏡(anamorphic prism) 13變形為例如圓形,且然后被引導(dǎo)至偏振分束器(PBS)14。[0179]已穿過偏振分束器14的偏振光成分經(jīng)由1/4波長板15和光束擴(kuò)展器16被引導(dǎo)至物鏡17，并被物鏡17會(huì)聚，以照射在無機(jī)光刻膠母盤102上。
[0180]如上所述的經(jīng)由物鏡17照射至母盤102的激光聚焦在母盤102中的無機(jī)光刻膠層101上。無機(jī)光刻膠層101吸收激光束，并由此特別地照射部分周圍的被加熱至高溫的部分被多晶化。
[0181]由于此功能，在無機(jī)光刻膠層101上形成了曝光圖案。
[0182]被偏振分束器14反射的激光照射至監(jiān)控探測器19 (用于激光功率監(jiān)控的光電探測器)。監(jiān)控探測器19根據(jù)所接收的激光的量(光強(qiáng)度)輸出光強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)SM。
[0183]另一方面，照射至無機(jī)光刻膠母盤102的激光的返回光穿過物鏡17、光束擴(kuò)展器16和1/4波長板15,并到達(dá)偏振分束器14。
[0184]這里，以這種方式到達(dá)偏振分束器14的激光返回光穿過1/4波長板15兩次(向外路徑和返回路徑)。因此，此返回光的偏振方向旋轉(zhuǎn)了 90°，且因此返回光被偏振分束器14反射。被偏振分束器14反射的返回光經(jīng)由聚光透鏡20和柱面透鏡21被光電探測器22的光接收表面接收。
[0185]光電探測器22的光接收表面可例如具有被分割成四部分的光接收表面，并被配置成能夠基于像散(astigmatism)來獲得聚焦誤差信號(hào)。
[0186]光電探測器22的每個(gè)光接收表面根據(jù)接收到的光的量輸出電流信號(hào)，并將所輸出的電流信號(hào)提供至反射光計(jì)算電路23。
[0187]反射光計(jì)算電路23將從四分光接收表面中的每者提供的電流信號(hào)轉(zhuǎn)換成電壓信號(hào)，并執(zhí)行作為像散方法的計(jì)算處理，以生成聚焦誤差信號(hào)FE。
[0188]如附圖所示，聚焦誤差信號(hào)FE被提供至聚焦控制電路24。
[0189]聚焦控制電路24基于聚焦誤差信號(hào)FE生成致動(dòng)器18的伺服驅(qū)動(dòng)信號(hào)FS，其中致動(dòng)器18以使物鏡17在聚焦方向上移動(dòng)的方式保持物鏡17。此外，致動(dòng)器18基于伺服驅(qū)動(dòng)信號(hào)FS在朝向或遠(yuǎn)離無機(jī)光刻膠母盤102的方向上驅(qū)動(dòng)物鏡17。因此，執(zhí)行了聚焦伺服操作。
[0190]無機(jī)光刻膠母盤102被主軸電機(jī)8驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。主軸電機(jī)8受驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)，且其旋轉(zhuǎn)速度由主軸伺服/驅(qū)動(dòng)器5控制。因此，無機(jī)光刻膠母盤102可例如以恒定的線速度旋轉(zhuǎn)。
[0191]另外，在本示例的情況下，主軸電機(jī)8檢測無機(jī)光刻膠母盤102的旋轉(zhuǎn)角(Θ )。由主軸電機(jī)8檢測的旋轉(zhuǎn)角(Θ )的信息被提供至稍后說明的控制器2。
[0192]滑動(dòng)器7由滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)器6驅(qū)動(dòng)?；瑒?dòng)器7使基座作為整體移動(dòng)，其中該基座包括主軸機(jī)構(gòu)，且在該基座上安裝有機(jī)光刻膠母盤102。具體地，處于通過主軸電機(jī)8而旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下的無機(jī)光刻膠母盤102能夠在被滑動(dòng)器7在徑向上移動(dòng)的同時(shí)被上述光學(xué)系統(tǒng)曝光。因此，形成在無機(jī)光刻膠層101中的溝部(凹坑線:磁道T)以螺旋的方式形成。
[0193]通過傳感器9來檢測滑動(dòng)器7的移動(dòng)的位置，即無機(jī)光刻膠母盤102的曝光位置(盤半徑位置:滑動(dòng)器半徑位置)。由傳感器9檢測的位置檢測信息SS被提供至控制器2。
[0194]控制器2可例如由微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成?？刂破?可執(zhí)行母盤記錄裝置I的一般控制。例如，控制器2可執(zhí)行主軸伺服/驅(qū)動(dòng)器5的主軸旋轉(zhuǎn)操作的控制以及滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)器6執(zhí)行的對滑動(dòng)器7的移動(dòng)操作的控制等，并從而控制母盤102上的記錄位置。[0195]另外，特別是在本示例的情況下，控制器2基于由主軸電機(jī)8檢測的旋轉(zhuǎn)角Θ的信息來執(zhí)行稍后說明的記錄控制。
[0196]這里，在本實(shí)施例中，磁道間距Tp被設(shè)定為0.27μ m以下的預(yù)定間距(在本示例中，如上所述的約0.22 μ m)?？刂破?執(zhí)行滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)器6的控制，使得實(shí)現(xiàn)了此預(yù)定間距。
[0197]記錄波形生成部3對輸入數(shù)據(jù)執(zhí)行預(yù)定的記錄調(diào)制編碼處理，以獲得記錄調(diào)制代碼串。記錄波形生成部3還基于控制器2指示的寫入策略設(shè)定來生成與所獲得的記錄調(diào)制代碼串相一致的記錄波形。
[0198]激光器驅(qū)動(dòng)器4輸入由記錄波形生成部3生成的記錄波形(記錄驅(qū)動(dòng)信號(hào))，并驅(qū)動(dòng)拾取頭10中的激光源11。激光器驅(qū)動(dòng)器4將與上述記錄驅(qū)動(dòng)信號(hào)相一致的發(fā)光驅(qū)動(dòng)電流提供至激光源11。
[0199]注意，光強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)SM也從監(jiān)控探測器19被提供至激光器驅(qū)動(dòng)器4。激光器驅(qū)動(dòng)器4還能夠基于通過將此光強(qiáng)度監(jiān)控信號(hào)SM與參考值進(jìn)行比較而獲得的結(jié)果來執(zhí)行激光發(fā)射的控制。
[0200]2-3.具體曝光方法
[0201]這里，如上所述，第一實(shí)施例通過以單螺旋的方式執(zhí)行曝光操作來實(shí)現(xiàn)如圖3A和3B所示的磁道結(jié)構(gòu)。
[0202]在此情況下，為了通過使用從激光源11發(fā)出的一個(gè)激光束來實(shí)現(xiàn)如圖3A所示的有溝磁道T-g與無溝磁道T-s的交替布置，如圖8所示，可以按照某個(gè)旋轉(zhuǎn)角(圖中的旋轉(zhuǎn)角θ E)執(zhí)行有溝磁道T-g的記錄與無溝磁道T-s的記錄之間的切換。
[0203]因此，在第一實(shí)施例中，通過控制器2的控制來執(zhí)行記錄操作的按照旋轉(zhuǎn)角Θ R的切換。
[0204]圖9是示出了為實(shí)現(xiàn)如圖8所示的記錄操作的切換的方法而被執(zhí)行的具體處理的步驟的流程圖。
[0205]注意，例如基于存儲(chǔ)在內(nèi)置ROM中的程序等，由圖7所示的控制器2來執(zhí)行圖9所示的處理。
[0206]在圖9中，在步驟SlOl中，將記錄操作識(shí)別符Fw復(fù)位為O。
[0207]注意，如稍后清楚地說明，記錄操作識(shí)別符Fw變?yōu)橛糜谧R(shí)別當(dāng)前記錄操作是有溝磁道T-g的記錄操作(在下文中，還被成為“有溝記錄操作”)還是無溝磁道Τ-s的記錄操作(還被成為“無溝記錄操作”)的識(shí)別符。在本示例的情況下，F(xiàn) = O表示有溝記錄操作，且F = I表示無溝記錄操作。
[0208]在將識(shí)別符Fw復(fù)位至O之后，在步驟S102中，執(zhí)行開始有溝記錄操作的處理。具體地，將指令提供至記錄波形生成部3，且執(zhí)行控制以基于輸入數(shù)據(jù)以有溝磁道T-g的形式形成凹坑線。
[0209]在此情況下，使用比用于凹坑P的形成部分的功率低的功率來執(zhí)行形成在凹坑P之間的溝G的記錄操作，使得在將形成在凹坑P之間的溝G中獲得上述圖3B所示的深度。
[0210]在開始步驟S102中的有溝記錄操作之后，一直等待，直到通過圖中的步驟S103和S104中的處理而使如下狀態(tài)成立，該狀態(tài)是旋轉(zhuǎn)角Θ = 0R的狀態(tài)或記錄操作結(jié)束的狀態(tài)。
[0211]具體地，在步驟S103中，判定由主軸電機(jī)8檢測的旋轉(zhuǎn)角Θ的值是否變成預(yù)先確定的角θκ。在獲得了否定結(jié)果(其表示旋轉(zhuǎn)角Θ的值被判定為不是θκ)的情況下，處理行進(jìn)到步驟S104，且判定是否到達(dá)記錄操作結(jié)束的狀態(tài)。另外，在步驟S104中，在獲得了否定結(jié)果(其表示沒有到達(dá)記錄操作結(jié)束的狀態(tài))的情況下，處理返回至步驟S103。
[0212]在步驟S103中，在獲得了肯定結(jié)果(其表示旋轉(zhuǎn)角θ = θκ成立)的情況下，處理行進(jìn)到步驟S105，且判定F = O是否成立。
[0213]在步驟S15中，在獲得了肯定結(jié)果(其表示F = O處理)的情況下(具體地，到達(dá)了有溝記錄操作下的狀態(tài))，處理行進(jìn)到步驟S106，且執(zhí)行用于切換至無溝記錄操作的處理。具體地，指令被提供至記錄波形生成部3，且執(zhí)行控制，以基于輸入數(shù)據(jù)以無溝磁道T-s的形式形成凹坑線。
[0214]此外，在隨后的步驟S107中，記錄操作識(shí)別符Fw的值被設(shè)定為F — F+1 (F = I)。其后，處理返回至上述步驟S103。
[0215]另一方面，在上述步驟S105中獲得否定結(jié)果(其表示F = O不成立)的情況(具體地，到達(dá)了無溝記錄操作下的狀態(tài))下，處理行進(jìn)到步驟S108，且執(zhí)行用于切換至有溝記錄操作的處理。此外，在隨后的步驟109中，記錄操作識(shí)別符Fw的值被設(shè)定為F — F-1 (F= 0)。其后，處理返回至上述步驟S103。
[0216]此外，在上述步驟S104中，在獲得了肯定結(jié)果(其表示到達(dá)了記錄操作結(jié)束的狀態(tài))的情況下，結(jié)束此附圖所示的處理操作。
[0217]由于上述的系列處理，每當(dāng)無機(jī)光刻膠母盤102的旋轉(zhuǎn)角Θ變成預(yù)定的旋轉(zhuǎn)角θ Ε時(shí)，就可以執(zhí)行有溝記錄操作與無溝記錄操作之間的切換。
[0218]換句話說，可以獲得以如上述圖3Α所示的0.27 μ m以下的間距在徑向上交替地形成有有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的光盤記錄介質(zhì)，以作為基于無機(jī)光刻膠母盤102形成的光盤Dscl。
[0219]2-4.再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0220]圖10圖示了用于執(zhí)行第一實(shí)施例的光盤Dscl的再現(xiàn)操作的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0221]注意，在此附圖中，例示了盤驅(qū)動(dòng)裝置的構(gòu)造，其中除光盤Dscl (ROM盤)的再現(xiàn)功能之外，該盤驅(qū)動(dòng)裝置還設(shè)置有可記錄型光盤的記錄功能。然而，對于本示例的盤驅(qū)動(dòng)裝置30，可省略與記錄功能的實(shí)現(xiàn)相關(guān)的構(gòu)造。
[0222]在圖10中，光盤Dscl (或可記錄型光盤)被裝載到盤驅(qū)動(dòng)裝置中并被安裝在未圖示的回轉(zhuǎn)臺(tái)上。光盤Dscl (或可記錄型光盤)在記錄/再現(xiàn)操作時(shí)被主軸電機(jī)32驅(qū)動(dòng)而以恒定的線速度(CLV)或以恒定的角速度(CAV)旋轉(zhuǎn)。
[0223]此外，在再現(xiàn)操作時(shí)，通過光學(xué)拾取部(光學(xué)拾取頭)31來讀取光盤Dscl上的信息記錄磁道中所記錄的信息。
[0224]此外，對于可記錄型光盤，在數(shù)據(jù)記錄操作時(shí)，通過光學(xué)拾取部31將用戶數(shù)據(jù)記錄為光盤上的磁道中的標(biāo)記線。
[0225]在光學(xué)拾取部31中，形成有用作激光源的激光二極管、用于檢測反射光的光電探測器、用作激光的輸入端子的物鏡和光學(xué)系統(tǒng)等，其中光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)由物鏡將激光照射至盤記錄表面并將反射光引導(dǎo)至光電探測器。
[0226]在光學(xué)拾取部31中，雙軸致動(dòng)器以使物鏡在跟蹤方向和聚焦方向上移動(dòng)的方式來保持上述物鏡。
[0227]此外，滑橇機(jī)構(gòu)33使光學(xué)拾取部31作為整體在盤的徑向上移動(dòng)。
[0228]此外，激光器驅(qū)動(dòng)器43通過施加驅(qū)動(dòng)電流來驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾取部31中的上述激光二極管，以使其發(fā)出激光。
[0229]通過光電探測器來檢測光盤的反射光的信息。所檢測的信息被轉(zhuǎn)換成與所接收的光量相一致的電信號(hào)，且該電信號(hào)被提供至矩陣電路34。
[0230]矩陣電路34包括與從多個(gè)用作光電探測器的光接收元件輸出的電流相對應(yīng)的電流-電壓轉(zhuǎn)換電路、矩陣計(jì)算/放大電路等。矩陣電路34通過執(zhí)行矩陣計(jì)算處理來生成必要的信號(hào)。
[0231]例如，矩陣電路34可生成諸如與再現(xiàn)數(shù)據(jù)相對應(yīng)的再現(xiàn)信息信號(hào)(在下文中，被成為“RF信號(hào)”)之類的信號(hào)、用于伺服控制的聚焦誤差信號(hào)FE以及跟蹤誤差信號(hào)TE。
[0232]從矩陣電路34輸出的RF信號(hào)經(jīng)由串?dāng)_消除電路(XTC) 36被提供至數(shù)據(jù)檢測處理部35。
[0233]此外，矩陣電路34輸出的聚焦誤差信號(hào)FE和跟蹤誤差信號(hào)TE被提供至伺服電路41。
[0234]串?dāng)_消除電路36對RF信號(hào)執(zhí)行串?dāng)_消除處理。
[0235]這里，本實(shí)施例的光盤Dscl具有以如下磁道間距Tp彼此相鄰的磁道T，其中該磁道間距Tp極其小并超出如上面根據(jù)圖3A和3B等所述的光學(xué)界限值。由于磁道間距Tp較小，所以在再現(xiàn)操作時(shí)相鄰磁道的更多串?dāng)_成分發(fā)生混合。因此，設(shè)置了串?dāng)_消除電路36，且執(zhí)行了用于消除相鄰磁道的RF信號(hào)成分的處理。
[0236]注意，用于RF信號(hào)的串?dāng)_消除處理的技術(shù)是例如在下面各個(gè)參考文獻(xiàn)中所披露的眾所周知的技術(shù)。因此，此處省略其詳細(xì)說明。
[0237]注意，除下面參考文獻(xiàn)中所披露的眾所周知的技術(shù)之外，能夠適當(dāng)?shù)剡x擇被視為最佳方法來作為用于串?dāng)_消除處理的具體方法。
[0238]參考文獻(xiàn)1:日本專利3225611的說明書
[0239]參考文獻(xiàn)2:日本專利2601174的說明書
[0240]參考文獻(xiàn)3:日本專利4184585的說明書
[0241]參考文獻(xiàn)4:日本未審查專利申請2008-108325
[0242]數(shù)據(jù)檢測處理部35對RF信號(hào)執(zhí)行二進(jìn)制化處理。
[0243]例如，數(shù)據(jù)檢測處理部35可執(zhí)行諸如對RF信號(hào)的A/D轉(zhuǎn)換處理、通過鎖相環(huán)(Phase Locked Loop, PLL)的再現(xiàn)時(shí)鐘生成處理、局部響應(yīng)(Partial Response, PR)均衡處理以及維特比解碼(最大似然解碼)等處理，并通過局部響應(yīng)最大似然解碼處理(PRML檢測方法:局部響應(yīng)最大似然檢測方法)來獲得二進(jìn)制數(shù)據(jù)串。
[0244]此外，數(shù)據(jù)檢測處理部35將從光盤Dscl讀取的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串作為信息提供至后級(jí)中的編碼/解碼部37。
[0245]編碼/解碼部37在再現(xiàn)操作時(shí)執(zhí)行再現(xiàn)數(shù)據(jù)的解碼處理，并在記錄操作時(shí)對記錄數(shù)據(jù)執(zhí)行調(diào)制處理。具體地，在可記錄型光盤上，編碼/解碼部37在再現(xiàn)操作時(shí)執(zhí)行諸如數(shù)據(jù)解碼、去交織、ECC解碼和地址解碼等處理，并在記錄操作時(shí)執(zhí)行諸如ECC編碼、交織和數(shù)據(jù)調(diào)制等處理。[0246]在再現(xiàn)操作時(shí)，被數(shù)據(jù)檢測處理部35解碼的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串被提供至編碼/解碼部37。編碼/解碼部37對上述二進(jìn)制數(shù)據(jù)串執(zhí)行解碼處理，并由此獲得了再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
[0247]例如，當(dāng)記錄在光盤Dscl中的數(shù)據(jù)經(jīng)過諸如RLL(1，7)PP調(diào)制等游程長度受限碼調(diào)制(RLL ;游程長度受限，PP:極性保持(Parity preserve)/最小跳變游程重復(fù)控制(Prohibit rmtr:repeated minimum transition runlength))時(shí)，執(zhí)行針對此數(shù)據(jù)調(diào)制的解碼處理，而且通過ECC解碼處理來校正錯(cuò)誤。因此，獲得了再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
[0248]基于系統(tǒng)控制器40的指令，被編碼/解碼部37解碼成再現(xiàn)數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)被傳輸至主機(jī)接口 38，并被傳輸至主機(jī)裝置Hst。主機(jī)裝置Hst可例如是計(jì)算機(jī)裝置和AVUlK)系統(tǒng)裝置等。
[0249]另外，在記錄操作時(shí)，從主機(jī)裝置Hst傳輸記錄數(shù)據(jù)。所傳輸?shù)挠涗洈?shù)據(jù)經(jīng)由主機(jī)接口 38被提供至編碼/解碼部37。
[0250]此情況下的編碼/解碼部37執(zhí)行諸如錯(cuò)位校正碼附件(ECC編碼)、交織和子代碼附件等處理作為記錄數(shù)據(jù)的編碼處理。而且，編碼/解碼部37可例如對經(jīng)過這些處理的數(shù)據(jù)執(zhí)行諸如RLL(1-7)PP方法等的調(diào)制之類的游程長度受限碼調(diào)制。
[0251]被編碼/解碼部37處理過的記錄數(shù)據(jù)被提供至寫入策略部44。寫入策略部44例如針對記錄層的特性、激光的光斑的形狀和記錄線速度執(zhí)行激光器驅(qū)動(dòng)脈沖波形的調(diào)整以作為記錄補(bǔ)償處理。此外，寫入策略部44將激光器驅(qū)動(dòng)脈沖輸出至激光器驅(qū)動(dòng)器43。
[0252]激光器驅(qū)動(dòng)器43基于經(jīng)過記錄補(bǔ)償處理的激光器驅(qū)動(dòng)脈沖將電流施加至光學(xué)拾取部31中的激光二極管，以執(zhí)行激發(fā)光驅(qū)動(dòng)。因此，在可記錄型光盤中形成了與記錄數(shù)據(jù)相一致的標(biāo)記。
[0253]注意，激光器驅(qū)動(dòng)器43包括所謂的自動(dòng)功率控制(APC)電路。激光器驅(qū)動(dòng)器43在使用檢測器的輸出來監(jiān)控激光輸出功率的同時(shí)執(zhí)行控制，以使激光的輸出恒定且與溫度等無關(guān)，其中該檢測器用于監(jiān)控設(shè)置在光學(xué)拾取部31中的激光功率。
[0254]系統(tǒng)控制器40設(shè)置記錄和再現(xiàn)時(shí)的激光輸出的目標(biāo)值。執(zhí)行控制以使記錄操作時(shí)和再現(xiàn)操作時(shí)中的每者的激光輸出電平為目標(biāo)值。
[0255]伺服電路41基于來自矩陣電路34的聚焦誤差信號(hào)FE和跟蹤誤差信號(hào)來生成諸如聚焦伺服信號(hào)FS、跟蹤伺服信號(hào)TS和滑橇驅(qū)動(dòng)信號(hào)SD等各種信號(hào)，并由此能夠執(zhí)行伺服操作。
[0256]具體地，通過對聚焦誤差信號(hào)FE執(zhí)行用于生成伺服信號(hào)的濾波處理來生成聚焦伺服信號(hào)FS，并通過雙軸驅(qū)動(dòng)器48基于該聚焦伺服信號(hào)FS來驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾取部31中的雙軸致動(dòng)器的聚焦線圈，由此實(shí)現(xiàn)聚焦伺服操作。
[0257]而且，關(guān)于滑橇伺服操作，基于系統(tǒng)控制器40執(zhí)行的存取執(zhí)行控制等，根據(jù)作為跟蹤誤差信號(hào)TE的低范圍成分獲得的滑橇誤差信號(hào)來生成滑橇驅(qū)動(dòng)信號(hào)SD，且滑橇機(jī)構(gòu)33由滑橇驅(qū)動(dòng)器49驅(qū)動(dòng)。滑橇機(jī)構(gòu)33包括由諸如用于保持光學(xué)拾取部31的主軸等組件、滑橇電機(jī)以及傳動(dòng)齒輪構(gòu)成的機(jī)構(gòu)。通過根據(jù)滑橇驅(qū)動(dòng)信號(hào)SD驅(qū)動(dòng)上述滑橇電機(jī)來執(zhí)行光學(xué)拾取部31的期望的滑動(dòng)移動(dòng)。
[0258]而且，伺服電路41基于跟蹤誤差信號(hào)TE和來自稍后將詳細(xì)說明的系統(tǒng)控制器40的指令來實(shí)現(xiàn)與上述實(shí)施例一樣的跟蹤伺服控制(在有溝磁道T-g與無溝磁道T-s之間以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作)。[0259]主軸伺服電路42執(zhí)行控制，以使主軸電機(jī)32執(zhí)行CLV(恒定線速度)旋轉(zhuǎn)。
[0260]主軸伺服電路42可例如獲得通過對RF信號(hào)的PLL處理而生成的時(shí)鐘以作為主軸電機(jī)32的當(dāng)前旋轉(zhuǎn)速度信息，并將所獲得的時(shí)鐘與預(yù)定CLV參考速度信號(hào)進(jìn)行比較。因此，主軸伺服電路42生成主軸誤差信號(hào)。
[0261]此外，主軸伺服電路42輸出根據(jù)主軸誤差信號(hào)生成的主軸驅(qū)動(dòng)信號(hào)，并使主軸驅(qū)動(dòng)器47執(zhí)行主軸電機(jī)32的CLV旋轉(zhuǎn)。
[0262]另外，軸伺服電路42根據(jù)來自系統(tǒng)控制器40的主軸反沖/中斷(kick/break)控制信號(hào)來生成主軸驅(qū)動(dòng)信號(hào)，并由此能夠較好地執(zhí)行主軸電機(jī)32的諸如開始、停止、加速和減速等操作。
[0263]由微型計(jì)算機(jī)組成的系統(tǒng)控制器40控制如上所述的伺服系統(tǒng)和記錄再現(xiàn)系統(tǒng)的各種操作。
[0264]系統(tǒng)控制器40根據(jù)經(jīng)由主機(jī)接口 38提供的來自主機(jī)裝置Hst的命令來執(zhí)行各種處理。
[0265]例如，當(dāng)主機(jī)裝置Hst提供寫入命令時(shí)，系統(tǒng)控制器40首先使光學(xué)拾取部31移動(dòng)至將要被寫入的邏輯或物理地址。此外，系統(tǒng)控制器40使編碼/解碼部37對從主機(jī)裝置Hst傳輸?shù)臄?shù)據(jù)(諸如視頻數(shù)據(jù)和音頻數(shù)據(jù)等)執(zhí)行如上所述的編碼處理。另外，激光器驅(qū)動(dòng)器43根據(jù)所編碼的數(shù)據(jù)執(zhí)行如上所述的激光發(fā)射驅(qū)動(dòng)，并由此執(zhí)行記錄操作。
[0266]或者，當(dāng)從主機(jī)裝置Hst提供了用于要求傳輸光盤Dscl中所記錄的某些數(shù)據(jù)的讀取命令時(shí)，系統(tǒng)控制器40首先執(zhí)行以所指示的地址為目標(biāo)的尋址(seek)操作控制。具體地，系統(tǒng)控制器40指示伺服電路41執(zhí)行光學(xué)拾取部31的以尋址命令所指定的地址為目標(biāo)的讀取操作。
[0267]其后，系統(tǒng)控制器40執(zhí)行將所指示的數(shù)據(jù)部中的數(shù)據(jù)傳輸至主機(jī)裝置Hst所需要的操作控制。具體地，允許執(zhí)行從光盤Dscl的數(shù)據(jù)讀取，執(zhí)行數(shù)據(jù)檢測處理部35和編碼/解碼部37中的再現(xiàn)處理，并且傳輸所需要的數(shù)據(jù)。
[0268]此外，特別是在本實(shí)施例的情況下，系統(tǒng)控制器40還執(zhí)行處理，以基于對光盤Dscl的旋轉(zhuǎn)角Θ是否是特定的旋轉(zhuǎn)角θκ的判定結(jié)果以上述不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作(稍后將對此處理進(jìn)行說明)。
[0269]注意，通過與主機(jī)裝置Hst相連接的盤驅(qū)動(dòng)裝置說明了圖10中的本示例。然而，盤驅(qū)動(dòng)裝置30可具有不與其他設(shè)備相連接的形式。在此情況下，可設(shè)置操作部和顯示部等，且用于數(shù)據(jù)的輸入和輸出的接口部件的構(gòu)造可不同于圖10所示的構(gòu)造。換句話說，可根據(jù)用戶的操作來執(zhí)行記錄操作和再現(xiàn)操作等，且可形成用于輸入和輸出各種數(shù)據(jù)的終端部。不言而喻，除此示例之外，盤驅(qū)動(dòng)裝置30的構(gòu)造示例可以獲得各種構(gòu)造示例。
[0270]2-5.跟蹤伺服控制方法
[0271]這里，作出如下假定，為了實(shí)現(xiàn)以上述不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作，將作為標(biāo)記信息的預(yù)定圖案記錄在本實(shí)施例的光盤Dscl中的每個(gè)磁道T上的旋轉(zhuǎn)角θ R的位置處。
[0272]注意，每當(dāng)在圖7所示的母盤記錄裝置I中到達(dá)旋轉(zhuǎn)角θ R時(shí)，例如控制器2可指示記錄波形生成部3插入作為標(biāo)記的記錄圖案，由此實(shí)現(xiàn)代表旋轉(zhuǎn)角θ R的這類標(biāo)記信息的記錄操作。
[0273]系統(tǒng)控制器40可例如輸入在數(shù)據(jù)檢測處理部35中獲得的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串，并由此檢測出作為上述標(biāo)記的信息。
[0274]另外，響應(yīng)于標(biāo)記信息的檢測，系統(tǒng)控制器40向伺服電路41發(fā)送跟蹤伺服操作切換的指示。
[0275]這里，如上所述，對于以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作的方法，可以包括兩種類型的方法。即，使用通過使跟蹤誤差信號(hào)TE的極性反轉(zhuǎn)而獲得的信號(hào)的方法以及將與磁道間距Tp相對應(yīng)的偏移設(shè)置到跟蹤誤差信號(hào)TE的方法。
[0276]作為示例，圖1lA和IlB均示出了與這些方法相對應(yīng)的情況下的伺服電路41的內(nèi)部構(gòu)造。
[0277]圖1lA示出了與采用使用極性反轉(zhuǎn)的信號(hào)的方法的情況相對應(yīng)的伺服電路41的內(nèi)部構(gòu)造的示例。圖1lB示出了與采用設(shè)置偏移的方法的情況相對應(yīng)的伺服電路41的內(nèi)部構(gòu)造的示例。
[0278]注意，這些圖僅提取和示出了與伺服電路41中的跟蹤伺服控制相關(guān)的構(gòu)造。
[0279]在圖1lA所示的情況下，假定伺服電路41獲得跟蹤誤差信號(hào)TE本身以及通過反轉(zhuǎn)電路41b使跟蹤誤差信號(hào)TE的極性反轉(zhuǎn)而獲得的信號(hào)(在下文中，被稱為“跟蹤誤差信號(hào)TE’ ”)。伺服電路41被配置成通過使用開關(guān)SWl來選擇性地將這些信號(hào)中的一者輸出至伺服濾波器41a。
[0280]另一方面，在圖1lB所示的情況下，假定伺服電路41獲得跟蹤誤差信號(hào)TE本身以及通過加法器41c將預(yù)定的偏移值OFS添加至跟蹤誤差信號(hào)TE而獲得的信號(hào)(類似地，被稱為“跟蹤誤差信號(hào)TE’ ”)。伺服電路41被配置成通過使用開關(guān)SW2來選擇性地這些信號(hào)中的一者輸出至伺服濾波器41a。
[0281]這里，根據(jù)上述說明能夠理解，偏移值OFS被設(shè)定為與光盤Dscl中的磁道間距Tp相對應(yīng)的值。換句話說，偏移值OFS被選擇成使得當(dāng)通過使用由添加偏移值OFS而獲得的跟蹤誤差信號(hào)TE’來執(zhí)行跟蹤伺服控制時(shí)，激光的束斑位置變?yōu)橐砸粋€(gè)磁道遠(yuǎn)離有溝磁道T-g的位置。
[0282]伺服電路41采取這種構(gòu)造，且系統(tǒng)控制器40通過執(zhí)行下列處理實(shí)現(xiàn)了如上所述的以不同的方式執(zhí)行的跟蹤伺服操作。
[0283]圖12是示出了為實(shí)現(xiàn)在有溝磁道與無溝磁道之間以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作而執(zhí)行的具體處理的步驟的流程圖。
[0284]注意，例如，基于存儲(chǔ)在內(nèi)置ROM等中的程序，通過系統(tǒng)控制器40來執(zhí)行圖12所示的處理。
[0285]在圖12中，首先在步驟S201中，判定再現(xiàn)開始磁道是否是有溝磁道。具體地，判定來自主機(jī)裝置Hst的讀取命令所指示的再現(xiàn)開始位置是否在有溝磁道T-g上。
[0286]在步驟S201中，當(dāng)獲得了肯定結(jié)果(其表示再現(xiàn)開始磁道是有溝磁道)時(shí)，處理行進(jìn)到步驟S202，且執(zhí)行用于選擇跟蹤誤差信號(hào)TE的處理。具體地，指示伺服電路41選擇開關(guān)SWl或開關(guān)SW2的端子，以將跟蹤誤差信號(hào)TE輸入至伺服濾波器41a。
[0287]此外，在步驟S202中選擇跟蹤誤差信號(hào)TE之后，執(zhí)行用于將再現(xiàn)操作識(shí)別符Fr設(shè)定為O的處理。這里，再現(xiàn)操作識(shí)別符Fr是用于將執(zhí)行有溝磁道T-g的再現(xiàn)操作的狀態(tài)(Fr = O)和執(zhí)行無溝磁道T-s的再現(xiàn)操作的狀態(tài)(Fr = I)識(shí)別為當(dāng)前再現(xiàn)操作的值。
[0288]在步驟S203中設(shè)定識(shí)別符Fr之后，處理行進(jìn)到步驟S206。[0289]另一方面，當(dāng)獲得了否定結(jié)果(其表示再現(xiàn)開始磁道不是有溝磁道)時(shí)，處理行進(jìn)到步驟S204，且執(zhí)行用于選擇跟蹤誤差信號(hào)TE’的處理。具體地，指示伺服電路41選擇開關(guān)SWl或開關(guān)SW2的端子，以將跟蹤誤差信號(hào)TE’ (極性反轉(zhuǎn)的信號(hào)或添加有偏移OFS信號(hào))輸入至伺服濾波器41a。
[0290]此外，在步驟S204中選擇跟蹤誤差信號(hào)TE’之后，執(zhí)行將再現(xiàn)操作識(shí)別符Fr設(shè)定為I的處理。在步驟S205中設(shè)定識(shí)別符Fr之后，處理行進(jìn)到步驟S206。
[0291]根據(jù)步驟S206和步驟S207，處于待機(jī)狀態(tài)，直到旋轉(zhuǎn)角Θ = θ R的狀態(tài)或結(jié)束再現(xiàn)操作的狀態(tài)中的一者成立。
[0292]具體地，在步驟S206中，判定旋轉(zhuǎn)角Θ = θκ是否成立。具體地，在本示例的情況下，判定是否例如基于來自如上所述的數(shù)據(jù)檢測處理部35的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串檢測到標(biāo)記信息。
[0293]另外，在步驟S206中，當(dāng)獲得了否定結(jié)果(其表示沒有檢測到標(biāo)記信息且旋轉(zhuǎn)角θ = θκ不成立)時(shí)，處理行進(jìn)到步驟S207，且判定是結(jié)束再現(xiàn)操作的狀態(tài)是否處理。當(dāng)在步驟S207中獲得了否定結(jié)果時(shí)，處理返回至步驟S206。
[0294]在此情況下，當(dāng)在步驟S206中檢測到標(biāo)記信息且獲得了表示旋轉(zhuǎn)角θ = θκ成立的肯定結(jié)果時(shí)，處理響應(yīng)于該肯定結(jié)果行進(jìn)到步驟S208，且判定再現(xiàn)操作識(shí)別符Fr = O是否成立。
[0295]當(dāng)在步驟S208中獲得了表示識(shí)別符Fr = O成立的肯定結(jié)果(換句話說，正在再現(xiàn)有溝磁道T-g)時(shí)，處理行進(jìn)到步驟209，并執(zhí)行用于選擇跟蹤誤差信號(hào)TE’的處理。此外，在隨后的步驟S210中，通過使識(shí)別符Fr — Fr+1來設(shè)定Fr = I。其后，處理返回至上述步驟 S206。
[0296]另一方面，當(dāng)獲得了表示識(shí)別符Fr = O不成立的否定結(jié)果(換句話說，正在再現(xiàn)無溝磁道T-s)時(shí)，處理行進(jìn)到步驟211，并執(zhí)行用于選擇跟蹤誤差信號(hào)TE的處理。此外，在隨后的步驟S212中，通過使識(shí)別符Fr — Fr-1來設(shè)定Fr = O。其后，處理返回至上述步驟S206。
[0297]此外，當(dāng)在上述步驟S207中獲得了表示結(jié)束再現(xiàn)操作的狀態(tài)成立的肯定結(jié)果時(shí)，結(jié)束此圖所示的系列處理。
[0298]由于如上所述的系列處理，可以在光盤Dscl中在有溝磁道T-g與無溝磁道Τ-s之間以不同的方式適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作，其中在光盤Dscl中，有溝磁道T-g和無溝磁道T-s形成為由于單螺旋曝光操作而以每預(yù)定的旋轉(zhuǎn)角θκ進(jìn)行切換。因此，可以適當(dāng)?shù)卦佻F(xiàn)記錄信息。
[0299]注意，在上面的說明中，通過預(yù)先在光盤Dscl中記錄標(biāo)記信息來實(shí)現(xiàn)作為有溝磁道T-g與無溝磁道T-s之間的形成邊界的旋轉(zhuǎn)角檢測。然而，例如，可將包括頻率發(fā)生器(Frequency Generator, FG)和脈沖發(fā)生器(Pulse Generator, PG)等的電機(jī)用作主軸電機(jī)32且可通過將其輸出提供至系統(tǒng)控制器40來執(zhí)行旋轉(zhuǎn)角θ R的檢測。
[0300]3.第二實(shí)施例(雙螺旋曝光操作)
[0301]在第一實(shí)施例中，曝光操作是通過一個(gè)光束來執(zhí)行的。因此，在假定磁道T以單螺旋的方式形成時(shí)，為了在如上所述的徑向上交替地布置有溝磁道T-g和無溝磁道T-S，必須每預(yù)定旋轉(zhuǎn)角Θ R切換記錄操作。[0302]在第二實(shí)施例中，為了消除以這種方式以每預(yù)定旋轉(zhuǎn)角θκ切換記錄操作的必要性，通過使用用于執(zhí)行有溝磁道T-g的曝光操作的光束和用于執(zhí)行無溝磁道T-s的曝光操作的光束來執(zhí)行曝光操作。具體地，執(zhí)行曝光操作以通過使用這些光束來并行地形成作為有溝磁道T-g的螺旋磁道和作為無溝磁道T-s的螺旋磁道。
[0303]3-1.曝光裝置的構(gòu)造
[0304]圖13說明了作為第二實(shí)施例的曝光裝置(母盤記錄裝置)的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0305]注意，此圖13主要示出了與圖7所示的第一實(shí)施例的母盤記錄裝置I中的部件不同的部件，且省略了對其他部件的圖示。
[0306]這里，在下面的說明中，與已說明的部件類似的部件使用相同的附圖標(biāo)記表示，其省略其說明。
[0307]從與上述圖7的對比可以看出，此情況下的母盤記錄裝置與第一實(shí)施例的母盤記錄裝置I的不同之處在于:設(shè)置了記錄波形生成部3’來代替記錄波形生成部3 ;省略了激光器驅(qū)動(dòng)器4而設(shè)置了第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1和第二激光器驅(qū)動(dòng)器4-2 ;及另外，省略了激光二極管11而設(shè)置了第一激光二極管11-1和第二激光二極管11-2。
[0308]記錄波形生成部3’將輸入數(shù)據(jù)(記錄數(shù)據(jù))分割進(jìn)入兩個(gè)系統(tǒng)。記錄波形生成部3’將基于所分割的數(shù)據(jù)中的一者的記錄波形提供至第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1，且將基于所分割的數(shù)據(jù)中的另一者的記錄波形提供至第二激光器驅(qū)動(dòng)器4-2。
[0309]這里，在本示例的情況下，第一激光二極管11-1側(cè)用于有溝磁道T-g的曝光操作，且第二激光二極管11-2側(cè)用于無溝磁道T-s的曝光操作。因此，此情況下的記錄波形生成部3’生成用于使溝G插入在根據(jù)輸入數(shù)據(jù)形成的凹坑之間的波形，以作為被提供至第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1側(cè)的記錄波形。
[0310]注意，對于在記錄波形生成部3’中分割數(shù)據(jù)的方法，例如，可以包括以預(yù)定數(shù)據(jù)為單位將輸入數(shù)據(jù)指定給第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1側(cè)和第二激光器驅(qū)動(dòng)器4-2側(cè)的方法。
[0311]第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1和第二激光器驅(qū)動(dòng)器4-2根據(jù)從記錄波形生成部3’提供的記錄波形分別執(zhí)行第一激光二極管11-1和第二激光二極管11-2的發(fā)光驅(qū)動(dòng)。
[0312]以與第一實(shí)施例中的方式類似的方式，使這些第一激光二極管11-1和第二激光二極管11-2發(fā)出的激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡12和物鏡17等照射至無機(jī)光刻膠母盤102 (無機(jī)光刻膠層101)。
[0313]在此情況下，從第一激光器驅(qū)動(dòng)器4-1發(fā)出的激光(被稱為“第一激光”)的束斑和從第二激光器驅(qū)動(dòng)器4-2發(fā)出的激光(被稱為“第二激光”)的束斑布置成使得它們之間的在徑向上的間距為0.27 μ m以下，即超出實(shí)際光學(xué)界限值的間距(例如，本示例的情況下的上述0.22 μ m)。
[0314]而且，在此情況下，以與第一實(shí)施例中的方式類似的方式執(zhí)行無機(jī)光刻膠母盤102的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)和滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)。
[0315]因此，在情況下的無機(jī)光刻膠母盤102中，通過使用上述第一激光的曝光操作而形成的有溝磁道T-g和通過使用上述第二激光的曝光操作而形成的無溝磁道T-s以螺旋的方式彼此分開地形成，并形成為使得這些磁道T在徑向上的間距為超出光學(xué)界限值的間距。
[0316]還通過第二實(shí)施例的這類母盤記錄裝置，可以生產(chǎn)如同第一實(shí)施例的情況下的在徑向上以0.27 μ m以下的磁道間距交替地布置有有溝磁道T-g和無溝磁道T-S的光盤記錄介質(zhì)。
[0317]換句話說，可以提供能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作的光盤記錄介質(zhì)(且因此，能夠適當(dāng)?shù)貙?shí)現(xiàn)更高的記錄密度)。
[0318]注意，在下文中，將使用第二實(shí)施例的母盤曝光裝置形成的光盤記錄介質(zhì)稱為“光盤 Dsc2，，。
[0319]3-2.再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0320]這里，如上所述，根據(jù)第二實(shí)施例的母盤記錄裝置，可以獲得如下光盤Dsc2，在光盤Dsc2中，通過使用第一激光的曝光操作而形成的有溝磁道T-g和通過使用上述第二激光的曝光操作而形成的無溝磁道T-s以螺旋的方式彼此分開地形成，且這些磁道T之間的在徑向上的間距為0.27 μ m以下。在再現(xiàn)與第二實(shí)施例類似的光盤Dsc2的情況下，不必如同在第一實(shí)施例中以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作，且跟蹤伺服操作可以是基于跟蹤誤差信號(hào)TE(參見圖4和5等)本身來執(zhí)行的，其中跟蹤誤差信號(hào)TE是基于光盤Dsc2的反射光生成的。
[0321]具體地，關(guān)于用于再現(xiàn)操作的激光，當(dāng)經(jīng)由共同的物鏡來照射用于再現(xiàn)有溝磁道T-g中的記錄信息的激光(被稱為“第一再現(xiàn)激光”)和用于再現(xiàn)無溝磁道T-s中的記錄信息的激光(被稱為“第二再現(xiàn)激光”)時(shí)，通過根據(jù)跟蹤誤差信號(hào)TE來執(zhí)行上述物鏡的位置控制，使得第一再現(xiàn)激光和第二再現(xiàn)激光分別跟隨有溝磁道T-g和無溝磁道T-s，其中跟蹤誤差信號(hào)TE是基于上述第一再現(xiàn)激光生成的。因此，能夠同時(shí)讀取這些有溝磁道T-g和無溝磁道T-s中的記錄信息。
[0322]圖14說明了第二實(shí)施例的用于執(zhí)行光盤Dsc2的再現(xiàn)的再現(xiàn)裝置(被假定為盤驅(qū)動(dòng)裝置50)的內(nèi)部構(gòu)造示例的圖。
[0323]注意，圖14主要圖示了與上述圖10所示的第一實(shí)施例中的盤驅(qū)動(dòng)裝置30中的部件不同的部件，且省略了對其他部件的圖示。
[0324]從與上述圖10的對比可以看出，第二實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)裝置50與第一實(shí)施例的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的不同之處在于:設(shè)置了光學(xué)拾取部31’來代替光學(xué)拾取部31 ;設(shè)置了伺服電路41’來代替伺服電路41 ；以及另外，額外地設(shè)置了 RF信號(hào)生成電路59且設(shè)置了兩個(gè)串?dāng)_消除電路36-1和36-2作為串?dāng)_消除電路36。
[0325]首先，在光學(xué)拾取部31’中，設(shè)置了第一激光器51-1和第二激光器51-2。第一激光器51-1是上述第一再現(xiàn)激光(用于再現(xiàn)有溝磁道T-g的激光)的光源。第二激光器51-2是第二再現(xiàn)激光(用于再現(xiàn)無溝磁道T-s的激光)的光源。
[0326]這里，以與磁道間距Tp相等的布置間隔在徑向上設(shè)定第一再現(xiàn)激光和第二再現(xiàn)激光的束斑(形成在光盤Dsc2上的束斑)。換句話說，此情況下的光學(xué)系統(tǒng)被設(shè)計(jì)成用于實(shí)現(xiàn)此布置間隔。
[0327]準(zhǔn)直透鏡52使第一激光器51-1發(fā)出的第一再現(xiàn)激光和第二激光器51_2發(fā)出的第二再現(xiàn)激光成為平行光。該平行光穿過偏振分束器53和1/4波長板54，并此后經(jīng)由雙軸致動(dòng)器56保持的物鏡55照射至光盤Dsc2。
[0328]通過光盤Dsc2獲得的第一再現(xiàn)激光和第二再現(xiàn)激光的各個(gè)反射光(返回光)經(jīng)由物鏡55和1/4波長板54進(jìn)入偏振分束器53。[0329]這里，以類似方式到達(dá)偏振分束器53的每個(gè)激光的返回光穿過1/4波長板54兩次(向外路徑和返回路徑)。因此，使此返回光旋轉(zhuǎn)了 90°，且因此返回光被偏振分束器53反射。
[0330]被偏振分束器53反射的各個(gè)返回光經(jīng)由聚光透鏡57被與它們相對應(yīng)的第一光接收部58-1側(cè)和第二光接收部58-2側(cè)接收。具體地，通過第一光接收部58-1接收第一再現(xiàn)激光的返回光，且通過第二光接收部58-2接收第二再現(xiàn)激光的返回光。
[0331]在這些部件之中，第一光接收部58-1由多個(gè)檢測器(例如，四分檢測器)構(gòu)成以通過分割第一再現(xiàn)激光的返回光的方式來接收光，以用于生成跟蹤誤差信號(hào)TE和聚焦誤差/[目號(hào)FE。
[0332]以與上述矩陣電路34中的方式類似的方式，矩陣電路34基于第一光接收部58_1獲得的光接收信號(hào)來生成RF信號(hào)、聚焦誤差信號(hào)FE和跟蹤誤差信號(hào)TE。
[0333]這里，在下文中，將此情況下的矩陣電路34所生成的RF信號(hào)稱為“第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1 ”，以便將此信號(hào)與稍后說明的由RF信號(hào)生成電路59基于第二再現(xiàn)激光的返回光生成的RF信號(hào)區(qū)別開來。
[0334]如圖所示，從矩陣電路34輸出的第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1被提供至第一串?dāng)_消除電路36-1，并使其經(jīng)過與上述串?dāng)_消除電路36中的處理類似的串?dāng)_消除處理。
[0335]雖然沒有圖示，但是經(jīng)過第一串?dāng)_消除電路36-1中的串?dāng)_消除處理的第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1被提供至數(shù)據(jù)檢測處理部35。
[0336]此外，從矩陣電路34輸出的聚焦誤差信號(hào)FE和跟蹤誤差信號(hào)TE被提供至伺服電路 41，。
[0337]這里，與上述伺服電路41相比，在伺服電路41’中，省略了與以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作相關(guān)的構(gòu)造(圖1lA中的反轉(zhuǎn)電路41b和開關(guān)SWl以及圖1lB中的加法器41c和開關(guān)SW2)。
[0338]雖然沒有圖示，由伺服電路41’獲得的跟蹤伺服信號(hào)TS和聚焦伺服信號(hào)FS被提供至雙軸驅(qū)動(dòng)器46。
[0339]因此，以如下方式執(zhí)行跟蹤伺服操作:第一再現(xiàn)激光的束斑跟蹤有溝磁道T-g。此夕卜，如上所述，第一再現(xiàn)激光的束斑與第二再現(xiàn)激光的束斑之間的在徑向上的間隔等于磁道間距Tp。因此，第二再現(xiàn)激光的束斑能夠跟隨無溝磁道T-s。
[0340]另外，由第二光接收部58-2獲得的與第二再現(xiàn)激光的返回光相關(guān)的光接收信號(hào)被提供至RF信號(hào)生成電路59。
[0341 ] RF信號(hào)生成電路59基于由第二光接收部58_2獲得的光接收信號(hào)來生成RF信號(hào)。注意，由RF信號(hào)生成電路59生成的RF信號(hào)被稱為“第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2”，以便將此信號(hào)與由上述矩陣電路34生成的RF信號(hào)區(qū)別開來。
[0342]第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2被提供到第二串?dāng)_消除電路36-2，并使其經(jīng)過與上述串?dāng)_消除電路36中的處理類似的串?dāng)_消除處理。
[0343]雖然沒有圖示，但是經(jīng)過第二串?dāng)_消除電路36-2中的串?dāng)_消除處理的第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2被提供至數(shù)據(jù)檢測處理部35。
[0344]應(yīng)當(dāng)注意確認(rèn)的是，由于設(shè)置了第一串?dāng)_消除電路36-1和第二串?dāng)_消除電路36-2，所以對于有溝磁道T-g和無溝磁道T-s這兩者而言，來自相鄰磁道的串?dāng)_成分受到抑制。因此，可以適當(dāng)?shù)孬@得再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
[0345]注意，上面為了方便說明的緣故，分離地設(shè)置了光源，以使用于再現(xiàn)有溝磁道T-g的光束和用于再現(xiàn)無溝磁道T-s的光束照射至光盤Dsc2。然而，不言而喻，可以使用共同的光源，且可以采取如下構(gòu)造，在該構(gòu)造中，來自共同的光源的激光被分裂成形成兩個(gè)光束斑。
[0346]4.第三實(shí)施例(用于可記錄型盤的單螺旋記錄) [0347]在上面的第一和第二實(shí)施例中，說明了用于制造ROM型光盤記錄介質(zhì)的曝光方法和與ROM型光盤記錄介質(zhì)相關(guān)的再現(xiàn)方法(主要地，跟蹤伺服控制方法)。然而，本發(fā)明還可適用于可記錄型光盤記錄介質(zhì)。
[0348]具體地，本發(fā)明還可適用于在可記錄型光盤記錄介質(zhì)中的記錄層中執(zhí)行標(biāo)記記錄操作的情況，其中在可記錄型光盤記錄介質(zhì)中，在記錄層中沒有形成作為溝的位置引導(dǎo)。
[0349]在下文中，作為第三和第四實(shí)施例，將對與記錄操作相關(guān)的示例進(jìn)行說明，其中該記錄操作與如上所述在記錄層中沒有形成位置引導(dǎo)的可記錄型光盤記錄介質(zhì)相關(guān)。
[0350]4-1.光盤記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)
[0351]圖15圖示了第三實(shí)施例中的作為記錄操作目標(biāo)的光盤記錄介質(zhì)(被稱為“多層式記錄介質(zhì)Dsc3”)的剖面結(jié)構(gòu)。
[0352]如圖所示,在多層式記錄介質(zhì)Dsc3中，從上層側(cè)起依次形成覆蓋層60、記錄層63、粘附層64、反射膜65和基板66。
[0353]這里，本說明書中的“上層側(cè)”表示如下情況下的上層側(cè):入射有來自稍后說明的記錄裝置(記錄-再現(xiàn)裝置70)的激光的表面被假定為上表面。
[0354]在多層式記錄介質(zhì)Dsc3中，覆蓋層60可例如由樹脂構(gòu)成，并用作形成在其下層側(cè)的記錄層63的保護(hù)層。
[0355]記錄層63被配置成具有如圖所示的多層半透明記錄膜61。具體地，此情況下的記錄層63具有在多層半透明記錄膜61的各個(gè)層之間插入有中間層62的多層式結(jié)構(gòu)。換句話說，此情況下的記錄層63是通過半透明記錄膜61 —中間層62 —半透明記錄膜61 —中間層62…一半透明記錄膜61的重復(fù)堆疊而形成的。
[0356]在本示例的情況下，記錄層63設(shè)置有五個(gè)半透明記錄膜61。換句話說，記錄層63中的可記錄層的數(shù)目為“5”。
[0357]這里，注意，如圖所示，在每個(gè)半透明記錄膜61中，沒有形成與溝和凹坑線等的形成相一致的位置引導(dǎo)。換句話說，半透明記錄膜61以平面的狀態(tài)形成。
[0358]在記錄層63的下層側(cè)，反射膜65形成為使得由期望的粘附材料構(gòu)成的粘附層(中間層)64位于記錄層和反射膜之間。
[0359]在反射膜65中形成用于引導(dǎo)記錄/再現(xiàn)位置的位置引導(dǎo)。注意，表述“在反射膜中形成位置引導(dǎo)”的意思是指反射膜形成在形成有位置引導(dǎo)的界面上。
[0360]具體地，在此情況下，位置引導(dǎo)形成在圖中的基板66的一個(gè)表面?zhèn)龋⒂谑窃O(shè)置了具有如圖所示的凹面和凸面的剖面結(jié)構(gòu)。反射膜65形成在基板66的具有凹凸剖面形狀的表面上，并因此在反射膜65上形成了位置導(dǎo)引。
[0361]注意，基板66可例如由諸如聚碳酸酯和丙烯酸等樹脂構(gòu)成?；?6可以通過使用用于設(shè)置凹凸剖面形狀作為上述位置引導(dǎo)的壓模的注射成型來生成。[0362]這里，如同在當(dāng)前的可記錄型光盤中所執(zhí)行的方式，可以形成上述位置引導(dǎo)，以在與多層式記錄介質(zhì)Dsc3的記錄面內(nèi)方向相平行的方向上來記錄用于表示絕對位置的信息(絕對位置信息:徑向位置信息和旋轉(zhuǎn)角信息)。例如，當(dāng)通過使用溝形成上述位置引導(dǎo)時(shí)，能夠通過溝的擺動(dòng)周期的調(diào)制來記錄此絕對位置信息。而且，當(dāng)通過使用凹坑線形成上述位置引導(dǎo)時(shí)，能夠通過該凹坑的的長度和形成間距等的調(diào)制來記錄絕對位置信息。
[0363]注意，在如上所述的記錄層63的內(nèi)部沒有形成位置引導(dǎo)。記錄層63中的記錄位置是基于以如上所述的方式形成有位置引導(dǎo)的反射膜65的反射光來控制的。
[0364]從這個(gè)意義上說，在下文中，將形成有位置引導(dǎo)的反射膜65(反射表面)稱為“參考表面Ref”。
[0365]4-2.利用參考表面的位置控制方法
[0366]圖16說明了利用形成在參考表面Ref上的位置引導(dǎo)的位置控制方法。
[0367]對于具有上述構(gòu)造的多層式記錄介質(zhì)Dsc3，為了實(shí)現(xiàn)以記錄層63為目標(biāo)進(jìn)行照射的記錄層激光的位置控制，使用于基于參考表面Ref上的位置引導(dǎo)來執(zhí)行位置控制的激光(在下文中，被稱為“伺服激光”)與記錄層激光一起照射。
[0368]具體地，記錄層激光和伺服激光經(jīng)由如圖所示的共用物鏡(物鏡55)照射至多層式記錄介質(zhì)Dsc3。
[0369]在此情況下，為了實(shí)現(xiàn)精確的跟蹤伺服操作，記錄層激光的光軸與伺服激光的光
軸相一致。
[0370]在以記錄層63(期望的半透明記錄膜61)為目標(biāo)來記錄標(biāo)記時(shí)，使伺服激光照射并聚焦在如圖所示的反射膜65的反射表面(參考表面Ref)上。根據(jù)基于反射光獲得的跟蹤誤差信號(hào)來控制物鏡55的位置(換句話說，執(zhí)行跟蹤伺服操作)。
[0371]因此，經(jīng)由同一物鏡55照射的記錄層激光的在跟蹤方向上的位置被控制成期望的位置。
[0372]另一方面，能夠以下列方式實(shí)現(xiàn)再現(xiàn)操作時(shí)的位置控制。
[0373]在再現(xiàn)操作時(shí)，在半透明記錄膜61中形成標(biāo)記線(換句話說，記錄磁道)。因此，能夠以標(biāo)記線為目標(biāo)通過使用記錄層激光來執(zhí)行跟蹤伺服操作。具體地，能夠通過根據(jù)跟蹤誤差信號(hào)來控制物鏡55的位置，由此實(shí)現(xiàn)再現(xiàn)操作時(shí)的跟蹤伺服操作，其中跟蹤誤差信號(hào)是基于記錄層激光的反射光獲得的。
[0374]這里，如果將具有與記錄層激光的波長帶相同的波長帶的光用作上述位置控制方法中的伺服激光，將難以避免記錄層激光相對于參考表面Ref (其應(yīng)獲得伺服激光的反射光)的反射率的增大。換句話說，相應(yīng)地增加了雜散光成分，且可能極大地降低了再現(xiàn)性倉泛。
[0375]因此，將具有不同波長帶的光分別用于伺服激光和記錄層激光，且將具有波長選擇性的反射膜用作形成參考表面Ref的反射膜65。
[0376]具體地，在本示例的情況下，記錄層激光的波長為與BD的情況下的波長類似的約405nm。伺服激光的波長為與DVD的情況下的波長類似的約650nm。此外，作為反射膜65,使用了波長選擇性反射膜，其選擇性地反射具有與伺服激光的波長帶相同的波長帶的光，并傳輸或吸收具有其他波長的光。
[0377]這類構(gòu)造防止了來自參考表面Ref的記錄層激光的不必要的反射光成分的出現(xiàn)，并確保了良好的聲噪比(S/N)。
[0378]4-3.任意間距螺旋移動(dòng)控制
[0379]順便一提，在本實(shí)施例中，通過基于形成在光盤記錄介質(zhì)中的位置引導(dǎo)執(zhí)行位置控制以由此執(zhí)行記錄操作的一個(gè)原因如下。這是因?yàn)楸緦?shí)施例中所假定的記錄裝置是普通用戶所使用的驅(qū)動(dòng)裝置。具體地，與盤制造商等所使用的母盤記錄裝置相比，在這類驅(qū)動(dòng)裝置中，(成本等方面的原因)難以確保高的機(jī)械精確性。因此，僅通過如上所述的滑動(dòng)控制難以實(shí)現(xiàn)精確的螺旋運(yùn)動(dòng)控制。
[0380]通過執(zhí)行上述位置控制，即使在不能夠確保機(jī)械精確性的情況下，也可以在記錄層63中的期望的位置處形成標(biāo)記線(磁道T)。
[0381]然而，注意，在本發(fā)明中，需要使形成在記錄層63中的磁道T的間距為超出光學(xué)界限值的間距。
[0382]這里，如上所述，如果記錄層激光和伺服激光具有相同的波長，將不利地增加由不必要的反射造成的雜散光。因此，可以使記錄層激光和伺服激光具有不同的波長。此外，關(guān)于波長的關(guān)系，在優(yōu)選考慮記錄層63的記錄密度的條件下，使記錄層激光具有比伺服激光的波長短的波長。具體地，為了通過將記錄層63中的光學(xué)條件設(shè)定為幾乎與BD的光學(xué)條件類似的光學(xué)條件(λ =約405nm, NA =約0.85)來實(shí)現(xiàn)記錄層63中的高密度記錄,將參考表面Ref上的光學(xué)條件設(shè)定為幾乎與DVD的光學(xué)條件類似的光學(xué)條件(λ =約650nm，NA =約 0.65)。
[0383]在此情況下，參考表面Ref的磁道間距具有約0.500 μ m的光學(xué)界限值。因此，如果簡單地根據(jù)參考表面Ref上的磁道間距如上所述地執(zhí)行與記錄層激光相關(guān)的跟蹤伺服操作，不可能在記錄層63中以超出光學(xué)界限值的間距實(shí)現(xiàn)記錄操作。
[0384]考慮到上述情況，在第三實(shí)施例中，采用下列參考文獻(xiàn)5和6中所披露的實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)的結(jié)構(gòu)作為參考表面Ref的結(jié)構(gòu)。
[0385]參考文獻(xiàn)5:日本未審查專利申請2010-225237
[0386]參考文獻(xiàn)6:日本未審查專利申請2011-198425
[0387]為確認(rèn)，將參考圖17-21對參考表面Ref的實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)的結(jié)構(gòu)以及基于該結(jié)構(gòu)的位置控制方法進(jìn)行說明。
[0388]圖17是以放大的方式圖示了第三實(shí)施例的多層式記錄介質(zhì)Dsc3的參考表面Ref的部分表面的圖(平面圖)。
[0389]首先，在圖17中，將紙面的從左到右的方向設(shè)定為凹坑線的形成方向，即磁道的形成方向。用于上述位置控制的伺服激光的束斑根據(jù)多層式記錄介質(zhì)Dsc3的旋轉(zhuǎn)從紙面的左邊移動(dòng)到右邊。
[0390]而且，與凹坑線的形成方向正交的方向(紙面的垂直方向)是多層式記錄介質(zhì)Dsc3的徑向。
[0391]此外，在圖17中，圖中的白色圓圈所示的A-F表示凹坑形成允許位置。具體地，在參考表面Ref上，僅在允許位置處形成凹坑，且在該允許位置之外的位置處不形成凹坑。
[0392]而且，圖中的A-F的符號(hào)的差異表示凹坑線的差異(在徑向上布置的凹坑線的差異)。A-F的這些符號(hào)所附帶的數(shù)字表示凹坑線上的凹坑形成允許位置的差異。
[0393]這里，圖中的黑色粗線所示的間隔(光學(xué)界限下的磁道寬度)表示由參考表面Ref的光學(xué)條件確定的最小磁道間距(具有光學(xué)界限值的磁道間距)。根據(jù)這些可以理解，在此情況下的參考表面Ref上，A-F的總計(jì)六條凹坑線以超出光學(xué)界限值的間距在徑向上布置。
[0394]然而，當(dāng)簡單地以超出光學(xué)界限值的間距布置多個(gè)凹坑線時(shí)，凹坑的形成位置可能在凹坑線形成方向上彼此重疊。換句話說，凹坑在凹坑線形成方向上的間隔可能超出光學(xué)界限值。
[0395]此外，根據(jù)稍后的說明可以清楚地理解，為了實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)，必須分別獲得用于A-F的各個(gè)凹陷線的跟蹤誤差信號(hào)。
[0396]因此，從這點(diǎn)來看，各個(gè)凹坑線的布置還需要特別的計(jì)劃。
[0397]考慮到這些方面，關(guān)于此情況下的參考表面Ref上的A-F的各個(gè)凹坑線，設(shè)置了下列條件。
[0398]即:
[0399]I)在A-F的各個(gè)凹坑線中，將凹坑形成允許位置之間的間隔限制為預(yù)定的第一距離。
[0400]2)由此在允許位置之間具有受限間隔的A-F的各個(gè)凹坑線以如下方式布置:各自允許位置在凹坑線形成方向上移位預(yù)定的第二距離(換句話說，使各個(gè)凹坑線的相位移位上述第二距離)。
[0401]這里，將在徑向上布置的A-F的凹坑線中的各自允許位置的在凹坑線形成方向上的間隔(上述第二距離)設(shè)定為“η”。在此情況下，通過布置A-F的各個(gè)凹坑線使得滿足上述條件2)，坑線Α-Β、坑線B-C、坑線C-D、坑線D-E、坑線E-F和坑線F-A之間的各個(gè)允許位置之間的所有間隔均變成如圖所示的“η”。
[0402]此外，在此情況下，將A-F的各個(gè)凹坑線中的允許位置的間隔(上述第一距離)設(shè)定為用于實(shí)現(xiàn)A-F的總計(jì)六個(gè)凹坑線相位，并因而是6η。
[0403]根據(jù)這些可以理解，在此情況下的參考表面Ref上，具有彼此不同的凹坑線相位的A-F的多個(gè)凹坑線形成為使得在基本周期被設(shè)定為“6η”的條件下各個(gè)相位被移位上述“η”。
[0404]因此，在稍后說明的實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)的方法中，可以分開獲得用于A-F的各個(gè)凹坑線的跟蹤誤差信號(hào)。
[0405]同時(shí)，在如同本實(shí)施例的情況下的以超出參考表面Ref上的光學(xué)界限值的間距在徑向上布置A-F的各個(gè)凹坑線的情況下，防止了凹坑之間的在凹坑線形成方向上的間隔超出光學(xué)界限值。
[0406]這里，將參考表面Ref上的光學(xué)條件設(shè)定為與如上所述的DVD的光學(xué)條件類似的λ =約65011111和嫩=約0.65的光學(xué)條件。根據(jù)上述條件，將此情況下的每個(gè)允許位置的段長(section length)設(shè)定為與3T(其與DVD中的最短標(biāo)記的段長相同)相對應(yīng)的段長。而且，還以類似的方式將A-F的各個(gè)允許位置的邊緣之間的在凹坑線形成方向上的間隔設(shè)定為與3T相對應(yīng)的長度。
[0407]因此,滿足了上述條件I)和2)。
[0408]隨后，為了理解整個(gè)參考表面Ref上的凹坑的形成狀態(tài)，將參考圖18對形成凹坑線的具體方法進(jìn)行說明。
[0409]注意，圖18示意性地圖示了形成在參考表面Ref上的部分凹坑線(七條線)。在圖中，黑點(diǎn)表示凹坑形成允許位置。
[0410]如參考此圖18能夠看出，在此情況下，凹坑線以螺旋的方式形成在參考表面Ref上。
[0411]此外，通過確定允許位置滿足了與在徑向上布置的凹坑線的相關(guān)的上述條件I)和2)，使得凹坑線的相位以每圈凹坑線為單位移位上述第二距離(“η”)。
[0412]例如，在圖18所示的示例中，允許位置被確定為使得在第一圈凹坑線的中獲得作為凹坑線A的凹坑線相位。在使用圖中的一圈開始位置(以預(yù)定角的位置)作為參考進(jìn)行計(jì)數(shù)的第二圈凹坑線中，允許位置被確定為使得獲得了作為凹坑線B的凹坑線相位。以類似的方式，允許位置被設(shè)定為使得在第三圈、第四圈、第五圈、第六圈和第七圈等中分別獲得了作為凹坑線C、D、E、F和A等的凹坑線相位。以這種方式，凹坑線的各個(gè)圈中的允許位置被確定為使得每一圈凹坑線的凹坑線相位移位了第二距離“η”。
[0413]注意，如上述參考文獻(xiàn)5等中所披露，地址信息(絕對位置信息)是單獨(dú)地記錄在A-F的凹坑線中的每者中的。
[0414]這里，如圖18所示，在本示例的情況下，參考表面Ref上的凹坑線具有如下結(jié)構(gòu)，在該結(jié)構(gòu)中，凹坑線的各個(gè)圓中的允許位置被確定為使得在以單螺旋的方式形成凹坑線的情況下的凹坑線中，凹坑線相位以一圈為單位按照Α — B — C — D — E — F — Α...的順序進(jìn)行切換，即，使得凹坑線以每圈凹坑線為單位移位第二距離“η”。 [0415]因此，如果例如以A-F之中的一個(gè)凹坑線為目標(biāo)執(zhí)行跟蹤伺服操作，那么可以實(shí)現(xiàn)等于參考表面Ref上的光學(xué)界限值的六分之一的間距，以作為螺旋間距。例如，在本示例的情況下，可是實(shí)現(xiàn)由0.500 μ m/6獲得的約0.083 μ m的間距，即超出記錄層63的光學(xué)界限值(0.27 μ m以下)的間距。
[0416]然而，參考表面Ref上的各個(gè)凹坑線可以不是如圖18所示的單螺旋。參考表面Ref上的各個(gè)凹坑線能夠以A-F的六螺旋的方式形成，或能夠以同心圓的方式形成。在這種情況下，當(dāng)如上所述以一個(gè)凹坑線為目標(biāo)執(zhí)行跟蹤伺服操作時(shí)，不可能實(shí)現(xiàn)超出光學(xué)界限值的間距的螺旋移動(dòng)，或者不可能實(shí)現(xiàn)螺旋移動(dòng)本身。
[0417]因此，通過設(shè)定上述條件I)和2)作為參考表面Ref上的凹坑線的形成條件，能夠?qū)⒁猿龉鈱W(xué)界限值的間距布置的每條凹坑線作為目標(biāo)以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。在此狀態(tài)下，將隨時(shí)間的推移而增加的偏移提供至跟蹤誤差信號(hào)，且執(zhí)行A-F的各個(gè)凹坑線之間的順序移動(dòng)。因此，實(shí)現(xiàn)了任意間距的螺旋移動(dòng)。
[0418]這里，為了實(shí)現(xiàn)以任意間距的螺旋移動(dòng)，例如必須如凹坑線A—凹坑線B—凹坑線C…一樣的順序?qū)⒆鳛樗欧僮髂繕?biāo)的凹坑線順序地切換至在外側(cè)相鄰的凹坑線。
[0419]為了實(shí)現(xiàn)用于以此方式順序地切換作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的操作，必須單獨(dú)地獲得與由A-F的各個(gè)相位構(gòu)成的凹坑線相關(guān)的跟蹤誤差信號(hào)。這是因?yàn)槿绻麤]有區(qū)分用于A-F的各個(gè)凹坑線的跟蹤誤差信號(hào)，就不可能切換作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線。
[0420]圖19示意性地圖示了參考表面上的伺服激光的光斑(根據(jù)多層式記錄介質(zhì)Dsc3的旋轉(zhuǎn))的移動(dòng)的狀態(tài)與此時(shí)獲得的SUM信號(hào)、SUM差分信號(hào)和P/P信號(hào)之間的關(guān)系。
[0421]注意，SUM差分信號(hào)是通過對基于伺服激光的反射光獲得的SUM信號(hào)進(jìn)行差分獲得的號(hào)。
[0422]這里，為了便于說明，假定在圖19中的所有凹坑形成允許位置中形成凹坑。[0423]如所圖示，隨著伺服激光的束斑(根據(jù)多層式記錄介質(zhì)Dsc3的旋轉(zhuǎn))的移動(dòng)，SUM信號(hào)的信號(hào)電平在與A-F的各個(gè)凹坑的在凹坑線形成方向上的布置間距相一致的周期內(nèi)到達(dá)它的峰值。換句話說，此SUM信號(hào)表示A-F的各個(gè)凹坑的在凹坑線形成方向上的間隔(形成周期)。
[0424]這里，在此圖所示的示例中，假定束斑沿凹坑線A移動(dòng)。因此，當(dāng)束斑經(jīng)過凹坑A的在凹坑線形成方向上的形成位置時(shí)，SUM信號(hào)的峰值處于最大值。而且，峰值趨向于從凹坑B的形成位置至凹坑D的形成位置逐漸減小。其后，峰值改變?yōu)橼呄蛴诎窗伎覧的形成位置一凹坑F的形成位置的順序增大。當(dāng)束斑再次到達(dá)凹坑A的形成位置時(shí)，峰值變成最大值。換句話說，在上述的凹坑E和F的在凹坑線形成方向上的形成位置中，SUM信號(hào)的峰值受內(nèi)側(cè)相鄰的凹坑線E和F中的凹坑影響。因此，對于凹坑E和F的各個(gè)形成位置，SUM信號(hào)的峰值依次增加。
[0425]此外，對于作為跟蹤誤差信號(hào)的SUM差分信號(hào)和P/P信號(hào)，獲得了如圖所示的各個(gè)波形。
[0426]這里，注意，獲得作為跟蹤誤差信號(hào)的P/P信號(hào)，以表示束斑與用于以預(yù)定間隔“η”彼此遠(yuǎn)離的A-F的各個(gè)凹坑可形成位置的凹坑線之間的相對位置關(guān)系。
[0427]此外，SUM差分信號(hào)表示各個(gè)凹坑線A-F的凹坑形成位置(具體地，凹坑形成允許位置)的在凹坑線形成方向上的間隔。
[0428]因此，基于此SUM差分信號(hào)，能夠獲得時(shí)鐘CLK，該時(shí)鐘CLK用于表示各個(gè)凹坑線A-F的允許位置之間的在凹坑線形成方向上的間隔。
[0429]具體地，此情況下的時(shí)鐘CLK是在與每個(gè)凹坑的中心位置(峰值位置)相對應(yīng)的位置(時(shí)序)處具有上升位置(時(shí)序)的信號(hào)。
[0430]圖20示意性地示出了時(shí)鐘CLK、基于時(shí)鐘CLK生成的各個(gè)選擇器信號(hào)的波形以及形成在參考表面Ref上的各個(gè)凹坑線(的部分)之間的關(guān)系。
[0431]如圖所示，時(shí)鐘CLK是在與每個(gè)凹坑的峰值位置(允許位置)相對應(yīng)的時(shí)序處上升的信號(hào)，并在各個(gè)上升位置之間的中點(diǎn)處具有下降位置。
[0432]可以通過使用從SUM差分信號(hào)生成的時(shí)序信號(hào)(用于表示SUM差分信號(hào)的過零時(shí)序)作為輸入信號(hào)(參考信號(hào))的PPL處理來生成此時(shí)鐘CLK。
[0433]此外，根據(jù)以此方式具有與凹坑A-F的形成間隔相一致的周期的時(shí)鐘CLK，生成了六種類型的選擇器信號(hào)，每種選擇器信號(hào)表示A-F中的每者中的允許位置的時(shí)序。具體地，這些選擇器信號(hào)均是通過將時(shí)鐘CLK的頻率分割至其1/6而生成的。而且，這些選擇器信號(hào)的各自相位被移位1/6周期。換句話說，對于每個(gè)時(shí)序，這些選擇器信號(hào)中均是通過將時(shí)鐘CLK的頻率分割至其1/6而生成的，使得各自的上升時(shí)序被移位1/6周期。
[0434]這些選擇器信號(hào)中的每者是用于表示與A-F中的一者相對應(yīng)的凹坑線中的允許位置的時(shí)序的信號(hào)。在本示例中，生成了這些選擇器信號(hào)，且選擇了任意選擇器信號(hào)。在由所選擇的選擇器信號(hào)表示的周期中根據(jù)Ρ/Ρ信號(hào)執(zhí)行跟蹤伺服控制，且因此，伺服激光的束斑能夠在A-F的凹坑線之中的任意凹坑線上進(jìn)行跟蹤。于是，因此，能夠從A-F的各個(gè)凹坑線之中任意地選擇將要作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線。
[0435]因此，生成了用于表示與A-F相對應(yīng)的凹坑線的允許位置的時(shí)序的各個(gè)選擇器信號(hào)。選擇這些選擇器信號(hào)之中的任意選擇器信號(hào)，且在由所選擇的選擇器信號(hào)表示的周期中根據(jù)跟蹤誤差信號(hào)(P/P信號(hào))來執(zhí)行跟蹤伺服控制。因此，可以實(shí)現(xiàn)以A-F之中的任意凹坑線為目標(biāo)的跟蹤伺服操作。換句話說，通過選擇上述選擇器信號(hào)，可以執(zhí)行用于作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的跟蹤誤差信號(hào)的切換，因此，實(shí)現(xiàn)了作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的切換。
[0436]圖21說明了用于實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)的具體方法。圖21示出了設(shè)置到跟蹤誤差信號(hào)TE的偏移與參考表面Ref上的光斑的移動(dòng)路徑之間的關(guān)系。
[0437]注意，此處提到的跟蹤誤差信號(hào)TE是通過基于上述選擇器信號(hào)對P/P信號(hào)進(jìn)行采樣和保持而獲得的信號(hào)。換句話說，此處提到的跟蹤誤差信號(hào)TE是指用于作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的P/P信號(hào)(跟蹤誤差信號(hào))。
[0438]此圖21示出了光斑通過設(shè)置偏移以凹坑線A —凹坑線B的方式移動(dòng)的狀態(tài)。
[0439]首先，在為實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)而采用順序地切換作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的方法的情況下，預(yù)先確定切換操作(時(shí)序)。在此圖所示的示例中，將作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的切換位置設(shè)定在處于相鄰關(guān)系的凹坑線之間的中點(diǎn)的(在徑向上)位置處。
[0440]這里，當(dāng)實(shí)現(xiàn)某一螺旋間距時(shí)，能夠通過基于參考表面Ref的格式的計(jì)算來預(yù)先確定如下位置，該位置是在為了實(shí)現(xiàn)該螺旋間距時(shí)束斑在盤上應(yīng)當(dāng)通過的位置。因此，從這些可以理解，能夠通過上述計(jì)算來預(yù)先確定束斑到達(dá)相鄰凹坑線之間的中點(diǎn)時(shí)的位置。
[0441]當(dāng)?shù)竭_(dá)作為上述的通過計(jì)算等預(yù)先確定的中點(diǎn)的位置(地址塊的時(shí)鐘)時(shí)，將作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線順序地切換至與已成為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的外側(cè)相鄰的凹坑線。
[0442]另一方面，為了在徑向上移動(dòng)束斑，將具有如圖所示的鋸齒狀波形的偏移設(shè)置到跟蹤誤差信號(hào)TE。通過設(shè)定此偏移的斜率，可以將螺旋間距設(shè)定為任意間距。
[0443]這里，由于如上所述在束斑到達(dá)相鄰的凹坑線之間的中點(diǎn)的時(shí)序處順序地切換作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線，被設(shè)置用于實(shí)現(xiàn)任意螺旋間距的偏移具有如下波形，該波形的極性在每一上述中點(diǎn)處發(fā)生變化。換句話說，在以凹坑線A為目標(biāo)的伺服操作時(shí)，將光斑移動(dòng)至作為上述中點(diǎn)的位置所需要的偏移量可例如為“+α ”，并在以與凹坑線A相鄰的凹坑線B為目標(biāo)的伺服操作時(shí)，所需要的偏移量可例如為“-α ”。因此，在作為束斑到達(dá)上述中點(diǎn)的時(shí)序的切換作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線的時(shí)序處，需要使上述偏移的極性反轉(zhuǎn)。根據(jù)這個(gè)方面，此情況下設(shè)置的偏移的波形是具有上述鋸齒波的波形。
[0444]注意，當(dāng)偏移具有這類波形時(shí)，也能夠基于將要實(shí)現(xiàn)的螺旋間距的信息以及參考表面Ref的格式的信息通過計(jì)算等預(yù)先確定該偏移。
[0445]因此，在將預(yù)先確定的具有鋸齒形波的偏移設(shè)置到跟蹤誤差信號(hào)TE的同時(shí)，在束斑到達(dá)相鄰凹坑線之間的被預(yù)先確定為上述中間點(diǎn)的預(yù)定位置時(shí)的每一時(shí)序處，將作為伺服操作目標(biāo)的凹坑線切換至與已成為目標(biāo)的凹坑線的外側(cè)相鄰的凹坑線。
[0446]因此，可以實(shí)現(xiàn)任意間距的螺旋移動(dòng)。
[0447]通過以類似方式實(shí)現(xiàn)與參考表面Ref的光學(xué)界限值無關(guān)的任意間距的螺旋移動(dòng)，能夠以超出記錄層63的光學(xué)界限值的磁道間距Tp在記錄層63中記錄標(biāo)記線。
[0448]具體地，如同在使用記錄層激光的第一實(shí)施例的情況下，通過在盤每旋轉(zhuǎn)一次(具體地，每旋轉(zhuǎn)角θκ)就執(zhí)行有溝標(biāo)記線的記錄操作與無溝標(biāo)記線的記錄操作之間的切換來執(zhí)行此情況下的針對記錄層63 (期望的半透明記錄膜61)的記錄操作。這是在如下狀態(tài)下執(zhí)行的:以與基于伺服激光的反射光的物鏡55的位置控制一樣的方式來執(zhí)行用于實(shí)現(xiàn)上述任意間距的螺旋移動(dòng)的位置控制。
[0449]因此，能夠?qū)ψ鳛榭捎涗浶凸獗P的多層式記錄介質(zhì)Dsc3執(zhí)行記錄操作，使得有溝磁道(標(biāo)記線)T-g和無溝磁道(標(biāo)記線)T-s以0.27 μ m以下的磁道間距在徑向上交替地布置。
[0450]因此，可以提供在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作的光盤記錄介質(zhì)(因此，能夠適當(dāng)?shù)貙?shí)現(xiàn)更高的記錄密度)。
[0451]注意，在第三實(shí)施例中，基于預(yù)先插入?yún)⒖急砻鍾ef的標(biāo)記信息的檢測的結(jié)果來執(zhí)行在記錄時(shí)是否到達(dá)旋轉(zhuǎn)角判定。
[0452]4-4.記錄-再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0453]參考圖22和23，將對用于執(zhí)行與多層式記錄介質(zhì)Dsc3相對應(yīng)的記錄和再現(xiàn)操作的記錄-再現(xiàn)裝置70的構(gòu)造進(jìn)行說明。
[0454]圖22用于主要說明記錄-再現(xiàn)裝置70中包括的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造。
[0455]具體地，圖22主要示出了第三實(shí)施例中的記錄-再現(xiàn)裝置70中包括的光學(xué)拾取部OP的內(nèi)部構(gòu)造。
[0456]在圖22中，裝載到記錄-再現(xiàn)裝置70中的多層式記錄介質(zhì)Dsc3被設(shè)定為使得其中心孔被夾緊在記錄-再現(xiàn)裝置70中的預(yù)定位置處。多層式記錄介質(zhì)Dsc3被保持在如下狀態(tài):多層式記錄介質(zhì)Dsc3能夠受未圖示的主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)。
[0457]設(shè)置了光學(xué)拾取部0P，以用于向受上述主軸電機(jī)驅(qū)動(dòng)而旋轉(zhuǎn)的多層式記錄介質(zhì)Dsc3照射記錄層激光或伺服激光。
[0458]在光學(xué)拾取部OP中設(shè)置有記錄層激光器51和伺服激光器77。記錄層激光器51是記錄層激光的光源，并用于通過標(biāo)記進(jìn)行信息記錄操作以及進(jìn)行由標(biāo)記記錄的信息的再現(xiàn)操作。伺服激光器77是伺服激光的光源，其通過利用成在參考表面Ref上的位置引導(dǎo)來執(zhí)行位置控制。
[0459]這里，如上所述，記錄層激光和伺服激光具有彼此不同的波長帶。如上所述，在本示例的情況下，記錄層激光的波長為約405nm(所謂的藍(lán)紫色激光)，且伺服激光的波長為約650nm(紅色激光)
[0460]而且,在光學(xué)拾取部OP中設(shè)置有物鏡55。相對于多層式記錄介質(zhì)Dsc3,物鏡55是記錄層激光和伺服激光的輸出端子。
[0461]此外，設(shè)置了記錄層光接收部58和伺服光接收部82。記錄層光接收部58用于從多層式記錄介質(zhì)Dsc3接收記錄層激光的反射光。伺服光接收部82用于從多層式記錄介質(zhì)Dsc3接收伺服激光的反射光。
[0462]此外，在光學(xué)拾取部OP中形成有如下光學(xué)系統(tǒng)，該光學(xué)系統(tǒng)用于將從記錄層激光器51發(fā)出的記錄層激光引導(dǎo)至物鏡55并用于將記錄層激光的來自多層式記錄盤Dsc3并進(jìn)入物鏡5的反射光引導(dǎo)至記錄層光接收部58。
[0463]具體地，從記錄層激光器51發(fā)出的記錄層激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡52變成平行光，并然后進(jìn)入偏振分束器53。偏振分束器53被配置成傳輸以這種方式從記錄層激光器51側(cè)進(jìn)入的記錄層激光。
[0464]穿過偏振分束器53的記錄層激光進(jìn)入由固定透鏡71、可移動(dòng)透鏡72和透鏡驅(qū)動(dòng)部73構(gòu)成的聚焦機(jī)構(gòu)。此聚焦機(jī)構(gòu)被設(shè)置成用于調(diào)整記錄層激光的焦點(diǎn)位置。固定透鏡71是作為更靠近用作光源的記錄層激光器51的透鏡設(shè)定的。可移動(dòng)透鏡72布置成更遠(yuǎn)離記錄層激光器51。聚焦機(jī)構(gòu)以如下方式配置:由透鏡驅(qū)動(dòng)部73在與記錄層激光的光軸相平行的方向上驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)透鏡72偵U。
[0465]穿過形成上述聚焦機(jī)構(gòu)的固定透鏡71和可移動(dòng)透鏡72的記錄層激光被如圖所示的反射鏡74反射。其后，被反射的記錄層激光經(jīng)由1/4波長板75進(jìn)入分光棱鏡76。
[0466]分光棱鏡76具有選擇性反射表面，該選擇性反射表面被配置成反射具有與記錄層激光的波長帶相同的波長帶的光，并傳輸具有其他波長的光。因此，如上所述進(jìn)入的記錄層激光被分光棱鏡76反射。
[0467]經(jīng)由如圖所示的物鏡55向多層式記錄介質(zhì)Dsc3(期望的半透明記錄膜61)照射被分光棱鏡76反射的記錄層激光。
[0468]對于物鏡55，設(shè)置了雙軸致動(dòng)器56，其中雙軸致動(dòng)器56用于保持物鏡55以使其在聚焦方向(靠近或遠(yuǎn)離多層式記錄介質(zhì)Dsc3的方向)或跟蹤方向(與上述聚焦方向正交的方向:盤徑向)上移動(dòng)。
[0469]雙軸致動(dòng)器56包括聚焦線圈和跟蹤線圈。驅(qū)動(dòng)信號(hào)(稍后說明的驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD和TD)分別被提供至聚焦線圈和跟蹤線圈，從而使物鏡55分別在聚焦和跟蹤方向上移位。
[0470]這里，在再現(xiàn)操作時(shí)，如上所述，向多層式記錄介質(zhì)Dsc3照射記錄層激光。據(jù)此，通過多層式記錄介質(zhì)Dsc3(作為再現(xiàn)操作目標(biāo)的半透明記錄膜61)獲得記錄層激光的反射光。這樣獲得的記錄層激光的反射光經(jīng)由物鏡55被引導(dǎo)至分光棱鏡76，并被分光棱鏡76反射。
[0471 ] 記錄層激光的已被分光棱鏡76反射的反射光在穿過1/4波長板75 —反射鏡74 —聚焦機(jī)構(gòu)(可移動(dòng)透鏡72 —固定透鏡71)之后進(jìn)入偏振分束器53。
[0472]記錄層激光的以這種方式進(jìn)入偏振分束器53的反射光穿過1/4波長板75 (向外路徑和返回路徑)。因此，該反射光的偏振方向被旋轉(zhuǎn)90°。因此，記錄層激光的以上述方式進(jìn)入的反射光被偏振分束器53反射。
[0473]記錄層激光的已被偏振分束器53反射的反射光經(jīng)由聚光透鏡57會(huì)聚在記錄層光接收部58的光接收表面上。
[0474]而且，在光學(xué)拾取部OP中，形成有如下光學(xué)系統(tǒng)，該光學(xué)系統(tǒng)用于將從伺服激光器77發(fā)出的伺服激光引導(dǎo)至物鏡55并用于將來自多層式記錄盤Dsc3并進(jìn)入物鏡5的反射光引導(dǎo)至伺服光接收部82。
[0475]如上所述，從伺服激光器77發(fā)出的伺服激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡78變成平行光，并然后進(jìn)入偏振分束器79。偏振分束器79被配置成傳輸以這種方式從伺服激光器77側(cè)進(jìn)入的伺服激光(向外路徑光)。
[0476]穿過偏振分束器79的伺服激光經(jīng)由1/4波長板80進(jìn)入分光棱鏡76。
[0477]如之前所述，分光棱鏡76被配置成反射具有與記錄層激光的波長帶相同的波長帶的光，并傳輸具有上述波長帶之外的波長的光。因此，伺服激光穿過分光棱鏡76，并經(jīng)由物鏡55照射至多層式記錄介質(zhì)Dsc3。
[0478]此外，伺服激光的反射光(來自參考表面Ref的反射光)穿過物鏡55，并經(jīng)由1/4波長板80進(jìn)入偏振分束器79，其中該反射光是以上述方式使伺服激光向多層式記錄介質(zhì)Dsc3照射而獲得的。
[0479]如同在上述記錄激光的情況下，伺服激光的以這種方式從多層式記錄介質(zhì)Dsc3側(cè)進(jìn)入的反射光穿過1/4波長板80兩次(外向路徑和返回路徑)。因此，該反射光的偏振方向被旋轉(zhuǎn)90°。因此，上述被偏振分束器79反射。
[0480]伺服激光的已被偏振分束器79反射的反射光經(jīng)由聚光透鏡81會(huì)聚在伺服光接收部82的光接收表面上。
[0481]注意，事實(shí)上，雖然省略了圖示的說明，但是記錄-再現(xiàn)裝置70包括滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)部，該滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)部用于驅(qū)動(dòng)上述的作為整體的光學(xué)拾取部0P，以使其在跟蹤方向上滑動(dòng)?？梢酝ㄟ^由滑動(dòng)驅(qū)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾取部OP來使激光的照射位置在寬的范圍內(nèi)移位。
[0482]這里，多層式記錄介質(zhì)Dsc3在如之前所述的記錄層63的下層側(cè)具有參考表面Ref0因此，在記錄時(shí)，執(zhí)行物鏡55的聚焦伺服控制，使得伺服激光以這種方式聚焦在記錄層63的下層側(cè)所設(shè)置的參考表面Ref上。而且，關(guān)于記錄層激光，通過基于記錄層激光的反射光執(zhí)行聚焦伺服控制以驅(qū)動(dòng)上述聚焦機(jī)構(gòu)(透鏡驅(qū)動(dòng)部73)，由此進(jìn)入物鏡55的記錄層激光的準(zhǔn)直狀態(tài)被調(diào)整成使得記錄層激光聚焦在形成在參考表面Ref的上層側(cè)的記錄層63中。
[0483]此外，能夠基于形成在作為再現(xiàn)目標(biāo)的半透明記錄膜61中的標(biāo)記線來執(zhí)行再現(xiàn)操作時(shí)的記錄層激光的跟蹤伺服控制。換句話說，能夠通過基于記錄層激光的反射光來控制物鏡55的位置，由此實(shí)現(xiàn)再現(xiàn)操作時(shí)的記錄層激光的跟蹤伺服控制。
[0484]注意，再現(xiàn)操作時(shí)的聚焦伺服控制可以與記錄操作時(shí)的聚焦伺服控制類似。
[0485]圖23示出了第三實(shí)施例的整個(gè)記錄-再現(xiàn)裝置70的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0486]注意，對于光學(xué)拾取部OP的內(nèi)部構(gòu)造，圖23僅提取和示出了圖22所示的構(gòu)造之中的記錄層激光器51、透鏡驅(qū)動(dòng)部73和雙軸致動(dòng)器56。
[0487]在圖23中，在記錄-再現(xiàn)裝置70的光學(xué)拾取部OP的外側(cè)，設(shè)置了記錄處理部83、發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84、矩陣電路34、串?dāng)_消除電路36、再現(xiàn)處理部85、伺服電路41、聚焦驅(qū)動(dòng)器86以及雙軸驅(qū)動(dòng)器46，以作為用于執(zhí)行多層式記錄介質(zhì)Dsc3中的以記錄層63為目標(biāo)的記錄/再現(xiàn)操作、基于形成在記錄層63中的半透明記錄膜61的反射光的聚焦/跟蹤的位置控制等的構(gòu)造。
[0488]記錄處理部83根據(jù)所輸入的記錄數(shù)據(jù)生成記錄調(diào)制碼。具體地，記錄處理部83可例如將誤差校正碼添加至所輸入的記錄數(shù)據(jù)或預(yù)定的記錄調(diào)制碼處理。因此，獲得了記錄調(diào)制碼串，記錄調(diào)制碼串例如可以是以記錄層63為目標(biāo)實(shí)際記錄的“O”和“I”的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串。
[0489]記錄處理部83將基于以這種方式生成的記錄調(diào)制碼串的記錄信號(hào)提供至發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84。
[0490]這里，在本實(shí)施例中，以與上述第一實(shí)施例的情況下的方式類似的方式執(zhí)行單螺旋記錄操作。因此，在再現(xiàn)操作時(shí)，必須每旋轉(zhuǎn)角θκ切換跟蹤伺服操作(以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作)。
[0491]在本示例的情況下，通過預(yù)先將用于表示旋轉(zhuǎn)角0R的標(biāo)記信息記錄在記錄層63(半透明膜61)中并從再現(xiàn)信號(hào)獲得標(biāo)記信息來執(zhí)行再現(xiàn)操作時(shí)的這類旋轉(zhuǎn)角θκ的檢測。[0492]因此，此情況下的記錄處理部83還執(zhí)行標(biāo)記信息的插入處理。
[0493]在記錄操作時(shí)，發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84基于從記錄處理部83輸入的記錄信號(hào)生成激光器驅(qū)動(dòng)信號(hào)D-r，并基于驅(qū)動(dòng)信號(hào)D-r驅(qū)動(dòng)記錄層激光器51以使其發(fā)光。
[0494]這里，經(jīng)配置，根據(jù)來自稍后說明的控制器91的指令，發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84能夠以切換的方式執(zhí)行用于實(shí)現(xiàn)在標(biāo)記之間插入有溝G的狀態(tài)的記錄信號(hào)的生成以及用于實(shí)現(xiàn)在標(biāo)記之間沒有插入溝G的狀態(tài)的記錄信號(hào)的生成，使得有溝磁道T-g和無溝磁道T-s在徑向上交替地布置。
[0495]而且，在再現(xiàn)操作時(shí)，發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84基于控制器91的指令使記錄層激光器51根據(jù)再現(xiàn)功率發(fā)光。
[0496]此情況下的矩陣電路34基于來自作為上述的圖22所示的記錄層光接收部58的多個(gè)光接收元件的光接收信號(hào)DT-sp (輸出電流)生成RF信號(hào)、聚焦誤差信號(hào)FE-r和跟蹤誤差/[目號(hào)TE_r。
[0497]注意，根據(jù)上述說明能夠理解，在記錄操作和再現(xiàn)操作時(shí)均利用了聚焦誤差信號(hào)FE_r。
[0498]另一方面，僅在再現(xiàn)操作時(shí)利用了跟蹤誤差信號(hào)TE-r。
[0499]這些聚焦誤差信號(hào)FE-r和跟蹤誤差信號(hào)TE_r被供至伺服電路41。
[0500]此外，矩陣電路34中獲得的RF信號(hào)在串?dāng)_消除電路36中經(jīng)過串?dāng)_消除處理，并其后被提供至再現(xiàn)處理部85。
[0501]再現(xiàn)處理部85對應(yīng)于數(shù)據(jù)檢測處理部35和與上面圖10所述的編碼/解碼部37中的再現(xiàn)操作相關(guān)的處理部的組合。具體地，再現(xiàn)處理部85基于PRML檢測方法至少生成二進(jìn)制數(shù)據(jù)串、執(zhí)行二進(jìn)制數(shù)據(jù)串的再現(xiàn)數(shù)據(jù)的解碼處理，并生成時(shí)鐘。
[0502]這里，再現(xiàn)處理部85中獲得的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串被提供至控制器9，以檢測用于表示旋轉(zhuǎn)角θκ的標(biāo)記信號(hào)。
[0503]以與圖10所示的伺服電路41的方式類似的方式，伺服電路41基于聚焦誤差信號(hào)FE-r生成聚焦伺服信號(hào)FS-r。而且，伺服電路41執(zhí)行處理，從而生成能夠以不同的方式執(zhí)行有溝磁道T-g與無溝磁道T-c之間的跟蹤伺服操作的跟蹤伺服信號(hào)TS-r，以作為再現(xiàn)時(shí)的跟蹤伺服信號(hào)TS-r。
[0504]具體地，根據(jù)在再現(xiàn)操作時(shí)來自控制器91的指令，以切換的方式，伺服電路41基于通過對跟蹤誤差信號(hào)TE-r執(zhí)行極性反轉(zhuǎn)或偏移而獲得的信號(hào)來執(zhí)行跟蹤伺服信號(hào)TS-r的生成，并執(zhí)行跟蹤誤差信號(hào)TE-r本身(未經(jīng)過上述極性反轉(zhuǎn)或上述偏移的跟蹤誤差信號(hào)TE-r)的生成。
[0505]在伺服電路41中生成的聚焦伺服信號(hào)FS-r被提供至聚焦驅(qū)動(dòng)器86。聚焦驅(qū)動(dòng)器86基于聚焦伺服信號(hào)FS-r生成聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD-r，并基于聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD_r驅(qū)動(dòng)透鏡驅(qū)動(dòng)部73。
[0506]因此，實(shí)現(xiàn)了用于記錄層激光的伺服控制。
[0507]此外，在伺服電路41中生成的跟蹤伺服信號(hào)TS-r被提供至稍后說明的開關(guān)SW。
[0508]另外，在記錄-再現(xiàn)裝置70中，設(shè)置了任意間距螺旋移動(dòng)控制部87、聚焦誤差信號(hào)生成部89和聚焦伺服電路90，以作為用于伺服激光的反射光的信號(hào)處理系統(tǒng)。
[0509]任意間距螺旋移動(dòng)控制部87基于來自(作為圖22所示的伺服光接收部82的)多個(gè)光接收元件的光接收信號(hào)DT-sv來生成用于實(shí)現(xiàn)參考圖19-21的任意間距螺旋移動(dòng)的跟蹤伺服信號(hào)TS-sv。
[0510]注意，在上述參考文獻(xiàn)5或6中披露了用于以這種方式實(shí)現(xiàn)任意間距螺旋移動(dòng)的任意間距螺旋移動(dòng)控制部87的具體構(gòu)造，因此，這里省略了對其的說明。
[0511]根據(jù)上面的說明能夠理解，在本示例的情況下，任意間距螺旋移動(dòng)控制部87被配置成實(shí)現(xiàn)0.22 μ m的間距的螺旋移動(dòng)。
[0512]由任意間距螺旋移動(dòng)控制部87獲得的跟蹤伺服信號(hào)TS-sv被提供至開關(guān)SW。
[0513]這里，設(shè)置了與物鏡55的在跟蹤方向上的位置控制相關(guān)的開關(guān)SW。開關(guān)SW設(shè)置成在記錄操作時(shí)基于由任意間距螺旋移動(dòng)控制部87獲得的跟蹤伺服信號(hào)TS-sv執(zhí)行位置控制，并設(shè)置成在再現(xiàn)操作時(shí)基于由伺服電路41中獲得的跟蹤伺服信號(hào)TS-r執(zhí)行位置控制。
[0514]具體地，開關(guān)SW在記錄操作時(shí)根據(jù)控制器91作出指令選擇性地輸出跟蹤伺服信號(hào) TS-sv。
[0515]此外，開關(guān)SW在再現(xiàn)操作時(shí)根據(jù)控制器91作出指令選擇性地輸出跟蹤伺服信號(hào)TS-r。
[0516]因此，可以實(shí)現(xiàn)記錄操作時(shí)的作為任意間距螺旋移動(dòng)控制的跟蹤伺服控制與再現(xiàn)操作時(shí)的基于記錄層激光的反射光的跟蹤伺服控制之間的切換。
[0517]從開關(guān)SW選擇性地輸出的跟蹤伺服信號(hào)TS被提供至稍后說明的雙軸驅(qū)動(dòng)器46。
[0518]此外，聚焦誤差信號(hào)生成部89基于來自伺服光接收部82的光接收信號(hào)DT_sv生成聚焦誤差信號(hào)FE-sv。聚焦伺服電路90對聚焦誤差信號(hào)FE-sv執(zhí)行用于生成伺服信號(hào)的濾波處理，并生成聚焦伺服信號(hào)FS-sv。
[0519]由聚焦伺服電路90獲得的聚焦伺服信號(hào)FS-sv被提供至雙軸驅(qū)動(dòng)器46。
[0520]雙軸驅(qū)動(dòng)器46基于從開關(guān)SW提供的跟蹤伺服信號(hào)TS-sv和從聚焦伺服電路90提供的聚焦伺服信號(hào)FS-sv分別生成跟蹤驅(qū)動(dòng)信號(hào)TD和聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD-sv。雙軸驅(qū)動(dòng)器46基于這些驅(qū)動(dòng)信號(hào)驅(qū)動(dòng)雙軸致動(dòng)器56的跟蹤線圈和聚焦線圈。
[0521]控制器91可例如由微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成?？刂破?1可例如通過根據(jù)存儲(chǔ)在內(nèi)置ROM中的程序等執(zhí)行控制和處理，由此執(zhí)行記錄-再現(xiàn)裝置70的整體控制。
[0522]例如，控制器91可執(zhí)行處理，以在記錄操作時(shí)/再現(xiàn)操作時(shí)執(zhí)行與物鏡55的跟蹤伺服控制相關(guān)的切換。具體地，控制器91在記錄操作時(shí)使開關(guān)SW選擇跟蹤伺服信號(hào)TS-sv，并執(zhí)行用于實(shí)現(xiàn)上述的任意間距螺旋移動(dòng)的跟蹤伺服控制。此外，在再現(xiàn)操作時(shí)，控制器91使開關(guān)SW選擇跟蹤伺服信號(hào)TS-r并基于記錄層激光的反射光執(zhí)行跟蹤伺服控制。
[0523]此外，基于旋轉(zhuǎn)角Θ R的檢測處理結(jié)果，控制器91執(zhí)行用于在記錄操作時(shí)實(shí)現(xiàn)有溝磁道T-g的記錄操作與無溝磁道T-s的記錄操作之間的切換的處理，并執(zhí)行用于在再現(xiàn)操作時(shí)以不同的方式實(shí)現(xiàn)跟蹤伺服操作的處理。
[0524]這里，根據(jù)上面的說明能夠理解，在本示例中，通過檢測記錄在參考表面Ref上的標(biāo)記信息來執(zhí)行記錄操作時(shí)的旋轉(zhuǎn)角檢測。而且，通過檢測記錄在記錄層63 (作為再現(xiàn)操作目標(biāo)的半透明記錄膜61)中的標(biāo)記信息來執(zhí)行再現(xiàn)操作時(shí)的旋轉(zhuǎn)角檢測。
[0525]在記錄操作時(shí)，根據(jù)從任意間距螺旋移動(dòng)控制部87輸入的用于再現(xiàn)信號(hào)的凹坑線，控制器91執(zhí)行上述的標(biāo)記信息的檢測。基于此結(jié)果，控制器91指示記錄處理部83每旋轉(zhuǎn)角θ Ε執(zhí)行有溝磁道T-g的記錄操作與無溝磁道T-S的記錄操作之間的切換。
[0526]注意，用于確認(rèn)，如參考上述參考文獻(xiàn)5和6所能夠看出，任意間距螺旋移動(dòng)控制部87被配置成獲得用于伺服目標(biāo)凹坑線的再現(xiàn)信號(hào)，以用于讀取記錄在參考表面Ref上的地址信息。
[0527]此外，在再現(xiàn)操作時(shí)，根據(jù)上述的從再現(xiàn)處理部85輸入的二進(jìn)制數(shù)據(jù)串執(zhí)行標(biāo)記信息的檢測。基于此結(jié)果，將用于以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作的信號(hào)提供至用于執(zhí)行切換的伺服電路41。
[0528]通過使用上述記錄-再現(xiàn)裝置70，可以針對作為可記錄型光盤的多層式記錄介質(zhì)Dsc3執(zhí)行記錄操作，使得有溝磁道(標(biāo)記線)T-g和無溝磁道(標(biāo)記線)T-s以0.27 μ m以下的磁道間距在徑向上交替地布置。此外，根據(jù)記錄-再現(xiàn)裝置70，可以適當(dāng)?shù)貓?zhí)行根據(jù)多層式記錄介質(zhì)Dsc3的跟蹤伺服操作，其中在多層式記錄介質(zhì)Dsc3中，以上述方式以超出光學(xué)界限值的間距布置有磁道T。
[0529]以這種方式，根據(jù)第三實(shí)施例，也可以實(shí)現(xiàn)能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作的光盤系統(tǒng)。于是，因此，可以進(jìn)一步提高信息記錄密度和進(jìn)一步擴(kuò)大記錄容量。
[0530]5.第四實(shí)施(消除任意間距螺旋移動(dòng)控制的必要性的方法)
[0531]第四實(shí)施例提出了在如同第三實(shí)施例中執(zhí)行以如下可記錄型光盤為目標(biāo)的記錄操作的情況下使如同第三實(shí)施例中的任意間距螺旋移動(dòng)控制變成不必要的方法，其中在該可記錄型光盤中，通過利用形成在參考表面Ref上的位置引導(dǎo)執(zhí)行位置控制來省略記錄層63中的位置引導(dǎo)。
[0532]在下文中，在這類第四實(shí)施例中，提出了第一方法和第二方法這兩種方法。
[0533]5-1.第一方法
[0534]首先，作為前提，在第四實(shí)施例中使用了如下可記錄型光盤，在該可記錄型光盤中，形成在參考表面Ref上的位置引導(dǎo)是溝，且溝以不超出光學(xué)界限值的磁道間距形成在參考表面Ref上。
[0535]具體地，在第四實(shí)施例中，與在第三實(shí)施例中使用的多層式記錄介質(zhì)Dsc3相比，使用了如下光盤記錄介質(zhì)，在該光盤記錄介質(zhì)中，將上述變化應(yīng)用至參考表面Ref的結(jié)構(gòu)，且其他結(jié)構(gòu)與第三實(shí)施例中的結(jié)構(gòu)類似。
[0536]在下文中，將這類在第四實(shí)施例中使用的光盤記錄介質(zhì)稱為“多層式記錄介質(zhì)Dsc4”。
[0537]然而，如上所述，在將參考表面Ref上的磁道間距設(shè)定為處于不超出光學(xué)界限值的范圍內(nèi)的情況下，不可能僅通過簡單地根據(jù)參考表面Ref上的磁道執(zhí)行伺服操作來以超出記錄層63中的光學(xué)界限值的磁道間距Tp布置形成在記錄層63中的標(biāo)記線。
[0538]因此，考慮到這點(diǎn)，采用了如下記錄方法。
[0539]圖24說明了第四實(shí)施例的第一方法。
[0540]圖24示意性地圖示了多層式記錄介質(zhì)Dsc4的輪廓剖面結(jié)構(gòu)(僅提取并示出了參考表面Ref和記錄層63中的半透明記錄層61)與經(jīng)由物鏡55照射至多層式記錄介質(zhì)Dsc4的每束激光之間的關(guān)系。
[0541]參考此圖24能夠看出，在第四實(shí)施例中，照射兩束激光(第一記錄層激光和第二記錄層激光)以作為記錄層激光。
[0542]在本示例的情況下，第一記錄層激光用于有溝磁道T-g的記錄操作，且第二記錄層激光用于無溝磁道T-s的記錄操作。
[0543]這里，如圖所示，將形成在作為記錄操作目標(biāo)的半透明記錄膜61上的第一記錄層激光和第二記錄層激光的束斑分別表不為第一光斑Sp-1和第二光斑Sp-2。在第一方法中，將第一光斑Sp-1與第二光斑Sp-2之間的在徑向上的間隔Dst設(shè)定為參考表面Ref上的磁道間距的1/2。
[0544]此外，在第一方法中，通過控制物鏡55的位置來執(zhí)行記錄操作時(shí)的跟蹤伺服控制，使得伺服激光的束斑基于伺服激光的反射光來跟蹤參考表面Ref上的溝。
[0545]在第一方法中，在執(zhí)行光斑間距Dst的這類設(shè)定和這類跟蹤伺服控制的狀態(tài)下，同時(shí)并行地執(zhí)行使用第一記錄層激光的有溝磁道T-g的記錄操作和使用第二記錄層激光的無溝磁道T-s的記錄操作。
[0546]為確認(rèn)，圖25A和圖25B均示出了通過這類第一方法執(zhí)行記錄操作的情況下的狀態(tài)。
[0547]注意，在圖25A和25B中，灰線表示參考表面Ref上的溝，且黑線表示記錄在半透明記錄膜61中的磁道T (實(shí)線表示有溝磁道T-g，且虛線表示無溝磁道T-s)。
[0548]首先，注意，為確認(rèn)，在此情況下，使兩束記錄層激光中的一者照射至多層式記錄介質(zhì)Dsc4，使得其光軸與伺服激光的光軸相一致。在本示例中，假定第一記錄層激光具有與伺服激光的光軸相一致的光軸。
[0549]如上所述，在此情況下的記錄操作時(shí)，以如下方式執(zhí)行物鏡55的跟蹤伺服控制:伺服光斑Sp-s跟隨參考表面Ref上的溝(參見圖25A)。
[0550]此外，在這類跟蹤伺服控制下，同時(shí)執(zhí)行使用第一記錄層激光(第一光斑Sp-1)的有溝磁道T-g的記錄操作和使用第二記錄層激光(第二光斑Sp-2)的無溝磁道T-s的記錄操作。因此，在如圖25B中的黑線所示的作為記錄目標(biāo)的半透明記錄膜61中形成磁道T。具體地，在此情況下，以如下方式執(zhí)行操作:以參考表面Ref上的磁道間距的1/2 (圖中的灰線所表示的間距)的間距布置磁道T。
[0551]根據(jù)如上所述的第一方法，可以在作為記錄操作目標(biāo)的半透明記錄膜61中以參考表面Ref上的磁道間距的1/2的間距來布置有溝磁道T-g和無溝磁道T-s。
[0552]例如，在情況下，在使參考表面Ref上的磁道間距為約0.500 μ m(設(shè)定了使參考表面Ref上的光學(xué)界限值為約0.500 μ m的光學(xué)條件)的情況下，將半透明記錄膜61中的磁道間距Tp設(shè)定為參考表面Ref上的磁道間距的一半，即0.25 μ m。因此，可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的光盤記錄介質(zhì)。
[0553]注意，在上面的說明中，以伺服光斑Sp-2跟隨參考表面Ref上的溝的方式執(zhí)行物鏡55的跟蹤伺服控制。然而，不言而喻，在執(zhí)行跟蹤伺服控制使得伺服光斑Sp-2跟隨參考表面Ref中的岸區(qū)的情況下，也可獲得類似的結(jié)果。
[0554]此外，在上面的說明中，例示了溝被形成為參考表面Ref上的位置引導(dǎo)的情況。然而，參考表面Ref上的位置引導(dǎo)可由凹坑線或標(biāo)記線構(gòu)成。
[0555]這里，根據(jù)上述第一方法，在記錄層63中執(zhí)行如同第二實(shí)施例中的雙螺旋記錄操作。因此，在再現(xiàn)記錄層63中所記錄的標(biāo)記時(shí)，如果如同在第二實(shí)施例中使用兩個(gè)光束來執(zhí)行再現(xiàn)操作，那么就不必如同在第一和第三實(shí)施例中以不同的方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。
[0556]具體地，可通過使用第一記錄層激光(用作用于再現(xiàn)有溝磁道T-g的第一再現(xiàn)激光)和第二記錄層激光(用作用于再現(xiàn)無溝磁道T-s的第二再現(xiàn)激光)來執(zhí)行此情況下的再現(xiàn)操作。因此，通過根據(jù)基于第一記錄層激光的反射光生成的跟蹤誤差信號(hào)TE執(zhí)行物鏡55的位置控制，使第一記錄層激光和第二記錄層激光分別跟隨有溝磁道T-g和無溝磁道T-s。因此，可以同時(shí)讀取有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的記錄信息。
[0557]5-2.記錄-再現(xiàn)裝置的構(gòu)造
[0558]參考圖26和27，將對上述第一方法中的用于實(shí)現(xiàn)記錄-再現(xiàn)操作的記錄-再現(xiàn)裝置95進(jìn)行說明。
[0559]圖26是用于主要說明記錄-再現(xiàn)裝置95中包括的光學(xué)系統(tǒng)的構(gòu)造的圖。具體地，圖26主要示出了記錄-再現(xiàn)裝置95中包括的光學(xué)拾取部0P’的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0560]通過與上述圖22的對比能夠看出，通過比較，此情況下的光學(xué)拾取部0P’與第三實(shí)施例的情況下的光學(xué)拾取部OP的不同之處在于將兩個(gè)激光器(作為第一記錄層激光的光源的第一記錄層激光器51-1和作為第二記錄層激光的光源的第二記錄層激光器51-2)設(shè)置為記錄層激光器51，及將用于接收第一記錄層激光的反射光的第一記錄層光接收部58-1和用于接收第二記錄層激光的反射光的第二記錄層光接收部58-2設(shè)置為記錄層光接收部58。
[0561]根據(jù)上面的說明能夠理解，此情況下的光學(xué)拾取部0P’(光學(xué)系統(tǒng))被設(shè)計(jì)為使得第一記錄層激光的第一光斑Sp-1與第二記錄層激光的第二光斑Sp-2之間的光斑間隔Dst為參考表面Ref上的磁道間距的1/2。
[0562]此外，第一記錄層光接收部58-1包括分割檢測器，并被配置成分開地接收第一記錄層激光的反射光，使得能夠在如之前所述的再現(xiàn)時(shí)基于第一記錄層激光的反射光來執(zhí)行跟蹤誤差信號(hào)TE-r的生成。
[0563]圖27示出了整個(gè)記錄-再現(xiàn)裝置95的內(nèi)部構(gòu)造示例。
[0564]注意，對于光學(xué)拾取部0P’的內(nèi)部構(gòu)造，圖27僅提取和示出了圖26所示的構(gòu)造之中的第一記錄層激光器51-1、第二記錄層激光器51-2、透鏡驅(qū)動(dòng)部73和雙軸致動(dòng)器56。
[0565]如從與上述圖23的對比能夠看出，通過比較，對于光學(xué)拾取部0P’的外側(cè)的構(gòu)造，此情況下的記錄-再現(xiàn)裝置95與第三實(shí)施例中的記錄-再現(xiàn)裝置70的不同之處在于設(shè)置了記錄處理部83’來代替記錄處理部83，設(shè)置了發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-1和發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-2作為發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84，設(shè)置了記錄層矩陣電路34-r來代替矩陣電路34，新設(shè)置了 RF信號(hào)生成電路59，設(shè)置了串?dāng)_消除電路36-1和串?dāng)_消除電路36-2作為串?dāng)_消除電路36，設(shè)置了再現(xiàn)處理部85’來代替再現(xiàn)處理部85，設(shè)置了記錄層伺服電路41’來代替伺服電路41，以及設(shè)置了伺服光矩陣電路34-sv和伺服光伺服電路96來代替任意間距螺旋移動(dòng)控制部87、聚焦誤差信號(hào)生成部89和聚焦伺服電路90。
[0566]與第二實(shí)施例的情況下的記錄波形生成部3’ 一樣，記錄處理部83’將所輸入的記錄數(shù)據(jù)分割成兩個(gè)系統(tǒng)，并基于所分割的數(shù)據(jù)中的一者生成記錄信號(hào)并基于另一者生成記錄信號(hào)。
[0567]在如之前所述的本示例的情況下，第一記錄層激光側(cè)用于有溝磁道T-g的記錄操作，且第二記錄層激光側(cè)用于無溝磁道T-s的記錄操作。因此，此外情況下的記錄處理部83’生成如下信號(hào)，該信號(hào)能夠根據(jù)所輸入的作為被提供至發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-1側(cè)的記錄信號(hào)的記錄數(shù)據(jù)將溝G嵌入在標(biāo)記之間。
[0568]注意，此情況下，對于分割記錄數(shù)據(jù)的方法，還可例如包括以預(yù)定數(shù)據(jù)為單位將記錄數(shù)據(jù)分配至發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-1側(cè)和發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-2側(cè)的方法等。
[0569]發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-1和發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-2根據(jù)從記錄處理部83’提供的記錄信號(hào)分別生成激光器驅(qū)動(dòng)信號(hào)D-rl和激光器驅(qū)動(dòng)信號(hào)D-r2。發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84_1和發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84_2因而分別驅(qū)動(dòng)光學(xué)拾取部0P’中的第一記錄層激光器55-1和第二記錄層激光器55-2，以使它們基于這些驅(qū)動(dòng)信號(hào)發(fā)光。
[0570]此外，根據(jù)來自稍后說明的控制器97的在再現(xiàn)時(shí)作出的指令，這些發(fā)光驅(qū)動(dòng)部84-1和84-2分別驅(qū)動(dòng)第一記錄層激光器55-1和第二記錄層激光器55_2，以使它們發(fā)出具有再現(xiàn)功率的光。
[0571]與之前所述矩陣電路34 —樣，記錄層矩陣電路34-r基于作為第一記錄層光接收部58-1的多個(gè)光接收元件的光接收信號(hào)DT-rl生成RF信號(hào)、聚焦誤差信號(hào)FE_r和跟蹤誤差?目號(hào)TE-r ο
[0572]這里，為了與基于第二記錄層激光的反射光生成的RF信號(hào)區(qū)別開來，在下文中，將由第一記錄層矩陣電路34-r生成的RF信號(hào)稱為“第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1”。
[0573]由記錄層矩陣電路34-r獲得的聚焦誤差信號(hào)FE_r和跟蹤誤差信號(hào)TE_r被提供至記錄層伺服電路41’。 [0574]由記錄層矩陣電路34-r獲得的第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1經(jīng)過第一串?dāng)_消除電路36-1的串?dāng)_消除處理，并被提供至再現(xiàn)處理部85’。
[0575]此外，RF信號(hào)生成電路59基于由第二記錄層光接收部58_2獲得的光接收信號(hào)DT-r2生成RF信號(hào)(在下文中，被稱為“第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2”)。
[0576]由RF信號(hào)生成電路59獲得的第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2經(jīng)過第二串?dāng)_消除電路36-2的串?dāng)_消除處理，并被提供至再現(xiàn)處理部85’。
[0577]再現(xiàn)處理部85’對第一再現(xiàn)信息信號(hào)RF-1和第二再現(xiàn)信息信號(hào)RF-2執(zhí)行諸如二進(jìn)制化處理和預(yù)定解碼處理等處理，并從而獲得再現(xiàn)數(shù)據(jù)。
[0578]記錄層伺服電路41’對聚焦誤差信號(hào)FE-r和跟蹤誤差信號(hào)TE_r執(zhí)行用于生成伺服信號(hào)的濾波處理，并分別生成聚焦伺服信號(hào)FS-r和跟蹤伺服信號(hào)TS-r。
[0579]聚焦伺服信號(hào)FS-r被提供至聚焦驅(qū)動(dòng)器86，且跟蹤伺服信號(hào)TS_r被提供至開關(guān)
Sffo
[0580]聚焦驅(qū)動(dòng)器86通過使用基于聚焦伺服信號(hào)FS-r生成的聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD_r來驅(qū)動(dòng)透鏡驅(qū)動(dòng)部73。因此，以如下方式執(zhí)行聚焦伺服控制:第一記錄層激光和第二記錄層激光聚焦在作為記錄/再現(xiàn)操作目標(biāo)的半透明記錄膜61上。
[0581]此外，對于伺服激光側(cè)的信號(hào)處理系統(tǒng)，伺服光矩陣電路34-sv基于伺服激光的反射光來生成聚焦誤差信號(hào)FE-sv，以及基于來自作為伺服光接收部82的多個(gè)光接收元件的光接收信號(hào)DT-sv來生跟蹤誤差信號(hào)TE-sv。
[0582]伺服光伺服電路96對聚焦誤差信號(hào)FE-sv和跟蹤誤差信號(hào)TE_sv執(zhí)行用于生成伺服信號(hào)的濾波處理，并生成聚焦伺服信號(hào)FS-sv和跟蹤伺服信號(hào)TS-sv。
[0583]如圖所示，聚焦伺服信號(hào)FS-sv被提供至雙軸驅(qū)動(dòng)器46，且跟蹤伺服信號(hào)TS-sv被提供至開關(guān)SW。
[0584]開關(guān)SW基于來自控制器97的指令將從記錄層伺服電路41’側(cè)輸入的跟蹤伺服信號(hào)TS-r和從伺服光伺服電路96側(cè)輸入的跟蹤伺服信號(hào)TS-sv中的一者選擇性地輸出至雙軸驅(qū)動(dòng)器46。
[0585]根據(jù)上面的說明能夠理解，物鏡55的跟蹤伺服控制是基于記錄操作時(shí)的伺服激光的反射光(即，參考表面Ref的反射光)來執(zhí)行的，并且是基于再現(xiàn)操作時(shí)的第一記錄層激光的反射光來執(zhí)行的。因此，開關(guān)SW基于來自控制器97的指令在記錄操作時(shí)選擇性地輸出跟蹤伺服信號(hào)TS-sv，并在再現(xiàn)操作時(shí)選擇性地輸出跟蹤伺服信號(hào)TS-r。
[0586]雙軸驅(qū)動(dòng)器46基于根據(jù)聚焦伺服信號(hào)FS-sv和(從開關(guān)SW輸入的)跟蹤伺服信號(hào)TS生成的聚焦驅(qū)動(dòng)信號(hào)FD-SV和跟蹤驅(qū)動(dòng)信號(hào)TD來分別驅(qū)動(dòng)雙軸致動(dòng)器56的聚焦線圈和跟蹤線圈。
[0587]因此，實(shí)現(xiàn)了用于物鏡55的聚焦伺服控制以及跟蹤伺服控制。
[0588]控制器97可例如由微型計(jì)算機(jī)構(gòu)成?？刂破?7根據(jù)存儲(chǔ)在內(nèi)置ROM中的程序等執(zhí)行控制和處理，并從而控制整個(gè)記錄-再現(xiàn)裝置95。
[0589]特別地，此情況下的控制器97執(zhí)行處理，以在記錄操作時(shí)/再行操作時(shí)執(zhí)行與物鏡55的跟蹤伺服控制相關(guān)的切換。具體地，在再現(xiàn)操作時(shí)，控制器97是開關(guān)SW選擇跟蹤伺服信號(hào)TS-sv，并執(zhí)行物鏡55的基于參考表面Ref的反射光的跟蹤伺服控制。另外，在再現(xiàn)操作時(shí)，控制器97使開關(guān)SW選擇跟蹤伺服信號(hào)TS-r并執(zhí)行第一記錄層激光的反射光的跟蹤伺服控制。
[0590]通過這類記錄-再現(xiàn)裝置95，可以針對作為可記錄型光盤的多層式記錄介質(zhì)Dsc4執(zhí)行記錄操作，使得有溝磁道(標(biāo)記線)T-g和無溝磁道(標(biāo)記線)T-s以0.27 μ m以下的磁道間距在徑向上交替地布置。另外，根據(jù)記錄-再現(xiàn)裝置95，能夠以這種方式適當(dāng)?shù)貓?zhí)行與多層式記錄介質(zhì)Dsc4相對應(yīng)的跟蹤伺服操作，其中在多層式記錄介質(zhì)Dsc4中，磁道T以超出光學(xué)界限值的間距布置。
[0591]以這種方式，根據(jù)第四實(shí)施例，也可以實(shí)現(xiàn)能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作的光盤系統(tǒng)。因此，可以進(jìn)一步提高信息記錄密度和進(jìn)一步擴(kuò)大記錄容量。
[0592]5-3.第二方法
[0593]這里，如上所述，將參考表面Ref的光學(xué)條件設(shè)定為與DVD的光學(xué)條件類似的光學(xué)條件時(shí)，理論光學(xué)界限值為約0.500 μ m。換句話說，這意味著實(shí)際光學(xué)界限值變成
0.500 μ m以上。在某些情況下，這意味著即使采用上述第一方法，具體地，采用使記錄層63中的磁道間距Tp為參考表面Ref上的磁道間距的1/2的方法，也可能不能使記錄層63中的磁道間距Tp為0.27 μ m以下。
[0594]因此，在第四實(shí)施例中提出了如下第二方法。
[0595]注意，在下面的示例中，可例如將參考表面Ref上的磁道間距設(shè)定為約0.800 μ m。
[0596]另外，注意，為確認(rèn)，第二方法中的作為目標(biāo)的光盤記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)與在上述第一方法中使用的多層式記錄介質(zhì)Dsc4的類似。
[0597]圖28說明了第四實(shí)施例中的第二方法。
[0598]圖如28所示，在第二方法中，將第一記錄層激光的第一光斑Sp-1與第二記錄層激光的第二光斑Sp-2之間的光斑間隔Dst設(shè)定為參考表面Ref上的磁道間距的1/4。
[0599]在此情況下，如上所述，將參考表面Ref上的磁道間距設(shè)定為約0.800 μ m。因此，光斑間距Dst為0.200 μ m。
[0600]注意,如從圖中所清楚地看出，如同上述第一實(shí)施例,在此情況下,也使第一記錄層激光側(cè)的光軸與伺服激光的光軸相一致。
[0601]在第二方法中，在設(shè)定了第一記錄層激光和第二記錄層激光具有的這種光斑間隔Dst的情況下,通過如下所述的方法來針對記錄層63執(zhí)行標(biāo)記記錄操作。
[0602]圖29A、29B、30A和30B均說明了第二方法中的具體記錄操作。
[0603]注意，如同在上述圖25A和25B中，在這些圖29A、29B、30A和30B中，灰線表示形成在參考表面Ref上的溝(位置引導(dǎo):磁道)，且黑線表示形成在作為目標(biāo)的半透明記錄膜61上的磁道T。具體地,實(shí)線表示有溝磁道T-g,且虛線表示無溝磁道T-s。
[0604]首先，作為前提，第二方法與第一方法相似之處在于第一記錄層激光和第二記錄層激光的兩束用于同時(shí)并行地執(zhí)行有溝磁道T-g的記錄操作和無溝磁道T-s的記錄操作。
[0605]第二方法與第一方法不同之處在于，既在第一跟蹤伺服控制模式中也在第二跟蹤伺服控制模式中執(zhí)行使用兩束的有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的這種并行的記錄操作。在第一跟蹤伺服控制模式中，使伺服光斑Sp-s跟蹤參考表面Ref上的溝(位置引導(dǎo))。在第二跟蹤伺服控制模式中，使伺服光斑Sp-s跟蹤參考表面Ref上的岸區(qū)(位置引導(dǎo)之間的區(qū)域)。
[0606]具體地，在此情況下的記錄操作中，首先，如圖29A — 29B的轉(zhuǎn)變所示，在上述的以參考表面Ref上的溝為目標(biāo)的第一跟蹤伺服控制模式中，通過使用第一和第二記錄層激光來執(zhí)行有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的并行記錄操作。
[0607]此外，在執(zhí)行該記錄操作之后，如圖30A — 30B的轉(zhuǎn)變所示，在上述的以參考表面Ref上的岸區(qū)為目標(biāo)的第二跟蹤伺服控制模式中，通過使用第一和第二記錄層激光來執(zhí)行有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的并行記錄操作。
[0608]通過第二方法中的這種記錄操作，在此情況下可以針對記錄層63執(zhí)行記錄操作，使得有溝磁道(標(biāo)記線)T-g和無溝磁道(標(biāo)記線)T-s以作為參考表面Ref的磁道間距的1/4的磁道間距Tp布置。
[0609]因此，在本示例的情況下，可以實(shí)現(xiàn)約0.200 μ m的磁道間距Tp，且可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的要求0.27 μ m以下的磁道間距Tp的光盤記錄介質(zhì)。
[0610]這里，在被執(zhí)行這種標(biāo)記記錄操作的多層式記錄介質(zhì)Dsc4的再現(xiàn)操作時(shí)，可按照如下方式執(zhí)行跟蹤伺服控制。
[0611]具體地，在此情況下，如同在第一方法中，也將作為第一記錄層激光和第二記錄層激光的兩束用作再現(xiàn)束。
[0612]此外，基于根據(jù)第一記錄層激光的反射光生成的跟蹤誤差信號(hào)TE-r來執(zhí)行物鏡55的跟蹤伺服控制。因此，使第一記錄層激光的第一光斑Sp-1跟隨有溝磁道T-g，且同時(shí)使第二記錄層激光的第二光斑Sp-2跟隨無溝磁道T-s。于是，因此，可以實(shí)現(xiàn)同時(shí)記錄的信息的并行讀取操作。
[0613]在如上所述的第二方法中，也可以實(shí)現(xiàn)能夠在以超出光學(xué)界限值的間距布置磁道T的狀態(tài)下適當(dāng)?shù)貓?zhí)行跟蹤伺服操作的光盤系統(tǒng)。因此，可以進(jìn)一步提高信息記錄密度，且可以進(jìn)一步擴(kuò)大記錄容量。
[0614]注意，在上述第二方法中，以切換的方式，基于跟蹤誤差信號(hào)TE-sv本身來執(zhí)行跟蹤伺服信號(hào)TS-sv的生成，以及基于通過對圖27所示的伺服光伺服電路96中的跟蹤誤差信號(hào)TE-sv執(zhí)行極性反轉(zhuǎn)或偏移(與一圈相對應(yīng)的偏移)而獲得的信號(hào)來執(zhí)行跟蹤伺服信號(hào)TS-sv的生成，由此能夠?qū)崿F(xiàn)在記錄操作時(shí)以參考表面Ref上的溝/岸為目標(biāo)按照不同方式執(zhí)行跟蹤伺服操作。
[0615]另外，能夠通過與第一方法中的記錄-再現(xiàn)裝置95的構(gòu)造類似的構(gòu)造來實(shí)現(xiàn)上面說明的再現(xiàn)時(shí)的伺服方法。
[0616]6.變形例
[0617]在上文中，說明了根據(jù)本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施例。然而，本發(fā)明不應(yīng)當(dāng)限于上述的具體示例。
[0618]例如，在上面的說明中，假定將推挽信號(hào)P/P用作跟蹤誤差信號(hào)。然而，本發(fā)明還例如有利地適用于使用諸如差分推挽(DPP)信號(hào)和差分相位檢測(DPD)信號(hào)等其他跟蹤誤差信號(hào)的情況。
[0619]然而，在第三和第四實(shí)施例中，例示了用于標(biāo)記記錄的激光的波長為約405nm以及伺服激光的波長為約650nm的情況。然而，這些波長不應(yīng)當(dāng)限于所例示的數(shù)值。
[0620]此外，在第二和第四實(shí)施例中，例示了通過使用兩束的用于記錄的激光來執(zhí)行雙螺旋記錄操作的情況。然而，可將用于記錄的三束以上的用于記錄的激光來執(zhí)行三螺旋以上的螺旋記錄操作。
[0621]另外，在第二和第四實(shí)施例中，例示了在再現(xiàn)操作時(shí)并行地讀取通過使用多個(gè)光束以分開的螺旋的方式記錄的有溝磁道T-g和無溝磁道T-s的記錄信息的方法。然而，不言而喻，可以通過僅使用一束作為再現(xiàn)束來執(zhí)行讀取操作。在此情況下，以不同的方式執(zhí)行有溝磁道T-g與無溝磁道T-s之間的伺服操作。
[0622]具體地，當(dāng)讀取有溝磁道T-g上的作為再現(xiàn)操作的目標(biāo)的數(shù)據(jù)時(shí)，執(zhí)行以該有溝磁道T-g為目標(biāo)的跟蹤伺服操作(在本示例的情況下，使用跟蹤誤差信號(hào)TE本身的跟蹤伺服操作)，以讀取作為目標(biāo)的數(shù)據(jù)。而且，當(dāng)讀取無溝磁道T-s上的作為再現(xiàn)操作的目標(biāo)的數(shù)據(jù)時(shí)，執(zhí)行以該無溝磁道T-s為目標(biāo)的跟蹤伺服操作(在本示例的情況下，使用通過在跟蹤誤差信號(hào)TE上執(zhí)行極性反轉(zhuǎn)或偏移而獲得的跟蹤伺服操作)，以讀取作為目標(biāo)的數(shù)據(jù)。
[0623]此外，在第三和第四實(shí)施例中，參考表面Ref被設(shè)置在記錄層63下層側(cè)。然而，相反，參考表面Ref可被設(shè)置在記錄層63的上層側(cè)。在這類情況下，對于反射膜65，膜具有如下性能:選擇性地傳輸具有與記錄層激光的波長帶相同的波長帶的光以及反射具有上述波長帶之外的波長。
[0624]此外，本發(fā)明可采取下述的構(gòu)造。
[0625](I) 一種曝光裝置，其包括:
[0626]旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，其用于驅(qū)動(dòng)母盤以使所述母盤旋轉(zhuǎn)；及
[0627]曝光部，其用于在被所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的所述母盤上執(zhí)行曝光操作，以使簡單凹坑線和有溝凹坑線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單凹坑線由布置的凹坑構(gòu)成，且所述有溝凹坑線是通過在凹坑之間插入溝而構(gòu)成的。
[0628](2)如⑴所述的曝光裝置，其中，每當(dāng)所述母盤的旋轉(zhuǎn)角度為預(yù)定的旋轉(zhuǎn)角度時(shí)，所述曝光部在用于所述簡單凹坑線的曝光操作與用于所述有溝凹坑線的曝光操作之間執(zhí)行交替切換。
[0629](3)如(I)所述的曝光裝置，其中，所述曝光部通過使用多個(gè)光束對所述母盤同時(shí)執(zhí)行用于所述簡單凹坑線的曝光操作和用于所述有溝凹坑線的曝光操作。
[0630](4) 一種記錄介質(zhì),其包括:
[0631]簡單磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成；及
[0632]有溝磁道，所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的，
[0633]其中，所述簡單磁道和所述有溝磁道以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置。
[0634](5) 一種記錄裝置,其包括記錄部,所述記錄部用于在記錄介質(zhì)的記錄層上執(zhí)行記錄操作，以使簡單標(biāo)記線和有溝標(biāo)記線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單標(biāo)記線由布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝標(biāo)記線是通過在標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。
[0635](6)如(5)所述的記錄裝置，其中，所述記錄部將標(biāo)記線記錄至所述記錄層，所述記錄層為不具有預(yù)制溝的平面形狀。
[0636](7)如(6)所述的記錄裝置，其還包括:
[0637]光照射部，其向所述記錄介質(zhì)照射伺服激光和記錄激光，所述伺服激光用于獲得來自參考表面的反射光，所述記錄激光用于在所述記錄層上執(zhí)行記錄操作，所述參考表面與所述記錄層一起形成在所述記錄介質(zhì)中，并且所述參考表面包括形成在所述參考表面上的位置引導(dǎo) '及
[0638]位置控制部，其基于根據(jù)所述伺服激光的反射光的接收而得到的光接收信號(hào)來控制向所述記錄介質(zhì)照射的所述記錄激光在跟蹤方向上的照射位置。
[0639](8)如(7)所述的記錄裝置，其中，
[0640]所述光照射部用于通過物鏡向所述記錄介質(zhì)照射所述伺服激光，所述物鏡設(shè)置成由所述伺服激光和所述記錄激光共用，且
[0641]所述位置控制部基于根據(jù)所述伺服激光的所述光接收信號(hào)來控制所述物鏡在所述跟蹤方向上的位置。
[0642](9)如(7)或⑶所述的記錄裝置，其中，
[0643]所述參考表面具有多個(gè)凹坑線相位，在所述凹坑線相位中，凹坑線以螺旋或同心圓的方式形成，所述凹坑線具有凹坑形成允許位置，一圈凹坑線中的所述允許位置的間距被定義為預(yù)定的第一距離，且在徑向上相鄰的所述凹坑線之間，所述允許位置之間的在凹坑形成方向上的間隔的位置每次偏移了預(yù)定的第二距離，且
[0644]基于根據(jù)所述伺服激光的反射光的接收得到的光接收信號(hào)，所述位置控制部控制所述物鏡在所述跟蹤方向上的位置，以使所述記錄激光描繪出以0.27微米以下的間距形成的螺旋形狀。
[0645](10)如(7)或(8)所述的記錄裝置，其中，所述記錄部通過使用第一激光和第二激光作為所述記錄激光對所述記錄層同時(shí)執(zhí)行所述簡單標(biāo)記線的記錄操作和所述有溝標(biāo)記線的記錄操作，所述第一激光和所述第二激光被照射至所述記錄層，以使光斑的徑向間隔為形成在所述參考表面上的所述位置引導(dǎo)的磁道間距的一半。[0646](11)如(7)或(8)所述的記錄裝置，其中，在所述位置控制部以所述位置引導(dǎo)為目標(biāo)執(zhí)行位置控制的模式下以及在所述位置控制部以形成在所述位置引導(dǎo)之間的岸區(qū)為目標(biāo)執(zhí)行位置控制的模式下，所述記錄部對所述記錄層同時(shí)執(zhí)行所述簡單標(biāo)記線的記錄操作和所述有溝凹坑線的記錄操作，所述第一激光和所述第二激光被照射至所述記錄層，以使光斑的徑向間隔為形成在所述參考表面上的所述位置引導(dǎo)的磁道間距的四分之一。
[0647](12) 一種再現(xiàn)裝置，其包括:
[0648]光照射接收部，其通過物鏡向記錄介質(zhì)照射激光并接收所照射的激光的反射光，所述記錄介質(zhì)包括以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置的簡單磁道和有溝磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的；
[0649]跟蹤誤差信號(hào)生成部，其基于光接收信號(hào)生成跟蹤誤差信號(hào)，所述光接收信號(hào)是根據(jù)由所述光照射接收部接收的所述反射光得到的；
[0650]位置控制部，其基于所述跟蹤誤差信號(hào)控制所述物鏡在跟蹤方向上的位置，并由此控制所述激光在所述徑向上的位置，所述跟蹤方向是與所述徑向平行的方向；及
[0651]再現(xiàn)部，其基于所述光接收信號(hào)執(zhí)行來自所述記錄介質(zhì)的記錄信號(hào)的再現(xiàn)操作。
[0652](13)如(12)所述的再現(xiàn)裝置，其中，在以所述簡單磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)與以所述有溝磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)，所述位置控制部執(zhí)行基于第一控制信號(hào)的位置控制與基于第二控制信號(hào)的位置控制之間的切換，所述第一控制信號(hào)是使所述跟蹤誤差信號(hào)的極性反轉(zhuǎn)或的偏移而得到的信號(hào)，且所述第二控制信號(hào)是不使所述跟蹤誤差信號(hào)的極性反轉(zhuǎn)或偏移而得到的信號(hào)。
[0653]本申請要求基于2011年12月20日在日本專利局提交的日本專利申請JP2011-278539的權(quán)益，在此將該日本專利申請的全部內(nèi)容以引用的方式并入本文。
[0654]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，依據(jù)設(shè)計(jì)要求和其他因素，可以在本發(fā)明所附的權(quán)利要求或其等同物的范圍內(nèi)，進(jìn)行不同的修改，合成，次合成及改變。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光裝置，其包括: 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部，其用于驅(qū)動(dòng)母盤以使所述母盤旋轉(zhuǎn) '及 曝光部，其用于在被所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部旋轉(zhuǎn)的所述母盤上執(zhí)行曝光操作，以使簡單凹坑線和有溝凹坑線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單凹坑線由布置的凹坑構(gòu)成，且所述有溝凹坑線是通過在凹坑之間插入溝而構(gòu)成的。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中，每當(dāng)所述母盤的旋轉(zhuǎn)角度為預(yù)定的旋轉(zhuǎn)角度時(shí)，所述曝光部在用于所述簡單凹坑線的曝光操作與用于所述有溝凹坑線的曝光操作之間執(zhí)行交替切換。
3.如權(quán)利要求1所述的曝光裝置，其中，所述曝光部通過使用多個(gè)光束對所述母盤同時(shí)執(zhí)行用于所述簡單凹坑線的曝光操作和用于所述有溝凹坑線的曝光操作。
4.一種記錄介質(zhì)，其包括: 簡單磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成；及 有溝磁道，所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的， 其中，所述簡單磁道和所述有溝磁道以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置。
5.一種記錄裝置，其 包括記錄部，所述記錄部用于在記錄介質(zhì)的記錄層上執(zhí)行記錄操作，以使簡單標(biāo)記線和有溝標(biāo)記線以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置，所述簡單標(biāo)記線由布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝標(biāo)記線是通過在標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的。
6.如權(quán)利要求5所述的記錄裝置，其中，所述記錄部將標(biāo)記線記錄至所述記錄層，所述記錄層為不具有預(yù)制溝的平面形狀。
7.如權(quán)利要求6所述的記錄裝置，其還包括: 光照射部，其向所述記錄介質(zhì)照射伺服激光和記錄激光，所述伺服激光用于獲得來自參考表面的反射光，所述記錄激光用于在所述記錄層上執(zhí)行記錄操作，所述參考表面與所述記錄層一起形成在所述記錄介質(zhì)中，并且所述參考表面包括形成在所述參考表面上的位置引導(dǎo)；及 位置控制部，其基于根據(jù)所述伺服激光的反射光的接收而得到的光接收信號(hào)來控制向所述記錄介質(zhì)照射的所述記錄激光在跟蹤方向上的照射位置。
8.如權(quán)利要求7所述的記錄裝置，其中， 所述光照射部用于通過物鏡向所述記錄介質(zhì)照射所述伺服激光，所述物鏡設(shè)置成由所述伺服激光和所述記錄激光共用，且 所述位置控制部基于根據(jù)所述伺服激光的所述光接收信號(hào)來控制所述物鏡在所述跟蹤方向上的位置。
9.如權(quán)利要求8所述的記錄裝置，其中， 所述參考表面具有多個(gè)凹坑線相位，在所述凹坑線相位中，凹坑線以螺旋或同心圓的方式形成，所述凹坑線具有凹坑形成允許位置，一圈凹坑線中的所述允許位置的間距被定義為預(yù)定的第一距離，且在徑向上相鄰的所述凹坑線之間，所述允許位置之間的在凹坑形成方向上的間隔的位置每次偏移了預(yù)定的第二距離，且 基于根據(jù)所述伺服激光的反射光的接收得到的光接收信號(hào)，所述位置控制部控制所述物鏡在所述跟蹤方向上的位置，以使所述記錄激光描繪出以0.27微米以下的間距形成的螺旋形狀。
10.如權(quán)利要求7所述的記錄裝置，其中，所述記錄部通過使用第一激光和第二激光作為所述記錄激光對所述記錄層同時(shí)執(zhí)行所述簡單標(biāo)記線的記錄操作和所述有溝標(biāo)記線的記錄操作，所述第一激光和所述第二激光被照射至所述記錄層，以使光斑的徑向間隔為形成在所述參考表面上的所述位置引導(dǎo)的磁道間距的一半。
11.如權(quán)利要求7所述的記錄裝置，其中，在所述位置控制部以所述位置引導(dǎo)為目標(biāo)執(zhí)行位置控制的模式下以及在所述位置控制部以形成在所述位置引導(dǎo)之間的岸區(qū)為目標(biāo)執(zhí)行位置控制的模式下，所述記錄部對所述記錄層同時(shí)執(zhí)行所述簡單標(biāo)記線的記錄操作和所述有溝凹坑線的記錄操作，所述第一激光和所述第二激光被照射至所述記錄層，以使光斑的徑向間隔為形成在所述參考表面上的所述位置引導(dǎo)的磁道間距的四分之一。
12.—種再現(xiàn)裝置，其包括: 光照射接收部，其通過物鏡向記錄介質(zhì)照射激光并接收所照射的激光的反射光，所述記錄介質(zhì)包括以0.27微米以下的磁道間距在徑向上交替地布置的簡單磁道和有溝磁道，所述簡單磁道由布置的凹坑或布置的標(biāo)記構(gòu)成，且所述有溝磁道是通過在凹坑或標(biāo)記之間插入溝而構(gòu)成的； 跟蹤誤差信號(hào)生成部，其基于光接收信號(hào)生成跟蹤誤差信號(hào)，所述光接收信號(hào)是根據(jù)由所述光照射接收部接收的所述反射光得到的； 位置控制部，其基于 所述跟蹤誤差信號(hào)控制所述物鏡在跟蹤方向上的位置，并由此控制所述激光在所述徑向上的位置，所述跟蹤方向是與所述徑向平行的方向；及 再現(xiàn)部，其基于所述光接收信號(hào)執(zhí)行來自所述記錄介質(zhì)的記錄信號(hào)的再現(xiàn)操作。
13.如權(quán)利要求12所述的再現(xiàn)裝置，其中，在以所述簡單磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)與以所述有溝磁道為目標(biāo)的位置控制時(shí)，所述位置控制部執(zhí)行基于第一控制信號(hào)的位置控制與基于第二控制信號(hào)的位置控制之間的切換，所述第一控制信號(hào)是使所述跟蹤誤差信號(hào)的極性反轉(zhuǎn)或的偏移而得到的信號(hào)，且所述第二控制信號(hào)是不使所述跟蹤誤差信號(hào)的極性反轉(zhuǎn)或偏移而得到的信號(hào)。
【文檔編號(hào)】G11B7/24091GK103999157SQ201280061426
【公開日】2014年8月20日 申請日期:2012年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月20日
【發(fā)明者】高橋謙作, 齋藤昭也, 山下榮輝 申請人:索尼公司, 索尼信息技術(shù)日本股份有限公司