專利名稱:光記錄盤和用于在光記錄盤上記錄或讀出數(shù)據(jù)的方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及光記錄盤和用于在光記錄盤上記錄或讀出數(shù)據(jù)的方法。
背景技術(shù):
近年來,對(duì)于用于使用激光束等記錄或讀出信息的光記錄介質(zhì)進(jìn)行了研究,其中每盤的存儲(chǔ)容量可以通過將記錄層層壓成多層結(jié)構(gòu)中而增加。參見專利文獻(xiàn)1-3和非專利文獻(xiàn)1-3。同時(shí),進(jìn)行了研究以實(shí)現(xiàn)高容量磁帶,其中將大數(shù)量的極薄的軟盤(參見,例如,專利文獻(xiàn)4-6和非專利文獻(xiàn)4)儲(chǔ)存在磁帶盒中,并且使用轉(zhuǎn)換器逐一取出并使用。引用列表 專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本已公開專利申請(qǐng),公開號(hào)2009-134784專利文獻(xiàn)2 :日本已公開專利申請(qǐng),公開號(hào)2009-252340專利文獻(xiàn)3 :國(guó)際申請(qǐng)?zhí)?008/007564專利文獻(xiàn)4 :日本專利號(hào)4140823專利文獻(xiàn)5 :日本已公開專利申請(qǐng),公開號(hào)2005-011412專利文獻(xiàn)6 :日本已公開專利申請(qǐng),公開號(hào)2009-116985非專利文獻(xiàn)非專利文獻(xiàn)I H. Mitsumori 等,Jpn. J. Appl. Phys.,第 48 卷,第 3 期(2009) 03A055非專利文獻(xiàn)2 Mishima等,“用于藍(lán)光光盤系統(tǒng)的150GB,6層一次性寫入光盤(150GB, 6-layer write once disc for Blu-ray Disc system),,,Proc. of SPIE6282(2006)628201非專利文獻(xiàn)3:Isao Ichimura 等,Proc. SPIE,第 6282 卷,628212 (2007)非專利文獻(xiàn)4 :0nagi 等,Ricoh Technical Report,第 30 期,第 37 頁(yè)發(fā)明概述技術(shù)問題根據(jù)具有多層記錄層的傳統(tǒng)光記錄介質(zhì),記錄層和中間層的層壓結(jié)構(gòu)體具有相當(dāng)?shù)暮穸龋Y(jié)果是整個(gè)介質(zhì)的厚度變得更大并且因此介質(zhì)不提供柔韌性。因此,如果將介質(zhì)以高速(例如,IOOOOrpm以上)旋轉(zhuǎn),介質(zhì)可能歸因于介質(zhì)的共振而不利地?fù)p壞。因此,不管如何努力增加數(shù)據(jù)傳輸速率,傳統(tǒng)的光記錄介質(zhì)在介質(zhì)的最大旋轉(zhuǎn)速度上受到限制??紤]到以上方面,需要的是提供一種可以高速旋轉(zhuǎn)的高容量光記錄盤和一種用于在該光記錄盤上記錄或讀出數(shù)據(jù)的方法。問題的解決方案根據(jù)本發(fā)明,提供一種光記錄盤,所述光記錄盤包括至少十個(gè)光記錄層;多個(gè)中間層,所述多個(gè)中間層各自插入在相鄰的光記錄層之間;基膜,所述基膜配置為支持所述光記錄層和所述中間層;覆蓋層,所述覆蓋層與所述基膜相對(duì)地設(shè)置,并且所述光記錄層和所述中間層插入在它們之間,其中所述光記錄盤整體上是盤的形狀,并且其中所述光記錄盤的總厚度不大于300微米,并且所述光記錄盤提供柔韌性。以具有 不大于300微米的總厚度并且提供柔韌性的光記錄盤的這種構(gòu)型,如果盤的厚度大于300微米可能出現(xiàn)的共振幾乎不出現(xiàn),并且因此盤可以高速旋轉(zhuǎn)。這使得可以獲得高數(shù)據(jù)傳輸速率。此外,因?yàn)閷⒅辽偈畟€(gè)記錄層層壓在300微米的厚度之內(nèi),可以獲得高容量光記錄盤。在以上光記錄盤中,覆蓋層可以具有10-50微米的范圍內(nèi)的厚度。在以上光記錄盤中,可以在覆蓋層和基膜的至少一個(gè)的內(nèi)表面上形成用于循跡(tracking)的螺旋狀槽。此外,中間層的至少一個(gè)可以具有用于循跡的螺旋狀槽。根據(jù)本發(fā)明,還提供一種用于在上述光記錄盤上記錄或讀出數(shù)據(jù)的方法,所述方法包括以下步驟將所述光記錄盤安置在記錄裝置或讀出裝置中;和以這樣的方式在所述光記錄層上記錄或讀出數(shù)據(jù)如果從光記錄層至所述基膜的外表面的距離小于從所述光記錄層至所述覆蓋層的外表面的距離,則用穿過所述覆蓋層入射至所述光記錄層上的光照射所述光記錄層,而如果從所述光記錄層至所述基膜的外表面的距離大于從所述光記錄層至所述覆蓋層的外表面的距離,則用穿過所述基膜入射至所述光記錄層上的光照射所述光記錄層。因此,以這樣的方式從光記錄盤的兩側(cè)進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出將數(shù)據(jù)記錄在或讀出自從用于記錄或讀出的光入射至目標(biāo)光記錄層上的光照射側(cè)看位于遠(yuǎn)側(cè)的目標(biāo)光記錄層。這可以確保目標(biāo)光記錄層與用于數(shù)據(jù)的記錄或讀出的光從其入射的光記錄盤的表面之間的相對(duì)大的距離。因此,即使光記錄盤的表面具有擦傷或附著至光記錄盤的表面的灰塵,這種擦傷或灰塵也不易影響記錄或讀出性能,因?yàn)榕c其中用來自近側(cè)的光照射目標(biāo)記錄層的情況比較,目標(biāo)記錄層上的焦點(diǎn)可以更加遠(yuǎn)離擦傷或灰塵。傳統(tǒng)技術(shù)是使用具有較大厚度的光記錄介質(zhì)用于確保這種距離以使得盤表面上的擦傷或灰塵幾乎不影響記錄或讀出性能。相反,根據(jù)本發(fā)明,即使使用薄軟盤,擦傷或灰塵也不會(huì)在光學(xué)上傾向于影響記錄或讀出性能,因?yàn)閷?duì)于目標(biāo)光記錄層從光記錄盤的從目標(biāo)光記錄層的距離更大的一側(cè)適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出。根據(jù)本發(fā)明的光記錄盤不僅可以獲得高容量,而且還實(shí)現(xiàn)了高數(shù)據(jù)傳輸速率。此夕卜,根據(jù)本發(fā)明的用于光記錄盤的記錄或讀出方法,光記錄盤比較不易受到盤表面上的擦傷或灰塵影響。附圖
簡(jiǎn)述[圖I]圖I是根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例實(shí)施方案的光記錄盤的透視圖。[圖2]圖2是該光記錄盤的截面圖。[圖3]圖3是說明光記錄盤的層狀結(jié)構(gòu)的示意圖。[圖4]圖4是顯示光記錄盤的修改的實(shí)施方案的截面圖,其中將用于循跡的槽形成在中間層上。[圖5]圖5是光盤驅(qū)動(dòng)器的不意圖。[圖6]圖6顯示了設(shè)置在光記錄盤中的相應(yīng)的層的組合變化。實(shí)施方案詳述下面將描述本發(fā)明的一個(gè)示例實(shí)施方案。如在圖I中看出,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案使得光記錄盤I整體上形狀類似圓盤,并且柔性盤部分10由芯19支持。為了防止歸因于彎折的損壞,當(dāng)操作時(shí)優(yōu)選將光記錄盤I存儲(chǔ)在磁帶盒2中。芯19是由后面描述的盤驅(qū)動(dòng)器支持的部分。如在圖I和2中看出的,芯19是類似圓盤形狀,并且通孔19A形成在芯19的中心部分中用于允許軸的插入。將凸緣19B設(shè)置在芯19的外周,并且將盤部分10通過粘合固定至凸緣19B。將凸緣19B安置在芯19的厚度的大致中點(diǎn),以使得盤部分10由凸緣19B在芯19的厚度的中點(diǎn)(即,在要由軸32支持的表面19C、19D之間的中點(diǎn)(與它們距離相等))支持。如在圖3中最好地看出的,盤部分10包括基膜11,數(shù)個(gè)層壓的光記錄層12和設(shè)置在基膜11上的中間層13,以及與基膜11相對(duì)地設(shè)置的覆蓋層14。此外,間隔層15、16分別位于基膜11和覆蓋層14的內(nèi)側(cè)。更詳細(xì)地,將多個(gè)光記錄層12設(shè)置在兩個(gè)間隔層15、16之間,并且將每個(gè)中間層13設(shè)置在兩個(gè)相鄰的光記錄層12之間。盤部分10的總厚度T不大于300微米。盤部分10提供柔韌性以構(gòu)成通常所說的軟盤。
基膜11具有圓形構(gòu)造并且起盤部分10的支持部件的作用。為提供具有預(yù)定的柔韌性的盤部分10,優(yōu)選的是基膜11的厚度在10-100微米的范圍內(nèi),并且更優(yōu)選在10-50微米的范圍內(nèi)?;?1由例如聚碳酸酯、丙烯酸類樹脂、聚酯、脂環(huán)烴樹脂、環(huán)氧樹脂和縮醛的材料制成。光記錄層12是由在其上可使用光(包括紫外光和紅外光)如激光束記錄信息的記錄材料制成的層。如同傳統(tǒng)的光記錄盤,用于光記錄層12的記錄材料可以是任何已知的材料,條件是當(dāng)將其用光照射時(shí)其光性質(zhì)如折射率、吸光度或熒光性質(zhì)發(fā)生改變。作為一個(gè)實(shí)例,用于光記錄層12的材料可以包括有機(jī)染料材料如花青染料、酞菁染料、偶氮染料;相變材料如Ge-Sb-Te,并且Ag-In-Sb-Te ;和金屬材料如Te和Se。根據(jù)記錄材料的靈敏度確定光記錄層12的厚度,以使得可以獲得足夠的信號(hào)噪音比。例如,光記錄層12具有在0.01-2微米的范圍內(nèi)的厚度。如果光記錄層12的厚度等于或大于0.01微米,則可以觀察到大的信號(hào)強(qiáng)度以獲得所需的信號(hào)噪音比。如果光記錄層12的厚度等于或小于2微米,則可以設(shè)置十個(gè)以上光記錄層12以實(shí)現(xiàn)大存儲(chǔ)容量,同時(shí)防止跨層串?dāng)_(即,來自相鄰的光記錄層12的信號(hào)混合在一起),因?yàn)榭梢詫?duì)中間層13提供足夠的厚度。為獲得整體上的光記錄盤I的大存儲(chǔ)容量,光記錄盤I包括至少十個(gè)光記錄層12。只要可以確保中間層13足夠的厚度,更大數(shù)量的光記錄層12,如20層或40層,是優(yōu)選的。中間層13是用于防止跨越相鄰的光記錄層12的串?dāng)_的層,并且具有例如3-20微米的范圍內(nèi)的厚度。中間層13可以由任意已知材料制成,條件是它令人滿意地允許光的透射(即,用于在光記錄盤I上記錄或讀出數(shù)據(jù)的光;在下文中稱為“記錄/讀出光”)。用于在中間層13中使用的材料的優(yōu)選實(shí)例可以包括通過將高分子化合物如丙烯酸類化合物、甲基丙烯酸類化合物、聚氯乙烯化合物、聚乙烯醇化合物、聚乙酸乙烯酯化合物、聚苯乙烯化合物或纖維素溶解在溶劑中制備的粘合劑;主要含有丙烯酸酯化合物、環(huán)氧化合物或氧雜環(huán)丁烷化合物的光固化粘合劑;主要含有乙烯-乙酸乙烯酯化合物、烯烴化合物或氨基甲酸乙酯化合物的熱熔粘合劑;和包含丙烯酸類化合物、氨基甲酸乙酯化合物、硅氧烷化合物等的壓敏粘合劑。設(shè)置覆蓋層14用于覆蓋與基膜11相對(duì)的表面。覆蓋層14可以以類似于基膜11的方式形成,并且其厚度和材料可以與基膜11的那些相同。雖然在該說明書中為了方便的原因通過不同的名字指代基膜11和覆蓋層14,但是它們?cè)跇?gòu)造上可以是完全相同的。當(dāng)然,覆蓋層14和基膜11在構(gòu)造上也可以不同。例如,基膜11可以更厚以增加支持能力,而比基膜11薄的覆蓋層14可以僅為了保護(hù)與基膜11相對(duì)的表面的目的而設(shè)置?;?1具有其上設(shè)置有用于循跡的螺旋狀槽21的內(nèi)表面。類似地,覆蓋層14具有其上設(shè)置有用于循跡的螺旋狀槽24的內(nèi)表面。螺旋槽21例如通過以下方式形成在基膜11的內(nèi)表面上涂布紫外可固化樹脂并且其后壓制具有凸出周線的壓模以對(duì)紫外可固化樹脂形成槽21的反轉(zhuǎn)圖案,之后用紫外光進(jìn)行曝光固化。覆蓋層14上的螺旋槽24可以以類似的方式形成。在基膜11和覆蓋層14內(nèi)側(cè)設(shè)置間隔層15、16,通過它們將具有槽21、24的內(nèi)表面與光記錄層12間隔開。為了檢測(cè)基膜11的槽21的目的,間隔層15由具有與相鄰的基膜11的折射率不同的折射率的材料制成。因?yàn)轭愃频脑?,間隔層16由具有與相鄰的覆蓋層14的折射率不同的折射率的材料制成。 配置基膜11和覆蓋層14以使得它們的至少一個(gè)允許記錄/讀出光充分地從其中通過,而它們中的另一個(gè)可以不具有光透射性。然而,對(duì)于如后面所述的從光記錄盤I (即,盤部分10)的兩側(cè)進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出,優(yōu)選的是基膜11和覆蓋層14都可以充分地透射記錄/讀出光。對(duì)于間隔物15、16也是如此,并且如果相鄰的基膜11或相鄰的覆蓋層14具有光透射性,則將對(duì)應(yīng)的間隔物15、16也配置為充分地透射記錄/讀出光。根據(jù)該實(shí)施方案,因?yàn)殚g隔層15、16與用于循跡的槽21、24相鄰,優(yōu)選的是間隔層15、16透射用于循跡伺服使用的光至使得光可以從其通過用于檢測(cè)槽21、24的位置的程度。間隔層15、16的厚度大約在1-20微米的范圍內(nèi),并且間隔層15、16可以由與用于中間層13使用的材料相同的材料制成??梢詫⒂糜谘E的槽形成在中間層13上,而不是形成在基膜11或覆蓋層14上。例如,如在圖4中最好地看出的,中間層13中的一個(gè)可以包括具有彼此不同的折射率的第一中間層13A和第二中間層13B,并且可以將螺旋狀槽23形成在第一中間層13A上。接下來,將給出對(duì)用于在光記錄盤I上記錄和讀出數(shù)據(jù)的光盤驅(qū)動(dòng)器的實(shí)例的描述。如圖5中所示,光盤驅(qū)動(dòng)器30主要包括穩(wěn)定器31、軸32、電動(dòng)機(jī)34、光盤檢取頭35,以及用于控制電動(dòng)機(jī)34和光盤檢取頭35的運(yùn)轉(zhuǎn)的控制器41。 穩(wěn)定器31是板狀部件,其具有高精度平面的平面表面部分31A,并且中心孔31B形成在穩(wěn)定器31中,軸32通過所述中心孔穿透穩(wěn)定器31。光記錄盤I的盤部分10放置在并且面對(duì)穩(wěn)定器31的平面表面部分31A。因?yàn)樵撛?平面表面部分31A在尺寸上比盤部分10大。穩(wěn)定器31通過穩(wěn)定器保持器31C固定到足夠穩(wěn)定的基座(未示出)。穩(wěn)定器31關(guān)于旋轉(zhuǎn)的盤部分10保持非常薄的空氣層,以使得盤部分10可以在光記錄盤I的高速旋轉(zhuǎn)(例如,大約在15000-20000rpm的范圍內(nèi))過程中穩(wěn)定。軸32被配置為在支持光記錄盤I的同時(shí)高速旋轉(zhuǎn)。軸32具有遠(yuǎn)端,所述遠(yuǎn)端具有與通孔19A的形狀對(duì)應(yīng)的形狀,以使得當(dāng)將帽33與軸32的遠(yuǎn)端接合時(shí),芯19牢固地保持在軸32上。電動(dòng)機(jī)34是用于旋轉(zhuǎn)軸32驅(qū)動(dòng)源,并且電動(dòng)機(jī)34的轉(zhuǎn)子連接至軸32。電動(dòng)機(jī)34的旋轉(zhuǎn)由控制器41控制。
光盤檢取頭35可以以與包括激光束源、透鏡和光接收元件的傳統(tǒng)已知的檢取器件類似的方式形成。光盤檢取頭35沿在光記錄盤I的徑向方向延伸的導(dǎo)軌35A移動(dòng),以便進(jìn)行循跡。循跡通過調(diào)節(jié)光盤檢取頭35的位置以使得來自槽21或槽24的反射光成為預(yù)定的光強(qiáng)度而進(jìn)行。因?yàn)椴?1、24的位置和每個(gè)光記錄層12在光記錄盤I的深度方向(即,厚度的方向)上是不同的,優(yōu)選的是光盤檢取頭35包括用于數(shù)據(jù)的記錄或讀出使用的一組光源和光接收元件,以及用于伺服循跡使用的一組光源和光接收元件。將在數(shù)據(jù)的讀出過程中在光盤檢取頭35接收的信號(hào)和用于循跡的在光盤檢取頭35接受的信號(hào)輸入至信號(hào)處理單元42。控制器41連接至信號(hào)處理單元42。信號(hào)處理單元42起將記錄信號(hào)輸出至控制器41的功能;在數(shù)據(jù)的記錄過程中通過將外部輸入數(shù)據(jù)編碼為光盤檢取頭35的輸出圖案而在信號(hào)處理單元42處生成記錄信號(hào)。信號(hào)處理單元42還起到將從光盤檢取頭35輸入的信號(hào)解碼并將其輸出至外部器件的功能。此外,信號(hào)處理單元42基于接收到的用于循跡的信號(hào)計(jì)算循跡錯(cuò)誤的量,并且為了 實(shí)現(xiàn)光盤檢取頭35的位置的反饋控制的目的,信號(hào)處理單元42將指示用于定位光盤檢取頭35所需的控制量的信號(hào)輸出至控制器41??刂破?1將控制信號(hào)輸出至電動(dòng)機(jī)34以使得引起電動(dòng)機(jī)34以預(yù)定的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)??刂破?1在數(shù)據(jù)的記錄和讀出過程中還進(jìn)行光盤檢取頭35的循跡控制,以使得光盤檢取頭35跟隨預(yù)定的記錄位置。此外,在記錄數(shù)據(jù)時(shí)控制器41將從信號(hào)處理單元42接收的記錄信號(hào)輸出至光盤檢取頭35,而在讀出數(shù)據(jù)時(shí)控制器41使得光盤檢取頭35的光源以預(yù)定功率輸出發(fā)射光。除了以上功能以外,控制器41具有將記錄/讀出光聚焦在多個(gè)光記錄層12中預(yù)定的光記錄層12上的功能。例如,首先使焦點(diǎn)落在離光照射側(cè)最遠(yuǎn)的光記錄層12(即,圖3中最下面的光記錄層12)上,并且其后使焦點(diǎn)逐漸地移向近側(cè)(即,在圖3中向上移),在該過程中數(shù)出層的數(shù)目,以使得可以將記錄/讀出光聚焦在預(yù)定層上。優(yōu)選地,從光記錄盤I的兩側(cè)以這樣的方式進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出用基于從目標(biāo)光記錄層12至基膜11的距離和從目標(biāo)光記錄層12至覆蓋層14的距離的從遠(yuǎn)側(cè)入射的光將數(shù)據(jù)記錄在或者讀出于一個(gè)光記錄層12。更詳細(xì)地,如果目標(biāo)光記錄層12更接近基膜11的外表面,如在圖3中最好地看出的,數(shù)據(jù)的記錄或讀出從覆蓋層側(cè)進(jìn)行,而如果目標(biāo)光記錄層12更接近覆蓋層14的外表面,將光記錄盤I反轉(zhuǎn)并通過軸32支持,并且之后將目標(biāo)光記錄層12用從基膜側(cè)入射的光照射用于數(shù)據(jù)的記錄或讀出。因此,因?yàn)閷⒛繕?biāo)光記錄層12用來自距目標(biāo)光記錄層12較遠(yuǎn)的遠(yuǎn)側(cè)表面的光照射,因此可以確保目標(biāo)光記錄層12與光可以通過的光記錄盤I的遠(yuǎn)側(cè)表面之間相對(duì)大的距離。因此,即使光記錄盤I的遠(yuǎn)側(cè)表面具有擦傷或附著至其上的灰塵,這種擦傷或灰塵也較不易影響數(shù)據(jù)的記錄或讀出。根據(jù)傳統(tǒng)的非柔性厚光記錄盤,光穿過厚基板照射用于進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出,并且因此基板上的擦傷或灰塵幾乎不影響記錄或讀出性能。相反,根據(jù)該實(shí)施方案的光記錄盤I具有薄至300微米以下的厚度以提供柔韌性,并且將大于十個(gè)光記錄層12設(shè)置在盤部分10中,從而使得基膜11和覆蓋層14與傳統(tǒng)的非柔性光記錄盤比較顯著地更薄。因?yàn)樵撛?,如上所述,將目?biāo)光記錄層12用從根據(jù)目標(biāo)光記錄層12的位置的遠(yuǎn)側(cè)表面入射的光照射。這可以避免在盤部分10的表面上的擦傷或灰塵的有害影響??梢杂脕碜怨庥涗洷PI的任一側(cè)(即,來自基膜側(cè)或覆蓋層側(cè))的記錄/讀出光照射位于基膜11的外表面和覆蓋層14的外表面之間的中心的光記錄層12以進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出。操作光盤驅(qū)動(dòng)器30的用戶可以在需要的情況下將關(guān)于其上進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出的目標(biāo)光記錄層12的位置的指令輸入至光盤驅(qū)動(dòng)器30中。備選地,記錄/讀出光可以通過控制器41以使得聚焦僅在位于盤部分10的厚度中間之下的光記錄層12 (即,遠(yuǎn)側(cè)光記錄層12)上進(jìn)行的方式聚焦。此外,連接至光盤驅(qū)動(dòng)器30的外部器件可以給出指令使得數(shù)據(jù)的記錄或讀出僅對(duì)于遠(yuǎn)側(cè)光記錄層12進(jìn)行。接下來,將給出光記錄盤I的實(shí)例的描述,其中檢查每個(gè)層的厚度等的不同變化。圖6顯示含有根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例1-6和不被包括在本發(fā)明中的比較例1-2 (即,比較例1-2)的表格,其中示例了以下變化如每個(gè)層的厚度、用于循跡的槽的位置等。關(guān)于實(shí)施例
1-6,如果基膜11和覆蓋層14的厚度在10-50微米的范圍內(nèi)并且總厚度不大于300微米,則整體上的盤部分10可以提供柔韌性。然而,關(guān)于比較例1-2,如果總厚度大于300微米, 則盤部分10不提供柔韌性并且難以高速旋轉(zhuǎn)光記錄盤。實(shí)施例1-6和比較例1-2在以下條件下進(jìn)行使用具有405nm的波長(zhǎng)的激光束作為記錄/讀出光,使用具有0.85的數(shù)值孔徑(NA)的物鏡,所述數(shù)值孔徑是目前廣泛地使用的物鏡中最大的數(shù)值孔徑,并且將激光束聚焦在從覆蓋層14數(shù)的第一個(gè)光記錄層12上。對(duì)于實(shí)施例1-6和比較例1-2的每一個(gè),激光束在光記錄盤I面對(duì)物鏡的表面處的點(diǎn)尺寸在圖6中給出。分別對(duì)于在從覆蓋層側(cè)照射激光束的情況下的覆蓋層14的表面以及在從基膜側(cè)照射激光束的情況下的基膜11的表面計(jì)算激光束的點(diǎn)尺寸。圖6中的表顯示在實(shí)施例1-6中,如果從覆蓋層側(cè)照射記錄/讀出光,則覆蓋層14的表面處的點(diǎn)尺寸小于70微米,以使得僅允許不大于約50微米的擦傷或灰塵。然而,如果從基膜側(cè)照射記錄/讀出光,則允許等于或大于100微米的擦傷或灰塵。因此,優(yōu)選的是,如果從目標(biāo)光記錄層12至基膜11的外表面的距離大于從光記錄層12至覆蓋層14的外表面的距離,則數(shù)據(jù)的記錄或讀出在目標(biāo)光記錄層12上通過用穿過基膜11的光照射目標(biāo)光記錄層12而進(jìn)行。為了提供足夠耐擦傷等的光記錄盤1,需要的是不少于50微米的擦傷的尺寸應(yīng)該是可以接受的。為此,記錄/讀出光在光照射側(cè)的表面的點(diǎn)尺寸應(yīng)該不少于70微米。因此優(yōu)選的是光記錄盤的厚度等于或大于100微米(S卩,實(shí)施例3中基膜的兩倍厚度(50微米))。在耐擦傷方面,更厚的光記錄盤I是優(yōu)選的,并且更優(yōu)選地,光記錄盤I的厚度等于或大于150微米,并且再優(yōu)選等于或大于200微米。根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方案的以上光記錄盤I具有不大于300微米的總厚度并具有柔韌性。因此,光記錄盤I比較不易歸因于共振而損壞,并且與傳統(tǒng)的非柔性光記錄盤比較,它可以以更高的速度旋轉(zhuǎn)并且從而可以以更高的數(shù)據(jù)傳輸速率傳輸數(shù)據(jù)。此外,雖然根據(jù)該實(shí)施方案的光記錄盤I具有不大于300微米的總厚度,但提供了多于十個(gè)光記錄層12。這可以實(shí)現(xiàn)以緊湊設(shè)計(jì)形式的高容量光記錄盤。此外,因?yàn)楣庥涗洷PI支持處于芯19的厚度中間(即,在要由軸32支持的表面19C、19D之間的中點(diǎn)處(與其距離相等))的盤部分10,當(dāng)將光記錄盤I以基膜11向下放在光盤驅(qū)動(dòng)器30上時(shí)和當(dāng)將光記錄盤I以覆蓋層14向下放在光盤驅(qū)動(dòng)器30上時(shí)可以以類似的方式保持光記錄盤I與光盤驅(qū)動(dòng)器30的相應(yīng)部件如光盤檢取頭35和穩(wěn)定器31之間的位置關(guān)系。因此,即使將光記錄盤I反轉(zhuǎn)以改變光通過其入射至目標(biāo)光記錄層12上的表面,光盤驅(qū)動(dòng)器30也可以相對(duì)于光記錄盤I的目標(biāo)光記錄層12以類似的方式記錄或讀出數(shù)據(jù)。根據(jù)以上實(shí)施方案,光記錄盤I分別具有形成在基膜11、覆蓋層14和中間層13上的螺旋狀槽21、23、24。這可以促進(jìn)循跡控制。如上所述,根據(jù)用于光記錄盤I的記錄或讀出方法,在光記錄層12上以這樣的方式進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出如果從目標(biāo)光記錄層12至基膜11的外表面的距離小于從目標(biāo)光記錄層12至覆蓋層14的外表面的距離,則將目標(biāo)光記錄層12用穿過覆蓋層14入射至目標(biāo)光記錄層12上的光照射,而如果從目標(biāo)光記錄層12至基膜11的外表面的距離大于從目標(biāo)光記錄層12至覆蓋層14的外表面的距離,則將目標(biāo)光記錄層12用穿過基膜11入射至目標(biāo)光記錄層12上的光照射。這可以確保其上可以進(jìn)行數(shù)據(jù)的記錄或讀出的目標(biāo)光記錄層12與光穿過其入射的盤部分10的表面之間相對(duì)大的距離。因此,即使光穿過其入射 至目標(biāo)光記錄層12上的盤部分10的表面具有附著至其上的擦傷或灰塵,這種擦傷或灰塵也較不容易顯著地影響記錄或讀出性能。雖然參考以上示例實(shí)施方案描述了本發(fā)明,但本發(fā)明不限于該具體實(shí)施方案,并且在需要的情況下可以做出多種變更或修改。例如,可以將用于循跡的槽形成在基膜11和覆蓋層14的內(nèi)表面上,以及中間層13上。
權(quán)利要求
1.ー種光記錄盤,所述光記錄盤包括 至少十個(gè)光記錄層; 多個(gè)中間層,所述多個(gè)中間層各自插入在相鄰的光記錄層之間; 基膜,所述基膜配置為支持所述光記錄層和所述中間層; 覆蓋層,所述覆蓋層與所述基膜相對(duì)地設(shè)置,并且所述光記錄層和所述中間層插入在它們之間, 其中所述光記錄盤整體上是盤的形狀,并且其中所述光記錄盤的總厚度不大于300微米,并且所述光記錄盤提供柔韌性。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄盤,其中所述覆蓋層具有在10-50微米的范圍內(nèi)的厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄盤,其中在所述覆蓋層和所述基膜的至少ー個(gè)的內(nèi)表面上形成有用于循跡的螺旋狀槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄盤,其中所述中間層的至少ー個(gè)具有用于循跡的螺旋狀槽。
5.一種用于在權(quán)利要求I所述的光記錄盤上記錄或讀出數(shù)據(jù)的方法,所述方法包括以下步驟 將所述光記錄盤安置在記錄裝置或讀出裝置中;和 以這樣的方式在所述光記錄層上記錄或讀出數(shù)據(jù)如果從光記錄層至所述基膜的外表面的距離小于從所述光記錄層至所述覆蓋層的外表面的距離,則用穿過所述覆蓋層入射至所述光記錄層上的光照射所述光記錄層,而如果從所述光記錄層至所述基膜的外表面的距離大于從所述光記錄層至所述覆蓋層的外表面的距離,則用穿過所述基膜入射至所述光記錄層上的光照射所述光記錄層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,所述方法還包括反轉(zhuǎn)所述光記錄盤。
全文摘要
一種光記錄盤,所述光記錄盤包括至少十個(gè)光記錄層;多個(gè)中間層,所述多個(gè)中間層各自插入在相鄰的光記錄層之間;基膜,所述基膜配置為支持所述光記錄層和所述中間層;覆蓋層,所述覆蓋層與所述基膜相對(duì)地設(shè)置,并且所述光記錄層和所述中間層插入在它們之間。所述光記錄盤整體上是盤的形狀。所述光記錄盤的總厚度不大于300微米,并且所述光記錄盤提供柔韌性。
文檔編號(hào)G11B7/24GK102782757SQ20118001254
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2011年2月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月10日
發(fā)明者北原淑行, 見上龍雄 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社