專(zhuān)利名稱(chēng)：磁盤(pán)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁盤(pán)裝置，特別是涉及這樣的磁盤(pán)裝置，該磁盤(pán)裝置適合于在為 了高密度記錄而使磁頭的浮起量小的情況下防止因潤(rùn)滑劑而引起的故障。
背景技術(shù)：
在具有磁頭滑塊的磁盤(pán)裝置中，旋轉(zhuǎn)的磁盤(pán)與相對(duì)于該磁盤(pán)進(jìn)行信息的記錄再生 的磁頭的間隙越小，則能夠在磁盤(pán)上記錄再生的記錄密度越大。因此，磁盤(pán)與磁頭滑塊的間 隔(浮起量)不斷狹小化。在磁盤(pán)的表面，為了保護(hù)與磁頭滑塊的接觸所產(chǎn)生的磁盤(pán)表面 的磁記錄信息而涂覆有潤(rùn)滑劑。下面，使用圖17 圖19說(shuō)明現(xiàn)有技術(shù)的磁盤(pán)裝置及用于該磁盤(pán)裝置的潤(rùn)滑劑。圖17為一般的磁盤(pán)裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖18為磁頭5的前端的立體圖。圖19為現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊的立體圖。如圖17所示，磁盤(pán)1以層疊多片的方式固定于與主軸馬達(dá)(圖中未表示)連接的 磁盤(pán)旋轉(zhuǎn)軸2。臂4以臂旋轉(zhuǎn)軸3為中心被驅(qū)動(dòng)。為了驅(qū)動(dòng)臂4，在臂旋轉(zhuǎn)軸3側(cè)的臂4中 設(shè)置有線(xiàn)圈(圖中未表示)，通過(guò)設(shè)于殼體10側(cè)的磁鐵和該線(xiàn)圈形成用于獲得驅(qū)動(dòng)力的音 圈馬達(dá)6，由它們構(gòu)成旋轉(zhuǎn)式執(zhí)行元件。在臂4的前端設(shè)有用于磁盤(pán)讀寫(xiě)的磁頭5。磁頭5 為了讀寫(xiě)磁盤(pán)1上的磁記錄信息而在磁盤(pán)1上移動(dòng)。另外，在待機(jī)過(guò)程中收納在裝載卸載 部7中。圖18為磁頭5的前端的立體圖，是從磁盤(pán)1側(cè)觀(guān)察圖17的磁頭5的前端的圖。在 磁頭5的前端設(shè)置有形成了記錄再生元件的磁頭滑塊8，該磁頭滑塊8—邊通過(guò)空氣膜潤(rùn)滑 效果在磁盤(pán)1上浮起，一邊進(jìn)行磁盤(pán)1表面的磁記錄信息的讀寫(xiě)。圖19是從磁盤(pán)1側(cè)(從圖18的上方)觀(guān)察圖18的磁頭滑塊8的圖。在磁頭滑 塊8上設(shè)有襯墊9，在由磁頭滑塊8與磁盤(pán)1構(gòu)成的間隙空間中，空氣從圖中箭頭的方向流 入，并形成空氣潤(rùn)滑膜。因此，空氣從圖19所示的空氣流出側(cè)的側(cè)面13流走。另外，通過(guò) 該空氣潤(rùn)滑膜的作用，使得磁頭滑塊8能夠在磁盤(pán)1上浮起。[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)][專(zhuān)利文獻(xiàn)][專(zhuān)利文獻(xiàn)1]日本特開(kāi)平10-293982號(hào)公報(bào)[專(zhuān)利文獻(xiàn)2]日本特開(kāi)平8-87847號(hào)公報(bào)如上述那樣，近年來(lái)，磁頭滑塊8在磁盤(pán)1上的浮起量的下降明顯。與此相伴，產(chǎn) 生將磁盤(pán)上的潤(rùn)滑劑卷起，潤(rùn)滑劑附著于磁頭滑塊的現(xiàn)象。該附著的潤(rùn)滑劑大體存在兩個(gè) 問(wèn)題。第一個(gè)問(wèn)題在于，潤(rùn)滑劑從磁頭滑塊表面潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面，結(jié)果，浮起量變 化。另外，第二個(gè)問(wèn)題在于，潤(rùn)滑劑通過(guò)磁頭滑塊的振動(dòng)或周?chē)目諝饬鲃?dòng)而落到盤(pán)片上， 磁頭滑塊爬升到其上將其壓碎。對(duì)于上述第一個(gè)問(wèn)題，提出有使用專(zhuān)利文獻(xiàn)1的磁頭滑塊的磁盤(pán)裝置。根據(jù)記載于該專(zhuān)利文獻(xiàn)1的磁盤(pán)裝置，通過(guò)使磁頭滑塊中的空氣膜潤(rùn)滑面與其流出端端面的角度在 70度以下，從而使流出端端面附近的空氣的流動(dòng)平順，具有防止?jié)櫥瑒└街诹鞒龆硕嗣?的效果。然而，該專(zhuān)利文獻(xiàn)1的磁盤(pán)裝置不能夠完全地防止?jié)櫥瑒└街诖蓬^滑塊，存在附 著于流出端端面的潤(rùn)滑劑在磁盤(pán)停止時(shí)向空氣膜潤(rùn)滑面潤(rùn)濕擴(kuò)展的問(wèn)題.另外，對(duì)于上述第二個(gè)問(wèn)題，提出有專(zhuān)利文獻(xiàn)2的磁頭滑塊。記載于該專(zhuān)利文獻(xiàn)2 的磁頭滑塊，在與磁頭滑塊的浮起面中的空氣流出端連接的滑塊的一側(cè)面，設(shè)置有對(duì)附著 于磁頭滑塊的潤(rùn)滑劑進(jìn)行保持的潤(rùn)滑劑保持機(jī)構(gòu)。作為潤(rùn)滑劑保持機(jī)構(gòu)，在與空氣流出端 連接的滑塊的一側(cè)面設(shè)置有槽或突起。這樣，能夠抑制附著、堆積于磁頭的潤(rùn)滑劑在磁盤(pán)停 止時(shí)浸入到磁盤(pán)與磁頭浮起面的分界面，避免吸附現(xiàn)象。然而，在專(zhuān)利文獻(xiàn)2的磁頭滑塊中，在作為潤(rùn)滑劑保持機(jī)構(gòu)的槽或突起處，如果整 個(gè)面的潤(rùn)濕性相同，或者與空氣膜潤(rùn)滑面接觸的面的潤(rùn)濕性良好、附著的潤(rùn)滑劑具有潤(rùn)濕 擴(kuò)展的性質(zhì)，則存在被保持的潤(rùn)滑劑在盤(pán)片停止時(shí)潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明就是為了解決上述問(wèn)題點(diǎn)而作出的，其目的在于提供一種在磁盤(pán)上涂覆了 潤(rùn)滑劑的磁盤(pán)裝置，該磁盤(pán)裝置能夠防止?jié)櫥瑒?rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面以及潤(rùn)滑劑從磁 頭滑塊落下，可靠性高。在本發(fā)明的磁盤(pán)裝置中，為了解決上述問(wèn)題，在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中， 使與其它側(cè)面鄰接的外側(cè)區(qū)域的全部或一部分的潤(rùn)濕性比空氣流出側(cè)的側(cè)面中的其它區(qū) 域的潤(rùn)濕性差(難以潤(rùn)濕)。另外，對(duì)流出端端面各區(qū)域中的潤(rùn)濕性的控制，通過(guò)涂覆防油 劑或親油劑、改變表面粗糙度來(lái)實(shí)現(xiàn)。在空氣流出端端面中，在潤(rùn)濕性良好(容易潤(rùn)濕)的 區(qū)域能夠(通過(guò)潤(rùn)濕擴(kuò)展效果)防止?jié)櫥瑒┑囊旱位?，能夠防止因磁頭滑塊的振動(dòng)或空氣 流動(dòng)而使?jié)櫥瑒┑囊旱温涞酱疟P(pán)上。另外，對(duì)于在空氣流出端端面的容易潤(rùn)濕的區(qū)域潤(rùn)濕 擴(kuò)展了的潤(rùn)滑劑液滴，由于其潤(rùn)濕擴(kuò)展被難以潤(rùn)濕的區(qū)域阻止，所以，能夠防止?jié)櫥瑒?rùn)濕 擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面。另外，上述空氣流出側(cè)的側(cè)面以如下方式配置，S卩，由多個(gè)三角形形狀構(gòu)成上述外 側(cè)區(qū)域的潤(rùn)濕性差的區(qū)域，在上述磁頭滑塊的空氣膜潤(rùn)滑面的方向，三角形面積增加。在潤(rùn) 滑劑的液滴形成于空氣流出側(cè)的側(cè)面的情況下，液滴朝更容易潤(rùn)濕的方向(空氣膜潤(rùn)滑面 的相反側(cè))移動(dòng)。由此，能夠防止?jié)櫥瑒┑囊旱螡?rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面。另外，在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中設(shè)置了凹部。由此，附著在空氣流出側(cè)的 側(cè)面上的液滴通過(guò)表面張力效果而被保持在凹部中，能夠防止落下或潤(rùn)濕擴(kuò)展。這樣，根據(jù)本發(fā)明，對(duì)于附著于磁頭滑塊的潤(rùn)滑劑，能夠防止其落下和潤(rùn)濕擴(kuò)展。另一方面，作為將附著于磁頭滑塊的潤(rùn)滑劑去除的機(jī)構(gòu)，當(dāng)磁頭滑塊收納于裝載 卸載部時(shí)，在與磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面相向的裝載卸載部的面上設(shè)置有突起，使該 突起的潤(rùn)濕性比磁頭滑塊的側(cè)面更好(容易潤(rùn)濕)。由此，附著在空氣流出端的側(cè)面上的潤(rùn) 滑劑的液滴由于潤(rùn)濕性的效果而向裝載卸載部移動(dòng)，所以，能夠?qū)⒏街臐?rùn)滑劑除去。通過(guò)組合與上述磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面相關(guān)的發(fā)明和與裝載卸載部相關(guān) 的發(fā)明，能夠進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)有效地防止?jié)櫥瑒┞湎?、?rùn)濕擴(kuò)展的效果。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供如下的在磁盤(pán)上涂覆有潤(rùn)滑劑的磁盤(pán)裝置，該磁盤(pán)裝置能夠防止?jié)櫥瑒?rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面以及潤(rùn)滑劑從磁頭滑塊落下，可靠性高。


圖1為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之一)。圖2為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之二)。圖3為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之三)。圖4為表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之四)。圖5為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。圖6為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖1的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。圖7為表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之一)。圖8為表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖(之二)。圖9為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖7的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。圖10為表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖11為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖10的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。圖12為表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖13為放大示出圖17所示的裝載卸載部7的一部分的立體圖。圖14為表示磁頭收納于裝載卸載部7的狀態(tài)的立體圖。圖15為表示磁頭收納于裝載卸載部7的情況下的磁頭滑塊與突起的位置關(guān)系、以及附著在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上的潤(rùn)滑劑的液滴的位置關(guān)系的側(cè)視圖。圖16為在圖15的磁頭滑塊與突起的位置關(guān)系下潤(rùn)滑劑的液滴從磁頭滑塊的側(cè)面朝突起表面移動(dòng)的狀態(tài)的側(cè)視圖。圖17為一般的磁盤(pán)裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖18為磁頭5的前端的立體圖。圖19為現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊的立體圖。符號(hào)說(shuō)明1…磁盤(pán)2…旋轉(zhuǎn)軸3…臂旋轉(zhuǎn)軸4…臂5…磁頭6…音圈馬達(dá)7···裝載卸載部8…磁頭滑塊9…襯墊10…殼體11…潤(rùn)濕性好的區(qū)域12…突起13…空氣流出側(cè)的側(cè)面14…防油劑的涂覆區(qū)域15…親油劑的涂覆區(qū)域16…導(dǎo)向件17…板18…突起19…潤(rùn)滑劑的液滴20…空氣膜潤(rùn)滑面21…凹部22…磁頭滑塊的前端30…其它側(cè)面
具體實(shí)施例方式以下，根據(jù)圖1 圖16說(shuō)明本發(fā)明的各實(shí)施方式。實(shí)施方式1以下，根據(jù)圖1 圖6說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式。圖1 圖4為表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖5為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。
圖6為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖1的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的圖。
本實(shí)施方式在圖1所示的磁頭滑塊8的空氣流出側(cè)的側(cè)面13中，在上下兩端部設(shè) 置有突起12。在該突起12中，與空氣膜潤(rùn)滑面(圖的上面)鄰接的面12a成為比其它區(qū)域 (與面12a正交的面12c和區(qū)域11)更難潤(rùn)濕的表面。另外，在其它區(qū)域中，形成為具有潤(rùn) 濕性的表面，當(dāng)潤(rùn)滑劑的液滴附著時(shí)，該表面充分地潤(rùn)濕擴(kuò)展到液滴不落下的程度。另外， 圖1的下側(cè)的突起12的面12b也難以潤(rùn)濕，從而能夠使?jié)櫥瑒﹥H停留在空氣流出側(cè)的側(cè)面 13。本發(fā)明這樣使得空氣流出側(cè)的側(cè)面13的與其它側(cè)面30鄰接的外側(cè)區(qū)域的全部或一部 分難以潤(rùn)濕。圖5和圖6表示現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊與本實(shí)施方式的磁頭滑塊的效果的不同。圖 5表示現(xiàn)有技術(shù)的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)，存在以下問(wèn)題，即，附著于空氣流出側(cè)的側(cè)面13的潤(rùn)滑 劑的液滴19如圖中左側(cè)的液滴那樣因磁頭滑塊的振動(dòng)或周?chē)目諝饬鲃?dòng)而落下，或者，如 圖中右側(cè)的液滴那樣朝空氣膜潤(rùn)滑面潤(rùn)濕擴(kuò)展。圖6表示本實(shí)施方式的磁頭滑塊的效果， 由于附著于空氣流出側(cè)的側(cè)面13的潤(rùn)滑劑的液滴由突起12保持，所以，能夠防止因磁頭滑 塊的振動(dòng)或周?chē)目諝饬鲃?dòng)導(dǎo)致的下落。另外，在裝置靜止時(shí)，由于區(qū)域11的表面潤(rùn)濕性 良好，所以，附著的潤(rùn)滑劑的液滴潤(rùn)濕擴(kuò)展，液滴尺寸不會(huì)變大。另外，由于在突起12中與 空氣膜潤(rùn)滑面(圖的上面)鄰接的面12a的表面難以潤(rùn)濕，所以，能夠防止附著于區(qū)域11 的潤(rùn)滑劑潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面。在本實(shí)施方式的磁頭滑塊中，在磁頭滑塊的上下2個(gè)部位設(shè)置突起12，使構(gòu)成這 些突起的頂部的面12a、12b難以潤(rùn)濕。這樣，不僅能夠防止附著在空氣流出側(cè)的側(cè)面的潤(rùn) 滑劑的液滴潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面，而且能夠防止?jié)櫥瑒?rùn)濕擴(kuò)展到圖的下方的面(空 氣膜潤(rùn)滑面的相反側(cè)的面)。在潤(rùn)滑劑潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面以外的面的情況下，存在因 周?chē)目諝饬鲃?dòng)的影響而飛散的可能性，通過(guò)設(shè)置上述突起12，該問(wèn)題也能夠解決。圖2和圖3所示的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)是改變了圖1的突起配置的例子。另外，磁頭 滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中的突起如圖4那樣既可配置于面的4邊，也可配置于面的3邊。 在圖2和圖3所示的磁頭滑塊中，通過(guò)與圖1的磁頭滑塊同樣的機(jī)理，能夠防止附著于空氣 流出側(cè)的側(cè)面的潤(rùn)滑劑的液滴落到盤(pán)片上，或者潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面或其它側(cè)面?？諝饬鞒鰝?cè)的側(cè)面13中的防油部及親油部的形成，不限于通過(guò)涂覆防油劑或親 油劑而形成防油膜及親油膜，通過(guò)控制壁面的表面粗糙度也能夠?qū)崿F(xiàn)。在該情況下，通過(guò)使 表面粗糙度變粗，能夠提高親油性，通過(guò)極力減小表面粗糙度，能夠提高防油性。另外，通過(guò) 相對(duì)地改變構(gòu)件表面的粗糙度等，也能夠獲得同樣的效果。作為用于實(shí)現(xiàn)上述親油部和防油部的具體的加工方法，可列舉出在構(gòu)件表面涂覆 防油劑的方法、實(shí)施化學(xué)的表面處理的方法、通過(guò)放電加工等機(jī)械地改變表面粗糙度的方 法、或者改變車(chē)床加工時(shí)的刀頭的進(jìn)給速度或切深的方法等。另外，在通過(guò)放電加工等形成 圖案形狀的情況下，在放電加工面使表面粗糙度增大，使?jié)櫇裥员任醇庸っ娲?，由此，能?實(shí)現(xiàn)同樣的效果。另外，通過(guò)在形成了圖案的加工面的整個(gè)面上涂覆防油劑，也能夠控制實(shí) 施了加工的表面和未加工的表面的潤(rùn)濕性。加工面的粗糙度和潤(rùn)滑劑的潤(rùn)濕性大致如下。例如，在實(shí)施放電加工而改變了表 面粗糙度的金屬表面上滴下一定量的潤(rùn)滑劑、比較潤(rùn)濕擴(kuò)展的半徑的情況下，在Rmax = 3. 2的加工面中，滴下液滴的形狀擴(kuò)大成大致圓形，但在Rmax = 25以上的加工面中，滴下液滴的輪廓不止于圓形，而是在表面的凹凸內(nèi)潤(rùn)濕擴(kuò)展。另外，在銑削加工Rmax = 3. 2的加 工面中，液滴沿加工軌跡擴(kuò)大成大致橢圓形狀。另外，在涂覆防油劑之外的方法中，為了容 易防油，需要使表面的加工粗糙度盡可能小。在涂覆防油劑的情況下，優(yōu)選大致以下那樣的方法。在使用市場(chǎng)出售的防油劑的 情況下，在對(duì)目的表面進(jìn)行涂覆、干燥后，通過(guò)在規(guī)定的溫度下使其硬化，能夠?qū)崿F(xiàn)所期望 的防油性。作為在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面表面上形成防油膜的方法，可列舉出在通過(guò)切削而變粗糙了的表面上選擇性地涂覆防油劑的方法，以及制作涂覆圖案的掩模并涂覆 成規(guī)定的厚度的方法等。在任意一種情況下，防油劑的剩余部分最好都被機(jī)械或化學(xué)地除 去，明確防油區(qū)域與親油區(qū)域的邊界。實(shí)施方式2下面根據(jù)圖7 圖9說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式。圖7及圖8為表示本發(fā)明第二實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖9為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖7的磁頭滑塊中的空氣流出側(cè)的側(cè)面上時(shí)的動(dòng)作的 圖。本實(shí)施方式能夠更簡(jiǎn)易地實(shí)施第一實(shí)施方式。本實(shí)施方式的磁頭滑塊如圖7所示 那樣，在空氣流出側(cè)的側(cè)面13中，在與磁頭滑塊的其它側(cè)面30鄰接的外側(cè)區(qū)域14上涂覆 防油劑，在其它區(qū)域15上涂覆親油劑。圖9說(shuō)明了本實(shí)施方式的磁頭滑塊的機(jī)理，由于附 著在空氣流出側(cè)的側(cè)面13上的潤(rùn)滑劑的液滴19潤(rùn)濕擴(kuò)展，所以能夠防止液滴尺寸變大，避 免落下。另外，利用區(qū)域14與區(qū)域15的潤(rùn)濕性的不同，能夠防止附著的潤(rùn)滑劑潤(rùn)濕擴(kuò)展到 空氣膜潤(rùn)滑面或其它側(cè)面30上。圖7的區(qū)域14配置于空氣流出側(cè)的側(cè)面的四邊，但是如圖8所示，僅在與空氣膜潤(rùn)滑面鄰接的區(qū)域涂覆防油劑也具有效果，通過(guò)在由于潤(rùn)滑劑潤(rùn)濕擴(kuò)展而產(chǎn)生問(wèn)題的位置 配置涂覆了防油劑的區(qū)域14，能夠防止?jié)櫇駭U(kuò)展。實(shí)施方式3下面根據(jù)圖10及圖11說(shuō)明本發(fā)明的第三實(shí)施方式。圖10為表示本發(fā)明第三實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖11為說(shuō)明潤(rùn)滑劑附著在圖10的磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面時(shí)的動(dòng)作的圖。在本實(shí)施方式中，空氣流出側(cè)的側(cè)面以如下方式配置，即，由多個(gè)三角形形狀構(gòu) 成外側(cè)區(qū)域的潤(rùn)濕性差的區(qū)域，在磁頭滑塊的空氣膜潤(rùn)滑面的方向上，三角形的面積增加 (三角形的底邊變大)。另外，在空氣流出側(cè)的側(cè)面中，使三角形區(qū)域以外的區(qū)域的表面的 表面粗糙度增大，或者涂覆親油劑，從而使?jié)櫇裥愿纳?。在空氣流出?cè)的側(cè)面形成潤(rùn)滑劑 的液滴的情況下，液滴朝更容易潤(rùn)濕的方向移動(dòng)。圖11說(shuō)明了本實(shí)施方式的磁頭滑塊的機(jī) 理，能夠防止?jié)櫥瑒┑囊旱?9潤(rùn)濕擴(kuò)展到空氣膜潤(rùn)滑面。除了該三角形的形狀外，也可為 梯形、半圓等面積在空氣膜潤(rùn)滑面的方向上增加的形狀。另外，該三角形不僅能夠設(shè)置在面 13的一邊，也可設(shè)置在其它邊。實(shí)施方式4下面，根據(jù)圖12說(shuō)明本發(fā)明的第四實(shí)施方式。圖12為表示本發(fā)明第四實(shí)施方式的磁頭滑塊的結(jié)構(gòu)的立體圖。本實(shí)施方式的磁頭滑塊如圖12所示，在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面設(shè)置了多個(gè)凹部。由此，對(duì)附著在空氣流出側(cè)的側(cè)面上的潤(rùn)滑劑的液滴進(jìn)行捕捉，能夠防止液滴的落 下以及向空氣膜潤(rùn)滑面的潤(rùn)濕擴(kuò)展。實(shí)施方式5下面，根據(jù)圖13 圖16說(shuō)明本發(fā)明的第5實(shí)施方式。圖13為放大示出圖17所示的裝載卸載部7的一部分的立體圖。圖14為表示磁頭收納于裝載卸載部7的狀態(tài)的立體圖。圖15為表示磁頭收納于裝載卸載部7的情況下的磁頭滑塊與突起的位置關(guān)系、以及附著于磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上的潤(rùn)滑劑的液滴的位置關(guān)系的側(cè)視圖。圖16為在圖15的磁頭滑塊與突起的位置關(guān)系中潤(rùn)滑劑的液滴從磁頭滑塊的側(cè)面 向突起表面移動(dòng)的狀態(tài)的側(cè)視圖。本實(shí)施方式是在磁頭休止時(shí)有效地將附著于磁頭滑塊的潤(rùn)滑劑的液滴除去的裝置。磁頭滑塊的前端22從圖13中的箭頭方向插入，沿導(dǎo)向件16被夾入到設(shè)置于導(dǎo)向 件16與板17之間的間隙中。而且，突起18形成在板17的下方。突起18的表面通過(guò)涂覆 親油劑或增大表面粗糙度而成為比磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面更容易潤(rùn)濕的狀態(tài)。當(dāng)磁 頭5收納于裝載卸載部7時(shí)，成為圖14所示的狀態(tài)。當(dāng)收納磁頭時(shí)，磁頭滑塊8的空氣流 出側(cè)的側(cè)面13與設(shè)置于裝載卸載部7的突起18相向，形成狹小的空間。下面使用圖15和圖16說(shuō)明本發(fā)明的效果和機(jī)理。圖15和圖16表示磁頭5收納 于裝載卸載部7的情況下的磁頭滑塊8與突起18的位置關(guān)系。當(dāng)磁頭滑塊8收納于裝載 卸載部7時(shí)，附著于磁頭滑塊8的空氣流出側(cè)的側(cè)面上的潤(rùn)滑劑的液滴19的一部分附著于 突起18。由于突起18的表面比磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面更容易潤(rùn)濕，所以，如圖16那 樣，液滴19移動(dòng)到突起18。由此，能夠除去附著于磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面上的潤(rùn)滑 劑的液滴。
權(quán)利要求
一種磁盤(pán)裝置，具有在表面涂覆了潤(rùn)滑劑的磁盤(pán)和進(jìn)行上述磁盤(pán)的信息的記錄、再生的磁頭，在上述磁頭的前端形成記錄再生元件，并且搭載了在上述磁盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí)通過(guò)空氣而浮起的磁頭滑塊，其特征在于，在上述磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中，使與其它側(cè)面鄰接的外側(cè)區(qū)域的全部或一部分的潤(rùn)濕性比上述空氣流出側(cè)的其它區(qū)域的潤(rùn)濕性差。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)裝置，其特征在于，將上述空氣流出側(cè)的側(cè)面的上述外 側(cè)區(qū)域加工成突起狀，使構(gòu)成上述突起的頂部的面的潤(rùn)濕性比上述空氣流出側(cè)的側(cè)面的其 它區(qū)域差。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)裝置，其特征在于，在上述空氣流出側(cè)的側(cè)面中，使上述 外側(cè)區(qū)域的表面粗糙度比其它區(qū)域小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)裝置，其特征在于，在上述空氣流出側(cè)的側(cè)面的上述外 側(cè)區(qū)域上涂覆了防油劑，在上述空氣流出側(cè)的其它側(cè)面上涂覆了親油劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁盤(pán)裝置，其特征在于，上述空氣流出側(cè)的側(cè)面中的上述外 側(cè)區(qū)域的潤(rùn)濕性差的區(qū)域由多個(gè)三角形形狀構(gòu)成，并且以三角形的面積在上述磁頭滑塊的 空氣膜潤(rùn)滑面的方向上增加的方式進(jìn)行配置。
6.一種磁盤(pán)裝置，具有在表面涂覆了潤(rùn)滑劑的磁盤(pán)和進(jìn)行上述磁盤(pán)的信息的記錄、再 生的磁頭，在上述磁頭的前端形成記錄再生元件，并且搭載有在上述磁盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí)通過(guò)空氣 而浮起的磁頭滑塊，其特征在于，在上述磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中設(shè)有凹部。
7.—種磁盤(pán)裝置，具有在表面涂覆了潤(rùn)滑劑的磁盤(pán)和進(jìn)行上述磁盤(pán)的信息的記錄、再 生的磁頭，在上述磁頭的前端形成有記錄再生元件，并且搭載有在上述磁盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí)通過(guò)空 氣而浮起的磁頭滑塊，并且具有收納上述磁頭滑塊的裝載卸載部，其特征在于，在上述裝載卸載部中，在與上述磁頭滑塊的側(cè)面相向的裝載卸載部側(cè)的面上設(shè)置有突 起，使上述突起的潤(rùn)濕性比上述磁頭滑塊的側(cè)面的潤(rùn)濕性好。
全文摘要
本發(fā)明提供一種磁盤(pán)裝置，其中，在磁盤(pán)上涂覆了潤(rùn)滑劑，可防止?jié)櫥瑒┫蚩諝饽?rùn)滑面潤(rùn)濕擴(kuò)展或從磁頭滑塊落下，可提高可靠性。在磁頭滑塊的空氣流出側(cè)的側(cè)面中，使與其它側(cè)面鄰接的外側(cè)區(qū)域的全部或一部分的潤(rùn)濕性比空氣流出側(cè)的側(cè)面中的其它區(qū)域的潤(rùn)濕性差(難以潤(rùn)濕)。例如，在磁頭滑塊(8)的空氣流出側(cè)的側(cè)面(13)中，在上下兩端部設(shè)置突起(12)。在構(gòu)成該突起(12)的頂部的面(12a)中，形成為比其它區(qū)域(與面(12a)正交的面(12c)和區(qū)域(11))更難以潤(rùn)濕的表面。另外，在其它區(qū)域中，形成為具有潤(rùn)濕性的表面，在潤(rùn)滑劑的液滴附著時(shí)，該表面能夠充分地潤(rùn)濕到液滴不落下的程度。
文檔編號(hào)G11B5/60GK101800064SQ201010104020
公開(kāi)日2010年8月11日 申請(qǐng)日期2010年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月9日
發(fā)明者內(nèi)田麻理, 石井英二, 石川正典 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立制作所