專利名稱：光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及降低激光二極管的激光噪聲而進(jìn)行記錄和再現(xiàn)的光盤裝置。
背景技術(shù)：
在日本專利特開2003-257072號(hào)公報(bào)中記載有“近年來，數(shù)字多功能盤(以下稱為DVD)作為能夠記錄大容量的數(shù)字信息的高密度光盤引人注目。但是隨著信息的大容量化，需要更高密度的光盤的實(shí)現(xiàn)。這里，為了實(shí)現(xiàn)密度比DVD更高的記錄，有必要在記錄層上記錄比DVD更小的標(biāo)記，為此有必要縮短光源的波長(zhǎng)，加大物鏡的數(shù)值口徑(以下稱為NA)。例如，雖然在DVD中使用波長(zhǎng)660nm的激光器，物鏡中使用NA為0.6的物鏡，但是光源通過使用405nm的藍(lán)色激光，使用NA為0.85的物鏡，可以實(shí)現(xiàn)DVD的大約五倍的記錄容量。進(jìn)而，通過近年的藍(lán)色激光的高輸出化，為了得到比具有一層的記錄層的所謂單層盤更高的記錄容量，還進(jìn)行了具有多個(gè)記錄層的多層盤的開發(fā)。例如，如果實(shí)現(xiàn)具有兩層的記錄層的盤，則存儲(chǔ)容量成為DVD的大約10倍。但是，在現(xiàn)有的高密度光盤裝置中，由于再現(xiàn)時(shí)的各種應(yīng)力裕度(stress margin)比起DVD來嚴(yán)格，故作為光源的藍(lán)色激光的量化噪聲成為問題。該量化噪聲雖然在作為光源的藍(lán)色激光器的特性上，如果提高輸出激光功率則可以抑制得低些，但是如果提高輸出激光功率，則向記錄層聚光照射的激光的功率(以下稱為照射功率)增大，引起記錄層的劣化和數(shù)據(jù)的擦除”。
在日本專利特開2004-220774號(hào)公報(bào)中記載有
使用“在該光記錄介質(zhì)驅(qū)動(dòng)裝置中，由于溫度越高，則光結(jié)合效率越低而光源的發(fā)光效率越大，所以在光源中使用激光二極管時(shí)即使成為高溫，激光噪聲的增加也受到抑制，再現(xiàn)特性不受影響”這樣的結(jié)構(gòu)解決“本發(fā)明，即使在正常的溫度以上的高溫下，光源中的激光噪聲的增加也受到抑制，提供可以得到良好的記錄和/或再現(xiàn)特性的激光頭和光記錄介質(zhì)驅(qū)動(dòng)裝置”這樣的課題。

發(fā)明內(nèi)容
如上所述隨著高密度記錄的進(jìn)步，在激光二極管發(fā)光時(shí)產(chǎn)生的量化噪聲成為課題，為了解決該課題提出了使用光衰減器。這里所謂量化噪聲是在激光二極管發(fā)光時(shí)產(chǎn)生的噪聲，所謂光衰減器是使光強(qiáng)度衰減的元件，作為具體例使用ND(Neutral Density中性密度)濾光器、液晶元件、衍射光柵。在上述日本專利特開2003-257072號(hào)公報(bào)中作為光衰減器使用“光束的透射率可變的光學(xué)元件”。雖然為了避免量化噪聲的影響可以考慮提高激光二極管的發(fā)光功率(剛從激光二極管射出后的激光功率)，以便使S/N(Signal/Noise信號(hào)/噪聲)比良好，但是如果在高發(fā)光功率下進(jìn)行再現(xiàn)動(dòng)作則引起記錄層的劣化和數(shù)據(jù)的擦除。因此，首先由高發(fā)光功率以良好的S/N比發(fā)光。然后，在激光束照射到光盤記錄面之前由光衰減器使光強(qiáng)度衰減。由此可以實(shí)現(xiàn)將S/N比維持良好而不引起記錄層的劣化和數(shù)據(jù)的擦除的再現(xiàn)動(dòng)作。
最近記錄動(dòng)作或再現(xiàn)動(dòng)作的高速化在發(fā)展，在高速再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)使用CAV(Constant Angular Velocity恒定角速度)方式。在CAV方式中由于角速度恒定地動(dòng)作，故在內(nèi)周線速度慢而在外周線速度加快。一般來說由于線速度(再現(xiàn)速度)越快則在再現(xiàn)時(shí)所需的再現(xiàn)功率(再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)的光盤記錄面的激光功率)越高，故在CAV方式的再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)從內(nèi)周向外周再現(xiàn)動(dòng)作所需的再現(xiàn)功率提高。因此在將激光二極管的發(fā)光功率維持恒定而進(jìn)行再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，即使在再現(xiàn)同一光盤中，如果不根據(jù)半徑(再現(xiàn)速度)使光衰減器的衰減率變化，則不可能得到取得量化噪聲的降低效果的必要的再現(xiàn)功率。在日本專利特開2003-257072號(hào)公報(bào)中沒有在以CAV方式進(jìn)行再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)使光衰減器的衰減率變化的技術(shù)的公開。
因此在本發(fā)明中，第一目的在于提供一種即使在再現(xiàn)同一光盤中也可以得到量化噪聲的降低效果和與半徑位置(再現(xiàn)速度)對(duì)應(yīng)的再現(xiàn)功率的光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法。
進(jìn)而，光衰減器依存于周圍溫度而改變特性。其特性如圖4中所示變化，即使在一定電壓下驅(qū)動(dòng)光衰減器，如果周圍溫度上升則衰減率也上升。在日本專利特開2004-220744號(hào)公報(bào)中是如果周圍溫度上升則用于得到想要的再現(xiàn)功率激光二極管的發(fā)光功率也提高。因此，發(fā)生發(fā)光二極管的壽命縮短和消耗電力增大等問題。
因此在本發(fā)明中，第二目的在于提供一種即使周圍溫度變化激光二極管的壽命也不縮短而且消耗電力也不增大等而得到量化噪聲降低效果的光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法。
此外，作為降低因來自光盤的反射光而發(fā)生的噪聲的技術(shù)有高頻疊加法，通過同時(shí)使用上述光衰減器與高頻疊加法，與上述僅使用光衰減器時(shí)相比可以更加降低噪聲。但是，如果使用光衰減器則高頻的發(fā)光功率也被衰減，存在著無法充分獲得高頻疊加法的噪聲降低效果這樣的課題。
因此在本發(fā)明中，第三目的在于提供一種即使同時(shí)使用光衰減器與高頻疊加法也可以充分獲得噪聲降低效果的光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法。
雖然在本發(fā)明中通過例如以下的實(shí)施方式可以解決上述課題，但是不限于該實(shí)施方式。
上述第一目的可以通過例如以下的一個(gè)實(shí)施方式的光盤裝置來解決，即，從光盤再現(xiàn)信息的光盤裝置，其中包括激光二極管、激光器驅(qū)動(dòng)器、衰減器、衰減器驅(qū)動(dòng)器、控制部。具體地說，上述控制部控制上述衰減器驅(qū)動(dòng)器，使得在再現(xiàn)上述光盤中，上述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)上述光盤的半徑(再現(xiàn)速度)改變上述衰減器的衰減率。
此外，上述第一目的還可以通過以下的一個(gè)實(shí)施方式來解決，即，將從激光二極管照射的光的第一功率由衰減器衰減成第二功率后照射在光盤上而從上述光盤再現(xiàn)信息的光盤再現(xiàn)方法。具體地說，在再現(xiàn)上述光盤中使上述第二功率根據(jù)上述光盤的半徑位置(再現(xiàn)速度)而變化。
上述第二目的可以通過例如以下的一個(gè)實(shí)施方式來解決，即，從光盤再現(xiàn)信息的光盤裝置，其中包括激光二極管、激光器驅(qū)動(dòng)器、衰減器、衰減器驅(qū)動(dòng)器、控制部、溫度傳感器。具體地說，上述控制部控制上述衰減器驅(qū)動(dòng)器，使得上述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)上述周圍溫度而使上述衰減器的衰減率變化。
此外，上述第二目的還可以通過例如以下的一個(gè)實(shí)施方式來解決，即，將從激光二極管照射的光的第一功率由衰減器衰減成第二功率后照射在光盤上而從上述光盤再現(xiàn)信息的光盤再現(xiàn)方法。具體地說，在再現(xiàn)上述光盤中使上述第二功率根據(jù)上述衰減器的周圍溫度而變化。
上述第三目的可以通過例如以下的實(shí)施方式來解決，即，從光盤再現(xiàn)信息的光盤裝置，其中包括激光二極管、具備高頻疊加電路的激光器驅(qū)動(dòng)器、衰減器、衰減器驅(qū)動(dòng)器、控制部。具體地說，控制上述激光器驅(qū)動(dòng)器，使得上述高頻電流的振幅根據(jù)上述衰減器的衰減率而變化。
此外，上述第三目的還可以通過例如以下的實(shí)施方式來解決，即，將從激光二極管照射的激光的第一功率由衰減器衰減成第二功率后照射在光盤上而從上述光盤再現(xiàn)信息的光盤再現(xiàn)方法。具體地說，在再現(xiàn)上述光盤中將高頻疊加的驅(qū)動(dòng)電流供給到上述激光二極管，由上述衰減器的衰減率使上述高頻電流的振幅變化。
根據(jù)本發(fā)明，可以提供降低噪聲而能夠?qū)崿F(xiàn)良好的再現(xiàn)動(dòng)作的光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法。


圖1是表示本發(fā)明的光盤裝置的一個(gè)實(shí)施例的方框構(gòu)成圖。
圖2是表示激光二極管的發(fā)光功率與激光噪聲的關(guān)系的示意圖。
圖3是表示根據(jù)光盤裝置的再現(xiàn)功率，使光衰減率或控制電壓變化的一例的示意圖。
圖4是表示光衰減率對(duì)光衰減器的控制電壓的溫度特性的一例的示意圖。
圖5是表示根據(jù)光盤裝置的再現(xiàn)功率與周圍溫度，使控制電壓變化的一例的示意圖。
圖6是表示對(duì)再現(xiàn)功率與周圍溫度的、控制電壓的圖表的一例的示意圖。
圖7是表示激光二極管的驅(qū)動(dòng)電流與發(fā)光波形的關(guān)系的示意圖。
圖8是表示依存于再現(xiàn)功率而使光衰減器的光衰減率或控制電壓變化的流程圖的例子的示意圖。
圖9是表示根據(jù)光衰減器的周圍溫度而使光衰減器的控制電壓變化的流程圖的例子的示意圖。
圖10是表示根據(jù)溫度而實(shí)時(shí)地使光衰減器的控制電壓變化的流程圖的例子的示意圖。
圖11是表示根據(jù)再現(xiàn)功率、光衰減器的周圍溫度而實(shí)時(shí)地使光衰減器的控制電壓變化的流程圖的例子的示意圖。
圖12是表示根據(jù)再現(xiàn)功率、光衰減器的周圍溫度而實(shí)時(shí)地使光衰減器的控制電壓變化的流程圖的例子的示意圖。
具體實(shí)施例方式
首先，示出附圖中使用的主要標(biāo)號(hào)。
1...微計(jì)算機(jī)，2...激光器驅(qū)動(dòng)器，3...激光二極管，4...光衰減器，5...分光鏡，6...偏振分光鏡，7...1/4波長(zhǎng)板，8...物鏡，9...光盤，10...光電探測(cè)器，11...放大器，12...波形平衡器，13...信號(hào)處理器以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施例。
實(shí)施例1在本實(shí)施例中，根據(jù)再現(xiàn)功率，說明改變光衰減器的衰減率和控制電壓的光盤裝置的例子。
圖1(a)是表示本發(fā)明的光盤裝置的一個(gè)實(shí)施例的方框構(gòu)成圖。微計(jì)算機(jī)1對(duì)激光器驅(qū)動(dòng)器2進(jìn)行記錄、再現(xiàn)等的控制。此外，微計(jì)算機(jī)1對(duì)衰減器驅(qū)動(dòng)器16進(jìn)行光衰減率、光衰減器4的控制電壓的控制。激光器驅(qū)動(dòng)器2具有直流電流電路18和高頻電流電路19，輸出疊加有高頻電流的激光二極管驅(qū)動(dòng)電流，驅(qū)動(dòng)激光二極管3。激光二極管3以疊加有與激光器驅(qū)動(dòng)器2的輸出對(duì)應(yīng)的高頻電流的發(fā)光波形，射出具有例如400nm的波長(zhǎng)的激光。光衰減器4以規(guī)定的衰減率使由激光二極管3射出的激光的激光功率衰減。光衰減器4的衰減率基于衰減器驅(qū)動(dòng)器16的控制電壓來控制。功率監(jiān)視器14檢測(cè)經(jīng)由分光鏡5通過光衰減器4后的激光功率，輸出與檢測(cè)的激光功率對(duì)應(yīng)的電流值。放大器15將功率監(jiān)視器14的輸出電流值轉(zhuǎn)換成電壓值，輸出到微計(jì)算機(jī)1。透過分光鏡5的激光由1/4波長(zhǎng)板7改變偏振方向，由物鏡8聚光在光盤9的記錄面上。這里，匯聚的激光的激光功率成為再現(xiàn)功率。光電探測(cè)器10經(jīng)由偏振分光鏡6讀取記錄在光盤9中的信號(hào)，作為電流波形輸出。放大器11將光電探測(cè)器10的輸出電流波形轉(zhuǎn)換成電壓波形，由波形平衡器12進(jìn)行放大器11的輸出波形的平衡。信號(hào)處理器13進(jìn)行波形平衡器11的輸出波形的平衡、解碼，輸出到微計(jì)算機(jī)1。溫度傳感器17測(cè)定光拾取器內(nèi)的溫度或光電探測(cè)器4的周圍溫度，將測(cè)定結(jié)果輸出到微計(jì)算機(jī)1。微計(jì)算機(jī)1通過未圖示的ATAPI等接口，與PC等主機(jī)裝置進(jìn)行通信。在圖1(a)的例子中，虛線所示的邊框內(nèi)的方框2～8、10、14、16～19是搭載在光拾取器上的部件。
圖2是表示量化噪聲對(duì)激光二極管的發(fā)光功率的關(guān)系的例子的示意圖。量化噪聲依存于激光二極管的發(fā)光功率而變化是公知的。具體地說，像A那樣在發(fā)光功率低的區(qū)域處量化噪聲高，像B那樣隨著發(fā)光功率的提高量化噪聲降低。因此，如果提高發(fā)光二極管的發(fā)光功率則可以使S/N比良好。
圖3是表示本發(fā)明的光盤裝置的光衰減率或光衰減器的控制電壓的控制方法的例子的示意圖。如圖3所示，本發(fā)明的光盤裝置根據(jù)再現(xiàn)功率而使光衰減率或控制電壓變化。光盤的再現(xiàn)功率如上所述，在以CAV方式動(dòng)作時(shí)在內(nèi)周與外周處不同。此外，由于反射率因光盤的種類而異，故再現(xiàn)功率變化。因此即使再現(xiàn)同一光盤也有必要根據(jù)半徑位置，或者在再現(xiàn)不同種類的光盤時(shí)，使光衰減率變化。
圖3的31是根據(jù)再現(xiàn)功率而連續(xù)地使光衰減率或控制電壓變化的例子，32是根據(jù)再現(xiàn)功率階段地變化的例子。在以CAV方式進(jìn)行再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，在內(nèi)周提高光衰減率或控制電壓，在外周降低。由此可以實(shí)現(xiàn)在以CAV方式再現(xiàn)同一光盤動(dòng)作中，即使使激光二極管的發(fā)光功率恒定，也可以得到量化噪聲的降低效果和對(duì)應(yīng)于半徑位置(再現(xiàn)速度)的再現(xiàn)功率的光盤裝置。
其中，應(yīng)該使激光二極管的發(fā)光功率在一定的范圍內(nèi)的理由，是因?yàn)槿绻档桶l(fā)光功率則S/N比惡化，如果提高發(fā)光功率則引起激光二極管的壽命縮短和消耗電力增大的緣故。
此外，在再現(xiàn)功率根據(jù)光盤的種類而不同時(shí)，只要在插入光盤并判別光盤后按照再現(xiàn)功率變更光衰減率或控制電壓即可。例如，在記錄再現(xiàn)光盤的再現(xiàn)功率低的光盤時(shí)將光衰減率取為50％，在記錄再現(xiàn)再現(xiàn)功率高的光盤時(shí)將光衰減率調(diào)整到25％。進(jìn)而，然后在再現(xiàn)動(dòng)作中通過根據(jù)半徑位置使光衰減率或控制電壓變化，與上述同樣可以實(shí)現(xiàn)能夠得到量化噪聲的降低效果和根據(jù)半徑位置(再現(xiàn)速度)的再現(xiàn)功率的光盤裝置。
本實(shí)施例中與再現(xiàn)功率對(duì)應(yīng)的光衰減率的控制通過從微計(jì)算機(jī)1向衰減器驅(qū)動(dòng)器16的指令來進(jìn)行。微計(jì)算機(jī)1的構(gòu)成可以利用現(xiàn)有技術(shù)，也可以如圖1(b)中所示在微計(jì)算機(jī)1內(nèi)部設(shè)置利用衰減器驅(qū)動(dòng)器控制用電路20。圖1(b)是放大圖1(a)的微計(jì)算機(jī)1內(nèi)部的一例。
實(shí)施例2在本實(shí)施例中對(duì)根據(jù)光衰減器的周圍溫度使光衰減率或控制電壓變化的光盤裝置的例子進(jìn)行說明。
圖4是表示使用液晶元件的光衰減器的、光衰減率對(duì)控制電壓的溫度特性的例子的示意圖。如圖4所示，即使控制電壓V保持恒定，也存在著光衰減率因周圍溫度而變化的特性。在圖4的例子中，隨著溫度升高，光衰減率從41向43變化。一般來說在光盤裝置中將發(fā)光功率保持恒定的控制(APC控制，Auto Power Control控制自動(dòng)功率控制)如圖1所示，由功率監(jiān)視器14檢測(cè)通過光衰減器后的激光功率反饋到微計(jì)算機(jī)1進(jìn)行控制。因此，如果根據(jù)周圍溫度而衰減率提高，則通過光衰減器后的激光功率衰減得超過需要，微計(jì)算機(jī)1提高發(fā)光功率以便補(bǔ)充該衰減。結(jié)果引起發(fā)光功率過多引起的激光二極管的壽命縮短和消耗電力增大。
因此在本發(fā)明的光盤裝置中，通過根據(jù)光衰減器的周圍溫度改變光衰減器的控制電壓，即使周圍溫度變化也可以不使激光二極管的壽命縮短和消耗電力增大等而取得量化噪聲降低效果。
圖5是使控制電壓依存于溫度，并且與實(shí)施例1中所述的依存于再現(xiàn)功率的技術(shù)組合的例子。由此可以實(shí)現(xiàn)既得到量化噪聲的降低效果和根據(jù)半徑位置(再現(xiàn)速度)的再現(xiàn)功率，又即使周圍溫度變化也沒有激光二極管的壽命縮短和消耗電力增大等的光盤裝置。
雖然在圖5中表示依存于再現(xiàn)功率與周圍溫度連續(xù)地使控制電壓變化的例子，但是也可以在圖1中未圖示的存儲(chǔ)器等中設(shè)定如圖6中所示的依存于再現(xiàn)功率與溫度的控制電壓的圖表。這是因?yàn)楣獗P裝置的控制變得更加容易的緣故。再者，雖然圖6是溫度與再現(xiàn)功率的各個(gè)分割成四階段而離散地使控制電壓變化的例子，但是也可以根據(jù)光衰減器的特性適當(dāng)改變分割數(shù)。這也是因?yàn)楣獗P裝置的控制變得更加容易的緣故。
本實(shí)施例中的光衰減器的控制也是與實(shí)施例1同樣地通過從微計(jì)算機(jī)1向衰減器驅(qū)動(dòng)器16的指令來進(jìn)行。微計(jì)算機(jī)1的構(gòu)成可以利用現(xiàn)有技術(shù)，也可以如圖1(b)所示在微計(jì)算機(jī)1內(nèi)部設(shè)置衰減器驅(qū)動(dòng)器控制用電路20而使用。
實(shí)施例3在本實(shí)施例中，對(duì)同時(shí)使用光衰減器與高頻疊加法的光盤裝置的例子進(jìn)行說明。
圖7是表示本發(fā)明的光盤裝置的激光二極管驅(qū)動(dòng)方法的例子的示意圖。這里，與為了降低由反射光發(fā)生的噪聲適應(yīng)的發(fā)光波形是激光發(fā)光波形71。72表示光衰減器的衰減率為0％時(shí)的激光二極管的驅(qū)動(dòng)電流與通過光衰減器后的激光功率的特性。此外，73表示光衰減器的衰減率為例如50％時(shí)的激光二極管的驅(qū)動(dòng)電流與通過光衰減器后的激光功率的特性。這里，特性為72時(shí)使用驅(qū)動(dòng)電流波形25(直流電流值Idc1，高頻電流振幅Ihf1)使激光二極管發(fā)光即可。另一方面，變化成特性73時(shí)通過將驅(qū)動(dòng)電流波形變化成75(直流電流值Idc2，高頻電流振幅Ihf2)，可以與特性72同樣使激光二極管以發(fā)光波形71發(fā)光。
對(duì)驅(qū)動(dòng)電流波形的變化方法說明如下。根據(jù)本發(fā)明的光盤裝置由現(xiàn)有的自動(dòng)功率控制方式(APC)控制成以規(guī)定的再現(xiàn)功率來發(fā)光。因此，由圖1的功率監(jiān)視器14監(jiān)視激光功率，反饋到微計(jì)算機(jī)1而控制激光器驅(qū)動(dòng)器2。由該控制確定直流電流值Idc。另一方面，高頻電流振幅根據(jù)光衰減器的衰減率而改變。這是因?yàn)樵诠馑p器的衰減率例如從0％變化到50％時(shí)，發(fā)光功率對(duì)驅(qū)動(dòng)電流也從72變化到73的緣故。在特性73中為了以發(fā)光波形71發(fā)光，使高頻電流振幅Ihf與衰減率成比例地變化即可。也就是說，在上述例子中處于Ihf2＝2*Ihf1的關(guān)系。
再者，雖然這里表示出正弦波狀地使驅(qū)動(dòng)電流變化的例子，但是也可以是矩形波狀和三角波狀等使驅(qū)動(dòng)電流變化。這是因?yàn)楣獗P裝置的控制變得更容易的緣故。
這樣一來，可以實(shí)現(xiàn)即使同時(shí)使用光衰減器與高頻疊加法也可以充分得到噪聲降低效果的光盤裝置。
本實(shí)施例中的激光二極管的控制，通過從微計(jì)算機(jī)1向激光器驅(qū)動(dòng)器2的指令來進(jìn)行。微計(jì)算機(jī)1的構(gòu)成可以利用現(xiàn)有技術(shù)，也可以如圖1(b)中所示在微計(jì)算機(jī)1內(nèi)部設(shè)置激光器驅(qū)動(dòng)器控制用電路21而使用。
實(shí)施例4在本實(shí)施例中，對(duì)根據(jù)再現(xiàn)功率使光衰減器的衰減率和控制電壓變化的光盤再現(xiàn)方法，和同時(shí)使用光衰減器與高頻疊加法時(shí)的光盤再現(xiàn)方法的例子進(jìn)行說明。
圖8是光盤裝置依存于再現(xiàn)功率而使光衰減器的衰減率或控制電壓變化時(shí)的流程圖例。該圖表示出從光盤插入到再現(xiàn)結(jié)束。在S101中光盤被插入后，在S102中確定再現(xiàn)功率。再者，再現(xiàn)功率可以通過讀取記錄在光盤中的盤信息來確定，也可以使用根據(jù)光盤的種類預(yù)先確定并保存在光盤裝置內(nèi)的存儲(chǔ)器等的信息來確定。根據(jù)確定的再現(xiàn)功率，在S103中確定光衰減器的光衰減率或控制電壓。根據(jù)確定的光衰減器的衰減率或控制電壓，在S104中確定高頻電流振幅，在S105中開始再現(xiàn)。以后按照適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)進(jìn)行S106的再現(xiàn)功率的變化的確認(rèn)。在再現(xiàn)功率變化時(shí)，在S107中使光衰減率或控制電壓變化。在再現(xiàn)功率未變化時(shí)，繼續(xù)確認(rèn)S106的再現(xiàn)功率的變化。
再者，上述所謂適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)可以舉出每隔一定時(shí)間，記錄再現(xiàn)速度變化時(shí)，在記錄再現(xiàn)具有兩層以上的記錄膜的光盤時(shí)，對(duì)與到此為止記錄再現(xiàn)的層不同的層進(jìn)行記錄再現(xiàn)時(shí)，溫度變化時(shí)，從記錄動(dòng)作過渡到再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，從再現(xiàn)動(dòng)作過渡到記錄動(dòng)作時(shí)，等。
這樣一來，可以實(shí)現(xiàn)即使同時(shí)使用光衰減器與高頻疊加法也可以充分地得到噪聲降低效果的光盤再現(xiàn)方法。
再者，在不進(jìn)行高頻疊加的調(diào)制度的調(diào)整時(shí)，也可以省略S104的步驟和S107的高頻電流振幅的變更。這是因?yàn)樵谕ㄟ^反射光的噪聲降低效果選擇光盤裝置的控制容易性時(shí)有效的緣故。此外在不進(jìn)行根據(jù)再現(xiàn)功率的光衰減率或控制電壓的調(diào)整時(shí)，還可以省略S106與S107的步驟。
實(shí)施例5本實(shí)施例與光衰減器的周圍溫度對(duì)應(yīng)而使光衰減器的衰減率和控制電壓變化的光盤再現(xiàn)方法的例子進(jìn)行說明。
圖9是光盤裝置使光衰減器的控制電壓根據(jù)周圍溫度變化時(shí)的流程圖例。該圖表示從光盤插入到再現(xiàn)結(jié)束。在S201中光盤被插入后，在S202中進(jìn)行光衰減器的周圍溫度的測(cè)定。根據(jù)測(cè)定的周圍溫度，在S203中確定光衰減器的控制電壓，在S204中開始再現(xiàn)。以后在適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)，在S205中進(jìn)行周圍溫度的判定。在S206中進(jìn)行周圍溫度是否超過規(guī)定量的判定。在周圍溫度超過規(guī)定量時(shí)，在S207中根據(jù)溫度而使控制電壓變化。在溫度未超過規(guī)定量時(shí)，按適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)繼續(xù)S204的溫度測(cè)定。
再者，上述所謂適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)可以舉出每隔一定時(shí)間，記錄再現(xiàn)速度變化時(shí)，在記錄再現(xiàn)具有兩層以上的記錄膜的光盤時(shí)，對(duì)與到此為止記錄再現(xiàn)的層不同的層進(jìn)行記錄再現(xiàn)時(shí)，從記錄動(dòng)作過渡到再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，從再現(xiàn)動(dòng)作過渡到記錄動(dòng)作時(shí)，等。
此外，雖然以上表示出對(duì)溫度變化離散地使控制電壓變化的例子，但是如圖10中所示根據(jù)溫度實(shí)時(shí)地反饋控制電壓也是可能的。在S301中光盤被插入后，在S302中進(jìn)行光衰減器的周圍溫度的測(cè)定，根據(jù)測(cè)定的周圍溫度在S303中確定控制電壓，在S304中開始再現(xiàn)。以后，在S305中連續(xù)地進(jìn)行溫度的測(cè)定，在S306中實(shí)時(shí)地變更控制電壓。
像以上這樣，通過根據(jù)光衰減器的周圍溫度使光衰減器的控制電壓變化，可以實(shí)現(xiàn)即使周圍溫度變化也不使激光二極管的壽命縮短和消費(fèi)電力增大等地得到量化噪聲降低效果的光盤再現(xiàn)方法。
實(shí)施例6本實(shí)施例對(duì)根據(jù)再現(xiàn)功率與光衰減器的周圍溫度而使光衰減器的衰減率和控制電壓變化的光盤再現(xiàn)方法以及同時(shí)使用光衰減器和高頻疊加法時(shí)的光盤再現(xiàn)方法的例子進(jìn)行說明。
圖11是光盤裝置根據(jù)再現(xiàn)功率、與光衰減器的周圍溫度使光衰減器的控制電壓變化的光盤裝置的、從光盤插入到再現(xiàn)結(jié)束的流程圖的例子。在S401中光盤被插入后，在S402中確定再現(xiàn)功率，進(jìn)行溫度的測(cè)定。再者，再現(xiàn)功率可以通過讀取記錄在光盤中的盤信息來確定，也可以使用根據(jù)光盤的種類預(yù)先確定并保存在光盤裝置內(nèi)的存儲(chǔ)器等的信息來確定。根據(jù)確定的再現(xiàn)功率和溫度，在S403中確定光衰減器的控制電壓。根據(jù)對(duì)應(yīng)于確定的控制電壓的光衰減率，在S404中確定高頻電流振幅，在S405中開始再現(xiàn)。以后按照適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)進(jìn)行S406的溫度測(cè)定，在S407中進(jìn)行再現(xiàn)功率的確認(rèn)。在再現(xiàn)功率變化時(shí)，在S409中根據(jù)再現(xiàn)功率使控制電壓變化。在再現(xiàn)功率未變化時(shí)，在S408中進(jìn)行周圍溫度是否超過規(guī)定量的判定。在再現(xiàn)功率也變化周圍溫度也超過規(guī)定量時(shí)，在S409中根據(jù)再現(xiàn)功率與周圍溫度而使控制電壓變化。在周圍溫度未超過規(guī)定量時(shí)，按照適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)繼續(xù)S406的溫度測(cè)定。
再者，上述所謂適當(dāng)?shù)亩〞r(shí)可以舉出每隔一定時(shí)間，記錄再現(xiàn)速度變化時(shí)，在記錄再現(xiàn)具有兩層以上的記錄膜的光盤時(shí)，對(duì)與到此為止記錄再現(xiàn)的層不同的層進(jìn)行記錄再現(xiàn)時(shí)，從記錄動(dòng)作過渡到再現(xiàn)動(dòng)作時(shí)，從再現(xiàn)動(dòng)作過渡到記錄動(dòng)作時(shí)，等。
這樣一來，可以實(shí)現(xiàn)即使同時(shí)使用能夠根據(jù)再現(xiàn)功率和溫度變化控制的光衰減器，與高頻疊加法也可以實(shí)現(xiàn)可以充分地得到噪聲降低效果的光盤再現(xiàn)方法。
再者，在不進(jìn)行高頻疊加的調(diào)制度的調(diào)整時(shí)，也可以省略S404的步驟和S409的高頻電流振幅的變更。這是因?yàn)樵谕ㄟ^反射光的噪聲降低效果選擇光盤裝置的控制容易性時(shí)有效的緣故。
此外，雖然以上表示出對(duì)溫度變化離散地使控制電壓變化的例子，但是如圖12中所示根據(jù)溫度實(shí)時(shí)地反饋控制電壓也是可能的。在S501中光盤被插入后，在S502中進(jìn)行再現(xiàn)功率的確定和光衰減器的周圍溫度的測(cè)定。在S503中，根據(jù)確定的再現(xiàn)功率與測(cè)定的周圍溫度確定控制電壓。根據(jù)對(duì)應(yīng)于確定的控制電壓的光衰減率，在S504中確定高頻電流振幅，在S505中開始再現(xiàn)。以后在S506中連續(xù)地進(jìn)行溫度的測(cè)定和行再現(xiàn)功率的確認(rèn)。在S507中實(shí)時(shí)地變更控制電壓。
再者，在不進(jìn)行高頻疊加的調(diào)制度的調(diào)整時(shí)，也可以省略S504的步驟和S507的高頻電流振幅的變更。這是因?yàn)樵谕ㄟ^反射光的噪聲降低效果選擇光盤裝置的控制容易性時(shí)有效的緣故。
權(quán)利要求
1.一種光盤裝置，從光盤再現(xiàn)信息，其特征在于，包括照射激光的激光二極管；驅(qū)動(dòng)所述激光二極管的激光器驅(qū)動(dòng)器；使所述激光二極管的發(fā)光功率衰減的衰減器；驅(qū)動(dòng)所述衰減器的衰減器驅(qū)動(dòng)器；和控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器與所述衰減器驅(qū)動(dòng)器的控制部，所述控制部以在再現(xiàn)所述光盤的過程中，使所述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)所述光盤的半徑位置改變所述衰減器的衰減率的方式控制所述衰減器驅(qū)動(dòng)器。
2.如權(quán)利要求1所述的光盤裝置，其特征在于包括測(cè)定所述衰減器周圍溫度的溫度傳感器，所述控制部以使所述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)所述周圍溫度改變所述衰減器的衰減率的方式控制所述衰減器驅(qū)動(dòng)器。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光盤裝置，其特征在于所述激光器驅(qū)動(dòng)器包括將高頻電流供給到所述激光二極管的高頻疊加電路，所述控制部以根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅的方式控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器。
4.一種光盤裝置，從光盤再現(xiàn)信息，其特征在于，包括照射激光的激光二極管；驅(qū)動(dòng)所述激光二極管的激光器驅(qū)動(dòng)器；使所述激光二極管的發(fā)光功率衰減的衰減器；驅(qū)動(dòng)所述衰減器的衰減器驅(qū)動(dòng)器；控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器與所述衰減器驅(qū)動(dòng)器的控制部；和測(cè)定所述衰減器周圍溫度的溫度傳感器，所述控制部以使所述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)所述周圍溫度改變所述衰減器的衰減率的方式控制所述衰減器驅(qū)動(dòng)器。
5.如權(quán)利要求4所述的光盤裝置，其特征在于所述激光器驅(qū)動(dòng)器包括將高頻電流供給到所述激光二極管的高頻疊加電路，所述控制部以根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅的方式控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器。
6.一種光盤裝置，從光盤再現(xiàn)信息，其特征在于，包括照射激光的激光二極管；具備將高頻電流供給到所述激光二極管的高頻疊加電路并驅(qū)動(dòng)所述激光二極管的激光器驅(qū)動(dòng)器；使所述激光二極管的發(fā)光功率衰減的衰減器；驅(qū)動(dòng)所述衰減器的衰減器驅(qū)動(dòng)器；和控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器與所述衰減器驅(qū)動(dòng)器的控制部，所述控制部以根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅的方式控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器。
7.一種光盤再現(xiàn)方法，將由衰減器使從激光二極管照射的激光的第一功率衰減到第二功率后照射到光盤而從所述光盤再現(xiàn)信息，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，根據(jù)所述光盤的半徑位置改變所述第二功率。
8.如權(quán)利要求7所述的光盤再現(xiàn)方法，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，根據(jù)所述衰減器周圍的溫度改變所述第二功率。
9.如權(quán)利要求7或8所述的光盤再現(xiàn)方法，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，將高頻疊加的驅(qū)動(dòng)電流供給到所述激光二極管，根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅。
10.一種光盤再現(xiàn)方法，將由衰減器使從激光二極管照射的激光的第一功率衰減到第二功率后照射到光盤而從所述光盤再現(xiàn)信息，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，根據(jù)所述衰減器周圍的溫度改變所述第二功率。
11.如權(quán)利要求10所述的光盤再現(xiàn)方法，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，將高頻疊加的驅(qū)動(dòng)電流供給到所述激光二極管，根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅。
12.一種光盤再現(xiàn)方法，將由衰減器使從激光二極管照射的激光的第一功率衰減到第二功率后照射到光盤而從所述光盤再現(xiàn)信息，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，將高頻疊加的驅(qū)動(dòng)電流供給到所述激光二極管，根據(jù)所述衰減器的衰減率改變所述高頻電流的振幅。
13.一種光盤裝置，從光盤再現(xiàn)信息，其特征在于，包括照射激光的激光二極管；驅(qū)動(dòng)所述激光二極管的激光器驅(qū)動(dòng)器；使所述激光二極管的發(fā)光功率衰減的衰減器；驅(qū)動(dòng)所述衰減器的衰減器驅(qū)動(dòng)器；和控制所述激光器驅(qū)動(dòng)器與所述衰減器驅(qū)動(dòng)器的控制部，所述控制部以在再現(xiàn)所述光盤的過程中，所述衰減器驅(qū)動(dòng)器根據(jù)所述光盤的再現(xiàn)速度改變所述衰減器的衰減率的方式控制所述衰減器驅(qū)動(dòng)器。
14.一種光盤再現(xiàn)方法，將由衰減器使從激光二極管照射的激光的第一功率衰減到第二功率后照射到光盤而從所述光盤再現(xiàn)信息，其特征在于在再現(xiàn)所述光盤的過程中，根據(jù)所述光盤的再現(xiàn)速度改變所述第二功率。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供一種在使用光衰減器的光盤裝置中，能夠降低噪聲而實(shí)現(xiàn)良好的再現(xiàn)動(dòng)作的光盤裝置和光盤再現(xiàn)方法。為了解決該目的，根據(jù)再現(xiàn)光盤時(shí)的再現(xiàn)功率，和光衰減器的周圍溫度而使光衰減器的控制電壓變化。此外，根據(jù)光衰減器的衰減率而使驅(qū)動(dòng)激光二極管的高頻電流振幅變化。
文檔編號(hào)G11B7/005GK1975870SQ20061012860
公開日2007年6月6日 申請(qǐng)日期2006年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月29日
發(fā)明者鹽澤學(xué), 重田和俊 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立制作所, 日立樂金資料儲(chǔ)存股份有限公司