專利名稱：一種激光頭聚焦伺服裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及激光頭聚焦伺服裝置，具體是指一種記錄載體的⑶、DVD, BD讀寫 激光頭聚焦伺服裝置。
背景技術(shù)：
常見的激光頭聚焦伺服裝置如圖1所示，其包括有一基座3、兩磁鐵4、一個(gè)尋跡線 圈6、一個(gè)聚焦線圈7、一個(gè)線圈架10、一個(gè)物鏡2、一個(gè)蓋子1、四根懸線9、兩個(gè)金屬U型片 5及一個(gè)線路板0組成。聚焦線圈7及尋跡線圈6繞在線圈架10上，線圈架10上裝有一個(gè) 物鏡2，聚焦線圈7及尋跡線圈6分別通過(guò)焊錫連接在四根懸線9上，四根懸線9另一頭分 別焊錫連接在固定于基座3上的線路板8上，當(dāng)分別給聚焦線圈7及尋跡線圈6加電壓時(shí)， 形成電流。而聚焦線圈7及尋跡線圈6又經(jīng)過(guò)磁鐵4形成的磁場(chǎng)而受力，如圖2所示，這樣 可帶動(dòng)物鏡上下及左右運(yùn)動(dòng)，達(dá)到聚焦伺服目的?，F(xiàn)有的激光頭聚焦伺服裝置的聚焦線圈7只有一個(gè)受力在中心只能帶動(dòng)物鏡2上 下運(yùn)動(dòng)，讀碟時(shí)不能隨著光盤的傾斜而調(diào)整物鏡的傾斜，從而讀碟時(shí)性能不能達(dá)到最好效
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實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于能克服因光盤的傾斜而物鏡不能傾斜讀碟性能不好的缺陷 的激光頭聚焦伺服裝置。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種激光頭聚焦伺服裝置，包括基座和蓋子，在基座上設(shè)置有線圈架和懸線架，線 圈架兩側(cè)的基座上分別設(shè)有磁鐵，在線圈架上分別繞有聚焦線圈和尋跡線圈，在線圈架上 設(shè)有物鏡，線圈架上的聚焦線圈、尋跡線圈通過(guò)懸線連接成回路，懸線還與懸線架連接。作為上述方案的優(yōu)選所述的線圈架上設(shè)有兩個(gè)聚焦線圈、一個(gè)尋跡線圈和兩個(gè) 物鏡，聚焦線圈在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡上下或傾斜動(dòng)作，尋跡線圈在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡 左右動(dòng)作，兩個(gè)聚焦線圈和一個(gè)尋跡線圈分別引出六個(gè)懸線接口端，六根懸線分別與接口 端相連，懸線的另一端與懸線架上的金屬片相連。所述的兩個(gè)磁鐵、兩個(gè)聚焦線圈和一個(gè)尋跡線圈形成的磁場(chǎng)面分成3個(gè)磁極區(qū) 域，。所述的懸線包括有四根聚焦懸線和兩根尋跡懸線。相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)本實(shí)用新型激光頭聚焦伺服裝置通過(guò)2個(gè)聚焦線圈可以通過(guò)加大小不一樣的電 壓形成受力差，這樣聚焦受力Fl與F2不一樣時(shí)可以帶動(dòng)線圈架一定范圍內(nèi)的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)形 成傾斜，這樣當(dāng)讀碟時(shí)光盤有傾斜時(shí)可以通過(guò)加在聚焦線圈1及聚焦線圈2不同的電壓形 成受力差帶動(dòng)物鏡與光盤相同傾斜讀碟，這樣的激光頭的聚焦伺服性會(huì)更好。


圖1是常見的激光頭聚焦伺服裝置分解結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是常見的激光頭聚焦伺服裝置線圈受力示意圖；圖3是本實(shí)用新型激光頭聚焦伺服裝置分解結(jié)構(gòu)示意圖；圖4是本實(shí)用新型激光頭聚焦伺服裝置的懸線名稱示意圖；圖5是本實(shí)用新型磁鐵磁極示意圖；圖6是本實(shí)用新型線圈在磁場(chǎng)中受力示意圖；圖7是本實(shí)用新型線圈在磁場(chǎng)中受力發(fā)生傾斜與光盤一起傾斜的示意圖。
具體實(shí)施方式
為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面將結(jié)合具體實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型的 結(jié)構(gòu)原理作進(jìn)一步的詳細(xì)描述如圖3所示，一種激光頭聚焦伺服裝置的實(shí)施例。它包括基座108和蓋子100，在 基座108上設(shè)置有線圈架109和懸線架105，線圈架109兩側(cè)的基座108上分別設(shè)有磁鐵 103，在線圈架109上分別繞有兩個(gè)聚焦線圈111和一個(gè)尋跡線圈107，在線圈架109上設(shè)有 兩個(gè)物鏡101，線圈架108上的聚焦線圈106、111、尋跡線圈107通過(guò)懸線110連接成回路， 懸線110還與懸線架105連接。聚焦線圈111在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡上下或傾斜動(dòng)作，尋 跡線圈107在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡102左右動(dòng)作。如圖4所示，兩個(gè)聚焦線圈106、111和一個(gè)尋跡線圈107分別引出六個(gè)懸線105接 口端 Fl+、Fl-、F2+、F2-、Τ+、T-,六根懸線 105 分別與接口端 Fl+、Fl_、F2+、F2-、T+、T-相 連，懸線的另一端與懸線架上的金屬片相連。所述的懸線105包括有四根聚焦懸線和兩根 尋跡懸線，形成3個(gè)線圈回路。如圖5所示，所述的兩個(gè)磁鐵103、兩個(gè)聚焦線圈106、111和一個(gè)尋跡線圈107形 成的磁場(chǎng)面分成3個(gè)磁極區(qū)域N、S、N，其中一個(gè)N極位于左側(cè)，另一個(gè)N極位于右下側(cè)，S極 位于兩個(gè)N極之間。如圖6所示，聚焦線圈106在磁極區(qū)域的受力方向?yàn)镕和I，尋跡線圈107在圖6 中的磁場(chǎng)的受力方向?yàn)門。尋跡線圈通電受力形成左右運(yùn)動(dòng)，聚焦線圈通電受力形成上下的 聚焦運(yùn)動(dòng)，當(dāng)聚焦線圈106與聚焦線圈111加加載不同的電壓時(shí)，其受力大小也不同，由于 受力點(diǎn)不在線圈架的中心對(duì)稱。如圖7所示，聚焦線圈106受力Fl大于聚焦線圈107受力F2時(shí)，這樣線圈架會(huì)形 成A的傾斜角度，當(dāng)讀碟時(shí)光盤傾斜A度時(shí)，給聚焦線圈106及聚焦線圈111加不同的電壓 使其帶動(dòng)線圈架109傾斜A度，在線圈架109上物鏡也傾斜A度達(dá)到與光盤一樣傾斜，這樣 激光頭聚焦伺服性能更穩(wěn)定。上述內(nèi)容，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用于限制本實(shí)用新型的實(shí)施方案， 本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)本實(shí)用新型的構(gòu)思，所做出的適當(dāng)變通或修改，都應(yīng)在本實(shí)用新型的 保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種激光頭聚焦伺服裝置，包括基座和蓋子，其特征在于在基座上設(shè)置有線圈架和懸線架，線圈架兩側(cè)的基座上分別設(shè)有磁鐵，在線圈架上分別繞有聚焦線圈和尋跡線圈，在線圈架上設(shè)有物鏡，線圈架上的聚焦線圈、尋跡線圈通過(guò)懸線連接成回路，懸線還與懸線架連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光頭聚焦伺服裝置，其特征在于所述的線圈架上設(shè)有兩 個(gè)聚焦線圈、一個(gè)尋跡線圈和兩個(gè)物鏡，聚焦線圈在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡上下或傾斜動(dòng)作， 尋跡線圈在磁場(chǎng)中受力帶動(dòng)物鏡左右動(dòng)作，兩個(gè)聚焦線圈和一個(gè)尋跡線圈分別引出六個(gè)懸 線接口端，六根懸線分別與接口端相連，懸線的另一端與懸線架上的金屬片相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光頭聚焦伺服裝置，其特征在于所述的兩個(gè)磁鐵、兩個(gè)聚 焦線圈和一個(gè)尋跡線圈形成的磁場(chǎng)面分成3個(gè)磁極區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光頭聚焦伺服裝置，其特征在于所述的懸線包括有四根 聚焦懸線和兩根尋跡懸線。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種激光頭聚焦伺服裝置，包括基座和蓋子，在基座上設(shè)置有線圈架和懸線架，線圈架兩側(cè)的基座上分別設(shè)有磁鐵，在線圈架上分別繞有聚焦線圈和尋跡線圈，在線圈架上設(shè)有物鏡，線圈架上的聚焦線圈、尋跡線圈通過(guò)懸線連接成回路，懸線還與懸線架連接。本實(shí)用新型激光頭聚焦伺服裝置具有隨著不同傾斜角度的光盤來(lái)調(diào)節(jié)物鏡的傾斜來(lái)達(dá)到最佳的聚焦伺服優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)G11B7/09GK201681602SQ20102020078
公開日2010年12月22日 申請(qǐng)日期2010年5月10日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月10日
發(fā)明者李晙圣, 馬孝義 申請(qǐng)人:愛銘數(shù)碼株式會(huì)社;東莞愛銘數(shù)碼電子有限公司