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磁頭滑塊的制作方法

文檔序號(hào):6780092閱讀:159來源:國(guó)知局
專利名稱:磁頭滑塊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明一般地涉及盤裝置中所用的磁頭滑塊,具體地涉及這樣的磁頭 滑塊它在其表面中具有凹陷部分以保持恒定的飛行特性。
背景技術(shù)
磁盤裝置越來越大的記錄密度已經(jīng)造成了需要減小磁盤與在磁盤上方 飛行的磁頭之間的距離。為了減小磁頭與磁盤之間的距離,就需要減小磁 頭滑塊的飛行高度,其中磁頭安裝在磁頭滑塊上。最近的磁盤裝置的磁頭滑塊飛行高度減小到了 lOnm或更小。日本專利公開No,2004-55127 (對(duì)應(yīng)于美國(guó)專利申請(qǐng)公開 No.2004/0012887)公開了一種用于磁盤裝置的磁頭滑塊,該磁頭滑塊在其 表面中有凹陷部分(也稱為"槽"),用于調(diào)整飛行高度并保持恒定的飛 行特性。在磁盤旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的空氣流沿凹陷部分經(jīng)過時(shí),產(chǎn)生了適當(dāng)水平 的靜壓。通過這種靜壓,磁頭滑塊可以穩(wěn)定地在磁盤上方飛行,同時(shí)保持 與磁盤相距預(yù)定距離。通常,潤(rùn)滑劑(例如PFPE (全氟聚醚)油)被涂敷到磁盤表面上以 減小磁頭滑塊的摩擦。潤(rùn)滑劑是具有較高粘度的液體,因此即使在磁盤以 高速旋轉(zhuǎn)時(shí)也保持在磁盤表面上。即,磁頭滑塊在涂覆于磁盤上的潤(rùn)滑劑 涂層上方飛行。如果減小磁頭滑塊與磁盤之間的距離,則磁頭滑塊可能與潤(rùn)滑劑接 觸,因此微量的潤(rùn)滑劑可能轉(zhuǎn)移到磁頭滑塊的表面上。另外,如果氣化的 潤(rùn)滑劑與磁頭滑塊的表面接觸并凝聚,則潤(rùn)滑劑附著到磁頭滑塊的表面 上。在存在剪應(yīng)力集中區(qū)域的情況下,潤(rùn)滑劑匯集到該區(qū)域中,其中所述 剪應(yīng)力是由于沿磁頭滑塊表面流動(dòng)的空氣而造成的。
如果潤(rùn)滑劑會(huì)聚形成大的液滴,則液滴從滑塊掉落到磁盤(潤(rùn)滑劑涂 層)上。剛剛掉落的潤(rùn)滑劑液滴在潤(rùn)滑劑涂層上具有突起形狀。當(dāng)磁盤旋 轉(zhuǎn)360度、掉落的潤(rùn)滑劑回到磁頭滑塊位置的時(shí)候,磁頭滑塊可能與掉落 的潤(rùn)滑劑發(fā)生碰撞。這是因?yàn)橛捎诖疟P的高速旋轉(zhuǎn)和潤(rùn)滑劑的高粘度,在 掉落到磁盤上的突起潤(rùn)滑劑變平之前,磁盤就轉(zhuǎn)過了一周。如果磁頭滑塊 與潤(rùn)滑劑發(fā)生碰撞,在最壞的情況下,磁頭滑塊可能由于碰撞沖擊而損 壞。當(dāng)磁頭與磁盤之間的距離較短的時(shí)候,這種問題更容易發(fā)生。發(fā)明內(nèi)容考慮到前述問題,本發(fā)明針對(duì)的是提供一種磁頭滑塊,它防止了附著 到磁頭表面的潤(rùn)滑劑匯集并形成大的液滴。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,提供了一種磁頭滑塊,它設(shè)置成通過空氣 流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行。所述磁頭滑塊包括凹陷部分,所述凹陷部分位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分被形成為這樣的形狀所述形狀使得不會(huì)形成由所述空氣流造成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,提供了一種磁頭滑塊,它設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行。所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面 向所述記錄介質(zhì)的表面中;和突出部分,位于所述凹陷部分中,所述磁頭滑塊的每個(gè)側(cè)面附近設(shè)有一個(gè)所述突出部分。所述凹陷部分和所述突出部分被形成為這樣的形狀所述形狀使得不會(huì)在所述突出部分與所述磁頭滑 塊的后緣之間形成由所述空氣流造成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,提供了一種磁頭滑塊,它設(shè)置成通過空氣 流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行。所述磁頭滑塊包括凹陷部分,所述凹陷 部分位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中。所述凹陷部分包括具有第一深度的 第一凹陷部分和具有第二深度的第二凹陷部分,所述第二深度小于所述第 一深度。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,提供了一種磁頭滑塊,它設(shè)置成通過空氣 流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行。所述磁頭滑塊包括凹陷部分,所述凹陷 部分位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中。所述凹陷部分的底面包括斜坡,所
述斜坡的深度向所述磁頭滑塊的后緣逐漸減小。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,提供了一種磁頭滑塊,它設(shè)置成通過空氣 流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行。所述磁頭滑塊包括凹陷部分,所述凹陷 部分位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中。所述凹陷部分的底面包括有臺(tái)階部 分,所述有臺(tái)階部分的深度向所述磁頭滑塊的后緣以臺(tái)階方式減小。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,可以防止空氣流造成的剪應(yīng)力集中在磁頭滑 塊飛行表面上的一個(gè)區(qū)域中。因此,可以在潤(rùn)滑劑生長(zhǎng)成大的液滴之前迫 使?jié)櫥瑒┻B續(xù)地沿后緣方向出去。因此可以減小潤(rùn)滑劑的液滴對(duì)磁頭滑塊 飛行特性的影響并防止磁頭滑塊由于與液滴碰撞而損壞。


圖1是示出磁頭滑塊的側(cè)視圖,該磁頭滑塊作為本發(fā)明的實(shí)施例可應(yīng) 用到的磁頭滑塊的一種示例;圖2的立體圖示出圖1的磁頭滑塊的飛行表面;圖3是圖2的飛行表面上剪應(yīng)力的矢量圖;圖4的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面; 圖5是圖4的飛行表面上剪應(yīng)力的矢量圖;圖6的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面; 圖7的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的變更實(shí)施例的磁頭滑塊的 飛行表面;圖8的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面; 圖9的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的第一變更實(shí)施例的磁頭滑 塊的飛行表面;圖10的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的第二變更實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面;圖11的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面; 圖12的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的變更示例的磁頭滑塊的飛行表面;圖13的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面;
圖14的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的變更示例的磁頭滑塊的飛行表面;圖15的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面;圖16的曲線圖示出第二凹陷部分的深度與第二凹陷部分底面上保留 的潤(rùn)滑劑體積之間的關(guān)系;圖17的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面;圖18的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的第一變更實(shí)施例的磁頭 滑塊的飛行表面;圖19的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的第二變更實(shí)施例的磁頭 滑塊的飛行表面;圖20的示意示了圖19的飛行表面中側(cè)邊緣的傾斜角度;圖21的立體圖示出根據(jù)本發(fā)明第八實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面;圖22的立體圖示出了圖19的磁頭滑塊飛行表面上底面的深度;圖23的立體圖示出了圖19的磁頭滑塊的飛行表面,其中除去了側(cè)面塊。
具體實(shí)施方式
首先參考圖1對(duì)一種磁頭滑塊進(jìn)行說明,本發(fā)明一種實(shí)施例應(yīng)用于該 磁頭滑塊。圖1是示出磁頭滑塊1的側(cè)視圖,磁頭滑塊1作為本發(fā)明的實(shí) 施例可應(yīng)用到的磁頭滑塊的一種示例。圖1的磁頭滑塊1設(shè)置成使用磁頭 元件(未示出)、在飛行于磁盤2上方的同時(shí)在磁盤2 (記錄介質(zhì))上寫 入磁信號(hào)并從其讀取磁信號(hào)。磁頭滑塊1例如小至約lmm寬、1.2mm長(zhǎng) 和100nm厚。磁頭滑塊1包括面向磁盤2的飛行表面la。潤(rùn)滑劑涂層2a 形成于磁盤2的表面上。磁頭滑塊1設(shè)置成通過磁盤2的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的氣流而飛行。在磁頭滑塊 1飛行的同時(shí),飛行表面la的前緣lb (即在空氣流方向上的上游邊緣)保 持在飛行表面la的后緣lc (在空氣流方向上的下游邊緣)上方。即,磁 頭滑塊1在磁盤2上方飛行,同時(shí)保持后緣lc與磁盤2最接近。磁頭元件 安裝在后緣lc附近,從而被保持在飛行時(shí)與磁盤2靠近的位置。后緣lc
也稱為出口 (outlet),因?yàn)檠仫w行表面流動(dòng)的空氣從后緣lc流出。在下 面的說明中,術(shù)語"前"表示磁頭滑塊軸向上空氣流的上游側(cè),術(shù)語 "后"表示磁頭滑塊軸向上空氣流的下游側(cè)。接著參考圖2和圖3,對(duì)一種磁頭滑塊作為參考示例進(jìn)行說明,該磁 頭滑塊在飛行表面上具有使空氣流動(dòng)造成的剪應(yīng)力集中的形狀。圖2是示 出磁頭滑塊的飛行表面la的立體圖,飛行表面la具有使空氣流動(dòng)造成的 剪應(yīng)力集中的形狀。圖3是示出圖2的飛行表面la上由空氣流動(dòng)造成的剪 應(yīng)力的矢量圖。圖2是示出磁頭滑塊1的飛行表面la的立體圖。飛行表面la中形成 有對(duì)空氣流進(jìn)行控制所用的凹陷部分和突出部分。更具體地說,突出部分 是由于形成凹陷部分(也稱為槽)而形成的。在圖2中,垂直尺寸(凹陷 部分或槽的深度)沒有按比例繪制而是增大了。例如,在磁頭滑塊1的寬 度為lmm、長(zhǎng)度為1.2mm的情況下,凹陷部分或槽的底面深度在約1.5至 2.0(im的范圍內(nèi)。磁頭滑塊1的飛行表面la上的前緣lb那側(cè)不形成凹陷部分,而后緣 lc那側(cè)形成凹陷部分3。凹陷部分3具有圖2所示的復(fù)雜形狀。由于形成 凹陷部分3,突起部分也從而形成,并從凹陷部分3的底面3a突起。突起 部分包括中心塊4 (第一突出部分)和兩個(gè)側(cè)面塊6 (第二突出部分), 中心塊4在磁頭滑塊1的寬度方向上的中心處位于后緣lc附近,兩個(gè)側(cè)壁 5各自在磁頭滑塊1的各個(gè)側(cè)面附近縱向延伸,兩個(gè)側(cè)面塊6位于相應(yīng)側(cè) 壁5的后側(cè)。磁頭元件(未示出)在后緣lc附近安裝在中心塊4 (第一突出部分) 的表面附近。側(cè)面塊(第二突出部分)6各自設(shè)置在磁頭滑塊1的各個(gè)側(cè) 面附近,以使磁頭滑塊1保持穩(wěn)定的飛行位置。側(cè)壁5設(shè)置成在磁頭滑塊 1大體上中心處劃定了一個(gè)空間。流入該空間的空氣在該空間中產(chǎn)生負(fù) 壓,這樣產(chǎn)生了適當(dāng)?shù)牧⒋蓬^滑塊1壓向磁盤2。在包括具有上述形狀的飛行表面la的磁頭滑塊1中,當(dāng)空氣從前緣 lb那側(cè)流動(dòng)時(shí),空氣流造成的剪應(yīng)力施加到飛行表面la。在圖3中,剪應(yīng) 力以矢量形式表示。圖3的箭頭指示了代表剪應(yīng)力的矢量。箭頭的方向?qū)?應(yīng)于空氣流造成的剪應(yīng)力的方向。在圖3中,圓圈包圍的區(qū)域是來自所有方向的箭頭所指向的地方。在 這些區(qū)域,空氣流造成的剪應(yīng)力從基本上所有方向集中。剪應(yīng)力從基本上 所有方向集中的這些區(qū)域在下文中稱為集中點(diǎn)。如果形成了集中點(diǎn),則已 被帶到集中點(diǎn)處的微量潤(rùn)滑劑會(huì)保持在那里。當(dāng)己積累并保持在集中點(diǎn)處 的潤(rùn)滑劑量隨著時(shí)間增大時(shí),潤(rùn)滑劑生長(zhǎng)成大的液滴。潤(rùn)滑劑的液滴對(duì)磁頭滑塊1的飛行特性有不利影響。在最壞的情況 下,磁頭滑塊1上的液滴掉落到盤上并與磁頭滑塊1碰撞,從而可能損壞磁頭滑塊1。在圖2所示的磁頭滑塊1中,在側(cè)面塊6的后面特別容易產(chǎn)生集中點(diǎn)。在本發(fā)明的一種實(shí)施例中,凹陷部分被形成,該凹陷部分的形狀防止 了磁頭滑塊的飛行表面上產(chǎn)生集中點(diǎn)。圖4的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 10a。本發(fā)明第一實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面10a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的 深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,形成了這樣的凹陷部 分它包括兩種深度不同的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,凹陷部分3 (第一凹陷部分)形成于將兩個(gè)側(cè)面塊6 的前表面相連的直線的前側(cè),而凹陷部分11 (第二凹陷部分)的底面lla 在將兩個(gè)側(cè)面塊6的前表面相連的直線后側(cè)的整個(gè)部分上延伸。即,凹陷 部分11的底面lla形成為圍繞側(cè)面塊6和中心塊4。換句話說,中心塊4 和側(cè)面塊6設(shè)置在凹陷部分11 (第二凹陷部分)內(nèi)并從底面lla突出。當(dāng)空氣從飛行表面10a的前緣10b流向后緣10c時(shí),空氣流造成的剪 應(yīng)力被施加到飛行表面10a。在圖5中,剪應(yīng)力以矢量形式表示。與圖2 所示示例不同,中心塊4的后方或者側(cè)面塊6的后方?jīng)]有產(chǎn)生圖2所示的 集中點(diǎn)。即,根據(jù)本實(shí)施例,具有兩種深度的凹陷部分包括凹陷部分11, 凹陷部分11包括從側(cè)面塊6向后延伸的、深度較小的底面lla。這種構(gòu)造 防止了中心塊4和側(cè)面塊6的后方產(chǎn)生集中點(diǎn)。由示出剪應(yīng)力的圖5可見,具有較小深度的凹陷部分防止了空氣流的 障礙物(例如側(cè)面板6)后方形成集中點(diǎn)。換句話說,減小障礙物的高度 防止了形成集中點(diǎn)。但是,由于凹陷部分的深度與凹陷部分要產(chǎn)生的負(fù)壓 有關(guān),所以凹陷部分需要具有足以產(chǎn)生適當(dāng)負(fù)壓的深度??紤]到這個(gè)問 題,在本實(shí)施例中,凹陷部分具有兩種深度,其中,深度較大的凹陷部分 3 (第一凹陷部分)產(chǎn)生所需的負(fù)壓。同時(shí),深度較小的凹陷部分11 (第二凹陷部分)形成于設(shè)置障礙物(例如側(cè)面塊6)的區(qū)域中,從而防止了形成集中點(diǎn)。注意,在圖4所示的飛行表面10a中,凹陷部分11的底面lla延伸到 飛行表面10a的后緣10c,從而基本上劃定了磁頭滑塊的后緣。圖6的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 15a。與第一實(shí)施例類似,本發(fā)明第二實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面15a包 括凹陷部分3 (第一凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部 分11的底面lla的深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹 陷部分形成為包括兩種深度不同的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,凹陷部分ll (第二凹陷部分)的底面lla只圍繞中心 塊4延伸。即,凹陷部分11的底面lla被形成為圍繞中心塊4。換句話 說,中心塊4設(shè)置在凹陷部分11 (第二凹陷部分)內(nèi)并從底面lla突起。在空氣從飛行表面15a的前緣15b流向后緣15c時(shí),中心塊4的后方 不產(chǎn)生圖2所示的集中點(diǎn)。即,在本實(shí)施例中,凹陷部分ll的底面lla形 成為圍繞中心塊4,從而防止了中心塊4的后方產(chǎn)生集中點(diǎn)。注意,如圖7所示,即使在凹陷部分11的底面11a不圍繞中心塊4的 整個(gè)周邊、而只圍繞在中心塊4的后側(cè)圍繞其半個(gè)或多于半個(gè)周邊的情況 下,也可以防止中心塊4的后方形成集中點(diǎn)。圖8的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 20a。本發(fā)明第三實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面20a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的 深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹陷部分形成為包括兩 種不同深度的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,凹陷部分1 (第二凹陷部分)的底面lla只圍繞各個(gè) 側(cè)面塊6延伸。即,凹陷部分11的底面lla被形成為圍繞各個(gè)側(cè)面塊6。 換句話說,側(cè)面塊6設(shè)置在凹陷部分11 (第二凹陷部分)內(nèi)并從底面lla 突起。在空氣從飛行表面20a的前緣20b流向后緣20c時(shí),側(cè)面塊6的后方 不產(chǎn)生圖2所示的集中點(diǎn)。即,在本實(shí)施例中,具有兩種深度的凹陷部分 包括凹陷部分11,凹陷部分11包括圍繞各個(gè)側(cè)面塊6、深度較小的底面 lla。這種構(gòu)造防止了側(cè)面塊6的后方形成集中點(diǎn)。注意,如圖9所示,即使在凹陷部分的底面lla不圍繞各個(gè)側(cè)面塊6 的整個(gè)周邊、而只在各個(gè)側(cè)面塊6的后側(cè)圍繞其半個(gè)或多于半個(gè)周邊的情 況下,也可以防止側(cè)面塊6的后方形成集中點(diǎn)。如圖IO所示,圍繞各個(gè)側(cè)面塊6的凹陷部分11的底面lla可以具有 相對(duì)的內(nèi)側(cè)邊緣,各條內(nèi)側(cè)邊緣相對(duì)于磁頭滑塊的中心軸線傾斜,從而使 底面lla的寬度從各個(gè)側(cè)面塊6的前表面向后逐漸增大。通過安裝到磁頭 滑塊的臂的旋轉(zhuǎn),磁頭滑塊沿徑向在盤上方運(yùn)動(dòng)。因此,磁頭滑塊的中心 軸線并不總是與盤的切線方向?qū)?zhǔn),盤的切線方向與磁頭滑塊的中心軸線 之間存在所謂的斜角(skew angle)。因此,沿磁頭滑塊的飛行表面流動(dòng) 的空氣的方向以斜角傾斜。更具體地說,空氣并不總是從正前方(與前緣 垂直的方向)流動(dòng),而可以從相對(duì)于與前緣垂直的方向(即磁頭滑塊的縱 軸)成斜角的方向流動(dòng)。在圖IO所示的示例中,凹陷部分11的底面lla的各個(gè)縱向邊緣(從 相應(yīng)的側(cè)面塊6的內(nèi)側(cè)前方角延伸的邊緣)相對(duì)于磁頭滑塊的縱軸以最大 斜角或更大的角度傾斜,使得底面lla在空氣流經(jīng)磁頭滑塊的方向上位于 側(cè)面塊6的后方。圖11的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 25a。本發(fā)明第四實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面25a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的 深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹陷部分被形成為具有 兩種不同深度的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,凹陷部分ll (第二凹陷部分)的底面lla與凹陷部分 3 (第一凹陷部分)的底面3a之間形成斜坡26。沿第一凹陷部分3的底面 3a流動(dòng)的空氣沿著斜坡26流動(dòng)到第二凹陷部分11的底面lla上。g卩,斜 坡26使空氣從第一凹陷部分3平滑地流動(dòng)到第二凹陷部分11,從而防止 了空氣的擾動(dòng)和集中。在本實(shí)施例中,設(shè)置了斜坡26來防止從第一凹陷部分3向第二凹陷 部分11流動(dòng)的空氣發(fā)生擾動(dòng)和集中?;蛘?,如圖12的飛行表面30a所 示,可以在凹陷部分11 (第二凹陷部分)的底面11a與凹陷部分3 (第一 凹陷部分)的底面3a之間設(shè)置形成樓梯狀結(jié)構(gòu)的臺(tái)階27a、 27b和27c。 如果相鄰臺(tái)階之間的高度差較小,則臺(tái)階27a、 27b和27c可以帶來與斜坡 26—樣的優(yōu)點(diǎn)。圖13的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 35a。本發(fā)明第五實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面35a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的 深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹陷部分被形成為包括 兩種深度不同的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,凹陷部分11 (第二凹陷部分)的底面lla對(duì)應(yīng)于中心 塊4后側(cè)的小區(qū)域;凹陷部分11的底面lla與凹陷部分3的底面3a之間 形成了斜坡36,其中凹陷部分3形成于側(cè)面塊6的前側(cè)。沿第一凹陷部分 3的底面3a流動(dòng)的空氣沿斜坡36流到第二凹陷部分11的底面lla上。 即,斜坡36使空氣從第一凹陷部分3到第二凹陷部分11平滑地流動(dòng),從 而防止了空氣的擾動(dòng)和集中。斜坡36在側(cè)面塊6的后側(cè)高于側(cè)面塊6的前 側(cè),這防止了空氣在側(cè)面塊6的后方集中。在本實(shí)施例中,設(shè)置了斜坡36來防止從第一凹陷部分3向第二凹陷 部分11流動(dòng)的空氣發(fā)生擾動(dòng)和集中?;蛘?,如圖14的飛行表面40a所 示,可以在凹陷部分11 (第二凹陷部分)的底面11a與凹陷部分3 (第一 凹陷部分)的底面3a之間設(shè)置形成樓梯狀結(jié)構(gòu)的臺(tái)階37a、 37b和37c。 如果相鄰臺(tái)階之間的高度差較小,則臺(tái)階37a、 37b、 37c可以帶來與斜坡 36—樣的優(yōu)點(diǎn)。圖15的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 45a。本發(fā)明第六實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面45a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分119第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的深 度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹陷部分被形成為包括兩 種深度不同的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,中心塊4的前面、后面和側(cè)面以及各個(gè)側(cè)面塊6的后 面和側(cè)面是傾斜的,從而防止了中心塊4和側(cè)面塊6的附近發(fā)生空氣擾 動(dòng),并防止了空氣流造成的剪應(yīng)力集中。本實(shí)施例的構(gòu)造(即,使中心塊4的前面、后面和側(cè)面以及側(cè)面塊6 的后面和側(cè)面傾斜)也適用于上述第一至第五實(shí)施例及其變更實(shí)施例。在上述各實(shí)施例中,設(shè)置第二凹陷部分11且第二凹陷部分11的深度 小于第一凹陷部分3,防止了空氣流造成的剪應(yīng)力集中。本發(fā)明的發(fā)明人 檢查了保留在磁頭滑塊的第二凹陷部分11的底面lla上的潤(rùn)滑劑體積,所 述磁頭滑塊具有約lmm的寬度、1.2mm的長(zhǎng)度,同時(shí)第一凹陷部分3的 深度從約0.5pm至約1.5pm變化。圖16的曲線圖示出了第二凹陷部分11 的深度與第二凹陷部分的底面1 la上保留的潤(rùn)滑劑體積之間的關(guān)系。如圖16所示,凹陷部分ll越深,凹陷部分ll的底面lla上保留的潤(rùn) 滑劑體積就越小。如果凹陷部分11過深,則對(duì)凹陷部分11的有利效果減 弱。根據(jù)發(fā)明人的研究,已經(jīng)發(fā)現(xiàn)當(dāng)保留的潤(rùn)滑劑體積為7或更小時(shí),潤(rùn) 滑劑就不會(huì)對(duì)飛行特性造成不利影響。根據(jù)圖16的曲線圖還發(fā)現(xiàn),凹陷 部分11的深度優(yōu)選為0.8pm或更小。下面將對(duì)本發(fā)明的其他實(shí)施例進(jìn)行說明。圖17的立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面 50a。本發(fā)明第七實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面50a包括凹陷部分3 (第一 凹陷部分)和凹陷部分11 (第二凹陷部分)。凹陷部分11的底面lla的 深度小于凹陷部分3的底面3a的深度。換句話說,凹陷部分被形成為包括 兩種深度不同的第一和第二凹陷部分。在本實(shí)施例中,底面lla的前緣llb位于側(cè)面塊6的前緣6a的后側(cè)。 即,底面lla的、在相對(duì)側(cè)面塊6之間延伸的前緣llb位于側(cè)面塊6的前 緣6a與中心塊4的后緣10c之間。磁頭滑塊的后緣對(duì)應(yīng)于中心塊4的后緣 10c。中心塊4的后緣10c大體上與凹陷部分11的底面lla的后緣llc對(duì)準(zhǔn)。根據(jù)本實(shí)施例,凹陷部分3的底面3a向后延伸到超過側(cè)面塊6的前緣 6a。 g卩,增大了底面3a的面積,從而可以增大凹陷部分3產(chǎn)生的負(fù)壓。因 此可以將磁頭滑塊的飛行高度維持在更低水平,并從而使磁頭滑塊穩(wěn)定地 飛行。在圖17所示的示例中,盡管底面lla的前緣lib與中心塊4的前緣 4a對(duì)準(zhǔn),但底面lla的前緣11b也可以位于側(cè)面塊6的前緣6a與中心塊4 的前緣4a之間。如圖18的飛行表面55a所示,底面lla的前緣11b可以位于中心塊4 的前緣4a的后側(cè)。在此情況下,底面lla的前緣llb可以優(yōu)選地與中心塊 4的前緣4a朝中心塊4的后緣10c隔開一段距離,該距離為中心塊4的前 緣4a與后緣10c之間距離(距離D)的一半或一半以上。如果將后緣llb 向后進(jìn)一步移動(dòng)而取消相對(duì)側(cè)面塊6之間的底面lla,則凹陷部分3的底 面3a形成了磁頭滑塊的后端的一部分,空氣由此從出口流出。這樣,凹陷 部分3產(chǎn)生的負(fù)壓減小。因此,優(yōu)選地使凹陷部分11的底面lla的后緣 llc形成磁頭滑塊的后緣(由中心塊4的后緣10c所限定的磁頭滑塊后緣 除外)。此外,如圖19的飛行表面60a所示,底面lla的相對(duì)內(nèi)側(cè)邊緣lld優(yōu) 選地相對(duì)于磁頭滑塊的縱軸傾斜。通過這樣的構(gòu)造,底面lla在側(cè)面塊6 的前緣6a處具有寬度Wl ,并在底面1 la的后緣1 lc處具有大于寬度Wl 的寬度W2。由于側(cè)邊緣lld如上所述傾斜,所以即使磁頭滑塊相對(duì)于空 氣流方向略微傾斜,也可以防止側(cè)面塊6的后方產(chǎn)生集中點(diǎn)。通過安裝到磁頭滑塊的臂的旋轉(zhuǎn),安裝在磁盤裝置等中的磁頭滑塊沿 徑向在盤上方運(yùn)動(dòng)。因此,磁頭滑塊的中心軸線并不總是與盤的切線方向 對(duì)準(zhǔn),而在盤的切線方向與磁頭滑塊的中心軸線之間存在所謂的斜角。因 此,空氣沿磁頭滑塊的飛行表面流動(dòng)的方向以斜角傾斜。更具體地說,空 氣并不總是從正前方(與磁頭滑塊的前緣垂直的方向)流動(dòng),而是可能從 相對(duì)于與前緣垂直的方向(即磁頭滑塊的縱軸)成斜角的方向流動(dòng)。磁頭
滑塊處于盤的最外側(cè)周邊處時(shí)的斜角在下文中稱為外側(cè)斜角,而磁頭滑塊 處于盤的最內(nèi)側(cè)周邊處時(shí)的斜角在下文中稱為內(nèi)側(cè)斜角。在圖20所示的示例中,側(cè)邊緣lid (從相應(yīng)的側(cè)面塊6的內(nèi)部前角延伸的邊緣)相對(duì)于磁頭滑塊的縱軸分別以斜角或更大角度傾斜,使得底面lla在空氣流經(jīng)磁頭滑塊的方向上位于側(cè)面塊6的后方。在圖20中,角度 ei對(duì)應(yīng)于外側(cè)斜角,角度92對(duì)應(yīng)于內(nèi)側(cè)斜角。優(yōu)選地,如上所述,側(cè)邊 緣lld的傾斜角度分別等于外側(cè)斜角或更大、等于內(nèi)側(cè)斜角或更大。但 是,由于增大傾斜角減小了凹陷部分3的底面3a的面積,所以更優(yōu)選地使 側(cè)邊緣lld的傾斜角度分別等于外側(cè)斜角和內(nèi)側(cè)斜角。下面參考圖21對(duì)本發(fā)明的第八實(shí)施例進(jìn)行說明。圖21的立體圖示出 了根據(jù)本發(fā)明第八實(shí)施例的磁頭滑塊的飛行表面65a。在本實(shí)施例中,如圖21所示,底面11a包括在各個(gè)中心塊4和側(cè)面塊 6的前側(cè)和橫向側(cè)延伸的部分(盡管較小)。這防止飛行表面65a的制造 缺陷。由于飛行表面65a的元件是通過用多個(gè)掩模進(jìn)行刻蝕而形成的,所 以掩模位置的變動(dòng)可能造成高于底面lla的部分與低于底面lla的部分之 間的失準(zhǔn)。例如,在用第一掩模進(jìn)行刻蝕來形成高于底面lla的部分(即 中心塊4和側(cè)面塊6)、并用第二掩模來形成低于底面lla的部分(即凹 陷部分3的底面3a)的情況下,形成高于底面lla的部分所用的第一掩模 的位置與形成低于底面lla的部分所用的第二掩模的位置可能不是精確對(duì) 準(zhǔn)的。如果第二掩模與第一掩模未對(duì)準(zhǔn),則中心塊4與側(cè)面塊4可能受到 不期望的刻蝕,或者圍繞中心塊4和側(cè)面塊6的底面lla可能變得比期望 更大。磁頭滑塊的飛行特性取決于整個(gè)飛行表面的形狀而變化。特別是,側(cè) 面塊6前側(cè)和中心塊4前側(cè)的形狀改變對(duì)飛行特性影響很大。在本實(shí)施例 中,飛行表面被形成為使底面lla包括在各個(gè)側(cè)面塊6的前側(cè)和中心塊4 的前側(cè)延伸的部分,從而防止了由于掩模的定位精度造成飛行特性改變。更具體地說,飛行表面65a被形成為使沿側(cè)面塊6和沿中心塊4延伸 的底面lla的前緣與側(cè)面塊6和中心塊4的前緣向前相距約10pm或更 大。通過這種飛行表面構(gòu)造,即使掩模彼此失準(zhǔn),底面lla也位于各個(gè)側(cè)面塊6前側(cè)和中心塊4前側(cè)。因此可以使所需飛行特性的改變減小。飛行表面65a的這種構(gòu)造,即底面lla包括在各個(gè)側(cè)面塊6和中心塊 4的前側(cè)和橫向側(cè)延伸的部分,也適用于本發(fā)明的其他實(shí)施例。在第七和第八實(shí)施例中,如圖22所示,凹陷部分11的底面lla的深 度優(yōu)選為l.Opm或更小。盡管圖22示出了圖19的磁頭滑塊的飛行表面 60a作為凹陷部分11的底面lla深度為l.Onm或更小的磁頭滑塊的一種示 例,但是優(yōu)選地,對(duì)于具有其他構(gòu)造的飛行表面,也優(yōu)選地使凹陷部分11 的底面lla深度為l.Opm或更小。在第七和第八實(shí)施例及其變更實(shí)施例中,深度比第一凹陷部分3更小 的第二凹陷部分11被形成以防止空氣流造成的剪應(yīng)力集中。例如,在約 為lmm寬、1.2mm長(zhǎng)的磁頭滑塊具有深度在1.5—2.0(im范圍內(nèi)的第一凹 陷部分3的情況下,第二凹陷部分11的深度優(yōu)選為l.Opm或更小。在前 述那些實(shí)施例中,通過增大凹陷部分11的底面lla的面積可以保持恒定的 飛行特性。因此,即使凹陷部分ll深到l.Opm,也可以防止空氣流造成的 剪應(yīng)力集中,并可以減小保持在凹陷部分11的表面lla上的潤(rùn)滑劑體積, 同時(shí)保持恒定的飛行特性。盡管在前述各實(shí)施例中,設(shè)置了側(cè)面塊6來使磁頭滑塊保持穩(wěn)定的飛 行位置,但是側(cè)面塊6并不是必須設(shè)置的。特別是如圖23所示,在凹陷 部分3的底面3a面積較大的情況下,可以保持恒定的飛行特性。因此,即 使沒有側(cè)面塊6,磁頭滑塊也可以保持恒定的飛行位置。圖23所示的飛行 表面70a具有與圖19所示的飛行表面60a相同的構(gòu)造,只是沒有側(cè)面塊 6。本申請(qǐng)基于2006年12月28日在日本特許廳提交的日本在先申請(qǐng) No.2006-354142以及2007年3月19日在日本特許廳提交的日本在先申請(qǐng) No.2007-071639,這些申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過引用而結(jié)合于此。
權(quán)利要求
1.一種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行,所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分被形成為這樣的形狀所述形狀使得不會(huì)形成由所述空氣流造成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。
1. 一種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行, 所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分被形成為這樣的形狀所述形狀使得不會(huì)形成由 所述空氣流造成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。
2. —種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行, 所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;突出部分,位于所述凹陷部分中,所述磁頭滑塊的每個(gè)側(cè)面附近設(shè)有 一個(gè)所述突出部分;其中,所述凹陷部分和所述突出部分被形成為這樣的形狀所述形狀 使得不會(huì)在所述突出部分與所述磁頭滑塊的后緣之間形成由所述空氣流造 成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。
3. —種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行, 所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分包括具有第一深度的第一凹陷部分和具有第二深 度的第二凹陷部分,所述第二深度小于所述第一深度。
4. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分圍繞安裝 磁頭元件的第一突出部分形成。
5. 如權(quán)利要求4所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的底面在所述第一突出部分的后側(cè)圍繞所述第一突出部分周邊的一半或多于一半。
6. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分設(shè)置在所 述磁頭滑塊的后緣與各個(gè)第二突出部分之間,所述磁頭滑塊的每個(gè)側(cè)面附 近形成一個(gè)所述第二突出部分。
7. 如權(quán)利要求6所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的底面在 所述第二突出部分的后側(cè)圍繞每個(gè)所述第二突出部分周邊的一半或多于一 半。
8. 如權(quán)利要求6所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的所述底面的寬度從每個(gè)所述第二突出部分附近起向后增大。
9. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的底面限 定所述磁頭滑塊的后緣。
10. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,所述第一凹陷部分與所述 第二凹陷部分之間形成斜坡。
11. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,所述第一凹陷部分與所述 第二凹陷部分之間形成多個(gè)臺(tái)階。
12. 如權(quán)利要求3所述的磁頭滑塊,其中,安裝磁頭元件的第一突出部分從形成有所述第二凹陷部分的底 面突出;所述磁頭滑塊的每個(gè)側(cè)面附近形成一個(gè)從所述第二凹陷部分的所述底 面突出的第二突出部分;并且所述第一突出部分的側(cè)面和每個(gè)所述第二突出部分的側(cè)面是傾斜的。
13. —種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛 行,所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分的底面包括斜坡,所述斜坡的深度向所述磁頭滑 塊的后緣逐漸減小。
14. 一種磁頭滑塊,設(shè)置成通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛 行,所述磁頭滑塊包括凹陷部分,位于面向所述記錄介質(zhì)的表面中;其中,所述凹陷部分的底面包括有臺(tái)階部分,所述有臺(tái)階部分的深度 向所述磁頭滑塊的后緣以臺(tái)階方式減小。
15. 如權(quán)利要求6所述的磁頭滑塊,其中,在所述第二突出部分之間延伸的所述第二凹陷部分的底面的前 緣位于所述磁頭滑塊的所述后緣與所述第二突出部分的前緣之間;并且 所述第二凹陷部分的所述底面的后緣限定所述磁頭滑塊的后緣。
16. 如權(quán)利要求15所述的磁頭滑塊,其中,安裝磁頭元件的第一突出部分形成于所述磁頭滑塊的所述后緣 附近;并且在所述第二突出部分之間延伸的所述第二凹陷部分的所述底面的前緣 與所述第一突出部分的前緣對(duì)準(zhǔn)。
17. 如權(quán)利要求15所述的磁頭滑塊,其中,安裝磁頭元件的第一突出部分形成于所述磁頭滑塊的所述后緣 附近;并且在所述第二突出部分之間延伸的所述第二凹陷部分的所述底面的所述 前緣從所述第一突出部分的前緣向所述第一突出部分的后緣間隔開,并隔 開所述第一突出部分的所述后緣與所述前緣之間距離的一半或多于一半。
18. 如權(quán)利要求17所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的所述 底面的每個(gè)內(nèi)側(cè)邊緣位于所述第二突出部分之間,并相對(duì)于所述磁頭滑塊 的縱軸傾斜預(yù)定角度,使得每個(gè)所述第二突出部分的后側(cè)處所述第二凹陷 部分的所述底面寬度向后逐漸增大。
19. 如權(quán)利要求18所述的磁頭滑塊,其中,所述預(yù)定角度等于或大于 安裝所述磁頭滑塊的盤裝置的斜角。
20. 如權(quán)利要求15所述的磁頭滑塊,其中,沿每個(gè)所述第二突出部分 的前緣延伸的所述第二凹陷部分的所述前緣從每個(gè)所述第二突出部分的所 述前緣向所述磁頭滑塊的前緣隔開預(yù)定距離。
21. 如權(quán)利要求4所述的磁頭滑塊,其中,所述第二凹陷部分的底面除了所述第一突出部分外不包括任何突出部分。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種通過空氣流而使磁頭在記錄介質(zhì)上方飛行的磁頭滑塊。這種磁頭滑塊在面向記錄介質(zhì)的表面中包括凹陷部分。該凹陷部分被形成為這樣的形狀所述形狀使得不會(huì)形成由空氣流造成的剪應(yīng)力集中的區(qū)域。
文檔編號(hào)G11B5/60GK101211573SQ20071030161
公開日2008年7月2日 申請(qǐng)日期2007年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年12月28日
發(fā)明者今村孝浩, 千葉洋, 渡邊徹, 窪寺裕之 申請(qǐng)人:富士通株式會(huì)社
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