專利名稱：：用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法、頭部位置控制方法及盤裝置的制作方法
技術(shù)領域：
：本發(fā)明涉及用于對盤裝置進行頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，該方法控制頭部相對于正在旋轉(zhuǎn)的盤的位置，以從該盤讀取信息和/或?qū)⑿畔懭朐摫P中，還涉及頭部位置控制方法及其盤裝置，更具體地，本發(fā)明涉及用于進行頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，該方法用于校正位置信號的旋轉(zhuǎn)同步分量，還涉及頭部位置控制方法及其盤裝置。
背景技術(shù)：
：用于將信息記錄在旋轉(zhuǎn)盤介質(zhì)上并從中再現(xiàn)信息的盤存儲裝置被廣泛用作數(shù)據(jù)和其他信息的存儲裝置。盤裝置包括用于存儲數(shù)據(jù)的盤、用于使該盤旋轉(zhuǎn)的主軸電機、用于將信息記錄在盤上或從盤再現(xiàn)信息的頭部、以及用于將頭部移動到目標位置的致動器。典型示例為磁盤裝置(HDD硬盤驅(qū)動器)和磁光盤裝置(DVD-ROM、MO)。在磁盤裝置中，將用于檢測頭部位置的多個位置信號記錄在相對于旋轉(zhuǎn)中心的圓弧中，并且形成了磁道。位置信號包括伺服標記、磁道號(格雷碼)和偏移信息。由磁道號和偏移信息可以獲知頭部的當前位置。確定該位置信息與目標位置之間的差，根據(jù)偏移量進行計算，并且提供用于驅(qū)動致動器的驅(qū)動信號，例如，用于VCM(音圈電機)的電流和對于壓電致動器的電壓?？梢杂稍摫P裝置本身利用STW(伺服磁道寫入)方法來記錄關于盤的位置信號(伺服信號)，或者由外部STW設備來記錄。由盤裝置本身記錄位置信號的STW方法包括圖釘(pushpin)STW、自伺服寫入和重寫STW。由外部STW設備進行記錄的方法包括在單個盤上進行記錄的方法、磁轉(zhuǎn)寫以及分立介質(zhì)。為了準確地記錄并且再現(xiàn)數(shù)據(jù)，需要將頭部準確地定位在從位置信號解調(diào)出的位置上。但是這些位置信號包含有噪聲，噪聲降低了定位精度。該噪聲具有與主軸電機的旋轉(zhuǎn)同步的分量，以及與該旋轉(zhuǎn)不同步的分量?？梢詫εc該旋轉(zhuǎn)同步的分量進行測量和校正，并且在測量結(jié)果允許的情況下可將該分量抑制到零。另一方面，對于與旋轉(zhuǎn)不同步的分量，很難進行測量和校正。已經(jīng)提出了各種方法用于對與旋轉(zhuǎn)同步的分量進行測量和校正。在沒有從外部受到振動的情況下，有兩個原因會導致在位置信號中產(chǎn)生與主軸電機的旋轉(zhuǎn)同步的分量。第一個原因是在STW過程中并未準確地以同心方式來記錄伺服信號。只要伺服信號是以機械方式記錄的，則在記錄過程中的機械噪聲、電噪聲和磁噪聲就是不可避免的。因此，在STW過程中以同心方式來準確地記錄伺服信號是極其困難的。第二個原因是在進行了STW之后盤和主軸電機發(fā)生了變形。具體地，位置信號并沒有相對于主軸電機的旋轉(zhuǎn)中心而同心地對齊。當前的盤裝置的磁道寬度為大約200納米，所以即使輕微的變形對于定位精度的影響也是非常大的。將與旋轉(zhuǎn)同步的位置信號的波動分量稱為“偏心率”或“RRO(可重復偏轉(zhuǎn)(repeatableRunOut))”，并且將旋轉(zhuǎn)頻率一倍的分量稱為“一次”、旋轉(zhuǎn)頻率兩倍的分量稱為“二次”。如果出現(xiàn)了RRO，則頭部的定位精度降低，這在進行記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)過程中會引發(fā)多種問題。例如，如果定位精度較差，則當數(shù)據(jù)被記錄在磁道上時，先前記錄在相鄰磁道上的部分數(shù)據(jù)被覆寫。為了防止這種情況，必須在定位控制過程中對RRO進行控制?？刂芌RO的傳統(tǒng)有效方法為如圖42所示的控制致動器以使其不跟從(follow-up)RRO而是忽略RRO的方法，以及如圖43所示的控制致動器以跟從RRO的控制方法。圖42和圖43示出了頭部位置控制系統(tǒng)的框圖，其中當對控制系統(tǒng)施加擾動時，將與主軸電機的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與主軸電機的旋轉(zhuǎn)不同步的分量表示為RRO、NRRO、RPE和NRPE。RRO(可重復偏轉(zhuǎn))是與旋轉(zhuǎn)同步的位置擾動分量。NRRO(不可重復偏轉(zhuǎn))是與旋轉(zhuǎn)不同步的位置擾動分量。RPE(可重復位置誤差)是當進行定位控制時在位置誤差‘e’中包含的與旋轉(zhuǎn)同步的分量。而NRPE(不可重復位置誤差)是當進行定位控制時在位置誤差‘e’中包含的與旋轉(zhuǎn)不同步的分量。與旋轉(zhuǎn)同步的分量RRO和RPE表示了取決于伺服抽樣的不同的值。為了進行定位控制，需要獲知RRO、RPE以及RPE+RRO，并使這三個值都達到最小。RRO表示盤上的磁道的變形。這里，與相鄰磁道的RRO的差值是非常關鍵的。該差值表示磁道寬度的波動。隨著差值的波動幅度變寬，磁道間隔的波動增加，換言之，出現(xiàn)了磁道寬度變窄的區(qū)域。當從外部施加了振動并且定位精度降低時，該RRO確定了在相鄰磁道的數(shù)據(jù)記錄區(qū)域上出現(xiàn)覆寫的寬度。換言之，對RRO進行抑制有助于提高對外部振動的抵抗性。RPE表示相對于定位目標的位移。如果進行控制僅為跟從RRO，則RPE表示相對于RRO的偏差。在一般的定位控制中，RPE為管理目標。例如，如果RPE包含在與磁道寬度偏差±15％的范圍之內(nèi)，或者如果對于預定的數(shù)量的抽樣該狀態(tài)持續(xù)，則可以進行數(shù)據(jù)記錄，或者判斷是否完成了尋道控制(完成了穩(wěn)定化)。換言之，對RPE進行抑制有助于改進尋道響應時間。RPE+RRO表示在沒有從外部施加振動的狀態(tài)下致動器的軌跡。即，表示當來自外部的振動為零時記錄數(shù)據(jù)的位置。如上所述，對RPE+RRP進行抑制有助于提高定位精度、以及在外部振動較小的通常操作狀態(tài)下對數(shù)據(jù)進行記錄/再生的錯誤率。在圖42和圖43中，通過使用目標位置‘r’、RRO、NRRO、控制系統(tǒng)的傳遞函數(shù)C(z)以及設備(plant)(在磁盤裝置的情況下為致動器)的傳遞函數(shù)(P(z)，可以通過下面的關系式(1)來表示實際位置‘y’和位置誤差‘e’。y=C(z)·P(z)1+C(z)·P(z)r+11+C(z)·P(z)RRO+11+C(z)·P(z)NRRO]]>e＝y(tǒng)-r...(1)現(xiàn)在考查在磁道跟從過程中當目標位置‘r’總是相同并且沒有從外部施加振動時的狀態(tài)。如表達式(1)所示，在用于求解‘y’的表達式右側(cè)的目標位置項‘r’為常數(shù)并且等于所輸入的(目標位置)‘r’。從而，得到了在軌道跟從狀態(tài)下的位置誤差‘e’的表達式(2)。e=11+C(z)·P(z)RRO+11+C(z)·P(z)NRRO...(2)]]>注意，該狀態(tài)下的‘e’也是RPE和NRPE之和。因此，在下面的關系式(3)中表示出RRO、NRRO、RPE和NRPE。在這兩個表達式中，通常將1/(1+C(z)·P(z))稱為“靈敏度函數(shù)”。RPE=11+C(z)·P(z)RRO]]>NRPE=11+C(z)·P(z)NRRO...(3)]]>這樣，在RPE和RRO之間存在用于靈敏度函數(shù)的量的特性差異。換言之，存在取決于頻率的差異。這表示即使可以抑制RRO，對于RPE也并非總能實現(xiàn)相同的抑制率。即使可以將RRO抑制50％，RPE也可能僅被抑制了20％。因此，必須考慮頻率特性的差異。有兩種抑制RRO的方法，即，使致動器不跟從RRO的方法(如圖42所示)，以及使致動器跟從RRO的方法(如圖43所示)。在實踐上，這兩種方法都已被應用于盤裝置。一種采用了這兩種方法的方法也正在使用中。例如，致動器在低頻域跟從而在高頻域中不跟從。圖42表示使致動器不跟從RRO的方法。預先創(chuàng)建用于存儲所謂“RroTable”的多個值的校正表100。當進行盤裝置的定位控制時，從位置誤差‘e’中減去校正表100的RroTable，并對控制器C(z)使用所得結(jié)果。換言之，控制器C(z)根據(jù)消去了RRO的位置誤差來計算控制量。這些RroTable可以隨著頭部、磁道、讀取位置或?qū)懭胛恢玫牟煌煌?，或者可以對于各個頭部或者由多個磁道形成的各個區(qū)域是相同的。一種已經(jīng)提出的RroTable生成方法是通過對觀測位置進行計算來確定RRO。該計算方法的一個示例是使用離散傅立葉變換(DFT)(如，日本特開平11-126444號公報)。如圖42所示，根據(jù)位置誤差‘e’生成位置軌跡(即校正表100中的RroTable)，并消去包含在‘e’中的RPE。將此時的位置誤差‘e’由下面的表達式(4)表達。根據(jù)該表達式(4)，致動器進行工作以不跟從RRO。e=11+C(z)·P(z)(RRO+NRRO-RroTable)...(4)]]>=RPE+NRPE-11+C(z)·P(z)RroTable]]>因此為了從位置誤差‘e’中消去RPE，生成滿足下面的表達式(5)的RroTable。RroTable＝(1+C(z)·P(z))RPE...(5)換言之，如圖42所示，由獲取塊110根據(jù)位置誤差‘e’來獲取RPE，并由RRO計算塊112通過靈敏度函數(shù)的逆特性來根據(jù)所獲取的RPE確定RroTable值。為了確定盤的多周旋轉(zhuǎn)的平均值，加法塊114將盤的各周放置的RroTable值進行相加。另一方面，在采用使致動器跟從RRO的方法的情況下，預先創(chuàng)建用于存儲URroTable值的校正表118。在盤裝置的定位控制過程中，當從控制系統(tǒng)C(z)向設備P(z)提供驅(qū)動信號時，加上了校正表118的URroTable值。該URroTable值也隨著頭部、磁道和讀取位置/寫入位置的不同而不同，或者對于各個頭部以及由多個磁道構(gòu)成的各個區(qū)域可以具有同一值。各個頭部可以具有一個URroTable值而與磁道無關。對于該UrroTable生成方法，也已經(jīng)提出了一些方法，例如計算位置誤差‘e’并確定跟從RRO的信號的方法。該計算方法的示例為一種使用重復控制的方法，以及一種采用離散傅立葉變換的方法(如，參見日本特開平11-126444號公報)。如圖43所示，根據(jù)位置誤差‘e’生成URroTable值，并消去包含在‘e’中的RPE。如上所述，在沒有施加外部振動的軌道跟從狀態(tài)下，致動器工作以跟從RRO，并且位置誤差‘e’滿足以下關系式(6)。e=11+C(z)·P(z)(RRO+NRRO)+P(z)1+C(z)·P(z)URroTable...(6)]]>=RPE+NRPE+P(z)1+C(z)·P(z)URroTable]]>因此，為了從位置誤差‘e’中消去RPE，生成滿足以下表達式(7)的URroTable值。表達式(7)表示通過利用具有靈敏度函數(shù)的逆特性和設備的逆特性的傳遞函數(shù)而根據(jù)RPE確定的URroTable。URroTable=1+C(z)·P(z)P(z)RPE...(7)]]>換言之，如圖43所示，由獲取塊110根據(jù)位置誤差‘e’獲取RPE，并由RRO計算塊112通過靈敏度函數(shù)的逆特性和設備的逆特性，根據(jù)所獲得的RPE來確定UrroTable值。如果要確定盤的多周旋轉(zhuǎn)的平均值，則通過加法塊114將盤的各周的URroTable值進行相加。如上所述，根據(jù)所觀測的RPE來確定校正表RroTable或URroTable的方法為通過諸如(1+C(z)·P(z))或者-(1+C(z)·P(z))/P(z)的傳遞函數(shù)來進行轉(zhuǎn)換。對于這種轉(zhuǎn)換方法，預先確定RPE與Rro或URro之間的頻率特性并利用離散傅立葉變換(DFT)的方法能夠最為準確地確定波形。生成RroTable和URroTable的一個問題是噪聲，特別是位置擾動中的異步分量NRRO。在定位控制過程中，將NRRO觀測為NRPE。不考慮致動器是否跟從RRO，利用位置信號來確定波形，但是當與RPE相比NRPE非常大時，將會出現(xiàn)這一問題。當NRPE為“0”時，可以僅通過觀測一周的位置信號來確定RPE。因此，對于完全跟從RRO或者完全不跟從RRO的致動器，可以很容易地生成RroTable或URroTable。但是，實際上，RPE和NRPE的大小基本相等，所以需要一種考慮了RPE測量過程中的NRPE誤差的方法。一種減小NRPE的影響的方法為取位置誤差‘e’的平均值的方法。對于多周旋轉(zhuǎn)(如，100周)對位置信號進行連續(xù)測量，并對于各個伺服扇區(qū)確定所測得值的平均值。將該平均值作為RPE，并計算對于不跟從RRO或跟從RRO的校正信號Rro值或URroTable值。在假設在所觀測的波形中未包含有噪聲的情況下，計算了Rro或URroTable的值。并對于各個扇區(qū)，將該值代入RroTable的校正表100和UrroTable的校正表108中。僅取平均值的方法可以減少NRPE的影響，但卻不會將其抑制為‘0’。此外，NRPE相對于RPE的大小以及要測量的旋轉(zhuǎn)周數(shù)的標準較為模糊。因此，提出了以下的方法用小于1的增益(Krro或Kurro)乘以平均位置誤差信號，并將結(jié)果代入表100或118中(如，US6,437,936B1)。根據(jù)該方法，當NRPE較大時，或者當用于測量的旋轉(zhuǎn)周數(shù)較小時，根據(jù)經(jīng)驗調(diào)整Krro或Kurro，從而使校正后的RPE變小。當NRPE相對于RPE較大時，該增益接近于“0”，如果較小則接近于“1”。為了解決增益的不確定性，還重復地對RPE進行測量和校正(如，參見US6,437,936，B1)。例如，下面將考查當測量或校正重復進行兩次的情況。通過利用第一次測量和計算所確定的Rro[1]或URro[1]，利用下面的表達式(8)生成校正表。RroTable[1]＝Krro[1]·Rro[1]或...(8)URroTable[1]＝Kurro[1]·URro[1]在利用所生成的校正表RroTable[1]或URroTable[1]進行了定位控制之后的狀態(tài)下，對RPE進行了第二次測量。然后根據(jù)下面的表達式(9)再一次計算Rro[2]或Urro[2]，并將其加入先前的校正表中。RroTable[2]＝Krro[2]·Rro[2]+RroTable[1]或...(9)URroTable[2]＝Kurro[2]·Urro[2]+URroTable[1]當今隨著增大的存儲容量的需求，磁道密度也在增大。圖44示出了三個相鄰磁道的波動，其中磁道中心的軌跡隨著磁道而不同。圖45示出了從圖44的中心磁道觀測得到的上、下磁道的軌跡，并示出了該中心磁道的磁道寬度。通過這種方式，由于磁道的高密度，需要進行高精度的RRO校正。在生成RRO校正表(盤裝置的RroTable或UrroTable)的傳統(tǒng)方法中，沒有建立當將校正值Rro或URro加入校正表時，在理論上確定增益(Krro或Kurro)的最佳值的方法。因此，不可避免地，必須根據(jù)經(jīng)驗通過實驗來確定最佳值。因此不能推測校正之后的RPE的抑制率，且必須通過實驗來確認。當對于各個盤裝置來調(diào)整抑制率時會存在問題，這使得當設計新裝置時不能推測定位精度的值。此外，當在盤裝置的制造步驟中測量校正值時，很難對于為滿足定位精度的規(guī)定所需的RPE測量時間(即，制造時間)設定一個標準。例如，根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，隨著測量時間變長(如，幾個小時)，可以創(chuàng)建一個更為準確的RRO校正表以滿足定位精度的規(guī)定，但是當測量時間變得更長時，制造步驟中的校正表創(chuàng)建時間比變得更長，這不適于制造大量盤裝置。此外，當通過實驗來確定增益時，沒有考慮位置誤差的頻率特性，所以很難有效地抑制校正之后的RPE，這會降低盤裝置的跟從精度。
發(fā)明內(nèi)容鑒于以上問題，本發(fā)明的一個目的是提供如下一種方法當將校正值Rro或URro中的一個加入到校正表時，不是根據(jù)實驗而是根據(jù)理論來確定增益，以在更短時間內(nèi)創(chuàng)建滿足定位精度規(guī)定的校正表；并且還提供了一種頭部定位控制方法及其盤裝置。本發(fā)明的另一目的是提供如下一種方法在將校正值Rro或URro中的一個加入到校正表時，使增益達到最佳，從而在更短時間內(nèi)創(chuàng)建滿足定位精度規(guī)定的校正表；并且提供了一種頭部定位控制方法及其盤裝置。本發(fā)明的另一目的是提供一種校正表創(chuàng)建方法對于各個頻率以最佳水平設置將校正值Rro或URro中的一個加入到校正表時的增益，從而有效地抑制校正后的RPE；以及一種頭部定位控制方法及其盤裝置。為了實現(xiàn)以上目的，根據(jù)本發(fā)明的校正表創(chuàng)建方法是一種用于頭部位置控制的校正表生成方法，其利用該盤的位置信號創(chuàng)建校正值，來校正與盤裝置的盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量，以控制至少用于對該盤的信息進行讀取的頭部的位置。該方法具有以下步驟根據(jù)位置信號的平均波形來測量與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量；利用基于位置信號中的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來校正所測得的位置誤差分量；以及，將經(jīng)校正的位置誤差分量存儲在校正表中。根據(jù)本發(fā)明的頭部位置控制方法是如下一種頭部位置控制方法，其利用通過與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量對該盤的位置信號進行校正而獲得的信號，來控制至少對該盤的信息進行讀取的頭部位置。該方法具有以下步驟基于來自該頭部的位置信號來計算目標位置與當前位置之間的誤差；從用于存儲校正信號的校正表中讀取校正信號，該校正信號是通過如下步驟獲得的根據(jù)所述位置信號的平均波形來測量與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量，并且利用基于所述位置信號中的與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與該盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來校正所測得的位置誤差分量；以及，基于該位置誤差和該校正信號來控制頭部位置。根據(jù)本發(fā)明的盤裝置是具一種盤裝置，其具有頭部，用于至少對盤的信息進行讀??；致動器，用于將該頭部移動到該盤的期望位置；校正表，用于存儲校正信號，該校正信號是通過如下步驟獲得的根據(jù)來自該頭部的所述位置信號的平均波形來測量與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量，并且利用基于所述位置信號中的與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與該盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，校正所測得的位置誤差分量；以及，控制單元，用于基于來自該頭部的位置信號來計算目標位置和當前位置之間的誤差，并且基于該位置誤差和該校正信號來控制頭部位置。在本發(fā)明中，優(yōu)選地，所述校正步驟還包括如下步驟利用基于用于對位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、該校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與該盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來校正所測得的位置誤差分量。優(yōu)選地，本發(fā)明還包括如下步驟測量所述位置信號中的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布以及與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布；以及，基于該同步分量的正態(tài)分布與不同步分量的正常分量之間的比，來計算該經(jīng)調(diào)整的增益。在本發(fā)明中，優(yōu)選地，所述校正步驟還包括如下步驟利用用于各次重復的增益，對于各次重復校正所測得的位置誤差分量，所述增益是基于用于對位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、該校正的重復次數(shù)以及所述位置信號中的與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與該盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的。在本發(fā)明中，優(yōu)選地，所述校正步驟還具有如下步驟利用經(jīng)調(diào)整的增益，對于各個頻率(所述各個頻率為該盤的旋轉(zhuǎn)頻率的倍數(shù))校正所測得的位置誤差分量，所述經(jīng)調(diào)整的增益是通過確定位置信號中的與該盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而獲得的。在本發(fā)明中，優(yōu)選地，在所述存儲步驟中，殘余RROσ遵從以下表達式(18)表示，該殘余RROσ是由存儲在所述校正表中的校正值校正過的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布，其中所述與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布為σRRO，與該盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布為σNRRO，測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)為‘N’，重復次數(shù)為‘M’，增益為‘K’。根據(jù)本發(fā)明，使用了基于所述位置信號中的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，從而可以利用用于確定校正后的RRO的表達式，在理論上確定使校正后的RRO達到最小的增益。因此，可以不依賴于實驗地確定增益。此外，可以確保校正后的RRO的值，并可以確定制造時間和裝置規(guī)格。圖1是表示根據(jù)本發(fā)明的盤裝置的一個實施例的結(jié)構(gòu)的圖；圖2是表示圖1的盤的伺服信號的布置的圖；圖3是表示圖2的伺服信號的結(jié)構(gòu)的圖；圖4是對圖3中的伺服信號進行讀取的波形圖；圖5是表示圖1中的頭部控制順序的圖；圖6是表示圖1中的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖7是表示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的具有RRO校正功能的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖8是表示圖1中的盤設備的制造步驟的流程圖；圖9是圖7中的評價函數(shù)的說明圖；圖10是表示圖7中的加法增益測量處理的流程圖；圖11是表示圖10中的RRO測量處理的流程圖；圖12是表示圖10中的NRRO測量處理的流程圖；圖13是表示圖7中的RroTable創(chuàng)建處理的流程圖；圖14是表示圖7中的另一RroTable校正處理的流程圖；圖15是表示利用圖7中的RroTable的第一實施例的曲線圖；圖16是表示利用圖7中的RroTable的第二實施例的曲線圖；圖17是表示利用圖7中的RroTable的第三實施例的曲線圖；圖18是表示利用圖7中的RroTable的第四實施例的曲線圖；圖19是表示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的具有RRO校正功能的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖20是表示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的具有RRO校正功能的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖21是表示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的具有URRO校正功能的伺服系統(tǒng)的框圖；圖22是表示圖21中的URRO校正的評價函數(shù)的說明圖；圖23是表示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的具有URRO校正功能的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖24是表示根據(jù)本發(fā)明又一實施例的具有URRO校正功能的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖25是表示圖7中的用于各個RRO次數(shù)(degree)的加法增益測量處理的流程圖；圖26是用于測量圖25中的加法增益的FFT的頻率特性圖；圖27是表示圖25中的NRRO測量處理的曲線圖；圖28是表示圖25中的RRO測量的曲線圖；圖29是表示圖27和圖28中的NRRO和RRO的曲線圖；圖30是表示圖25中的最佳增益和剩余RRO的曲線圖；圖31是表示圖25中的具有最佳增益的RPE校正操作的說明圖；圖32是表示用于圖25中的各個RRO次數(shù)的加法增益的示例的表；圖33是表示圖25中的校正之前的RPE的曲線圖；圖34是表示圖25中的校正之后的RPE的曲線圖；圖35是表示當存在圖7所示的磁道校正時的RroTable創(chuàng)建處理的流程圖；圖36是表示圖35中的區(qū)域分割的說明圖；圖37是表示圖35中的RroTable的表；圖38是表示使用圖7中的RRO校正表的伺服磁道寫入方法的說明圖；圖39是表示使用圖7中的RRO校正表的伺服磁道寫入方法的另一說明圖；圖40是表示使用圖7中的RRO校正表的伺服磁道重寫方法的流程圖；圖41是表示圖7中的RRO校正表的存儲位置的說明圖；圖42是表示使用傳統(tǒng)RRO校正表的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖43是表示使用傳統(tǒng)URRO校正表的伺服控制系統(tǒng)的框圖；圖44是表示根據(jù)傳統(tǒng)RRO校正表的磁道波動幅度的曲線圖；圖45是圖44中的相鄰磁道的放大視圖。具體實施例方式下面按照如下順序來說明具體實施例方式盤裝置、用于創(chuàng)建RRO校正表的最佳增益確定方法、RRO校正表創(chuàng)建方法、另一RRO校正表創(chuàng)建方法、URRO校正表創(chuàng)建方法、考慮頻率特性的另一RRO校正表創(chuàng)建方法、考慮相關性的另一RRO校正表創(chuàng)建方法、使用RRO校正表的伺服磁道寫入方法、以及其他實施例。但是，本發(fā)明并不限于以下實施例。盤裝置圖1是表示根據(jù)本發(fā)明一個實施例的盤存儲裝置的結(jié)構(gòu)的圖，圖2是表示圖1中的磁盤的位置信號的布置的圖，圖3是表示圖1和圖2中的磁盤的位置信號的結(jié)構(gòu)的圖，圖4是表示對圖3中的位置信號進行讀取的波形圖，圖5是表示圖1中的頭部位置控制的圖，而圖6是表示具有圖1中的結(jié)構(gòu)的伺服控制系統(tǒng)的框圖。圖1到圖6示出了作為盤存儲裝置的磁盤裝置。如圖1所示，作為磁存儲介質(zhì)的磁盤4安裝在主軸電機5的旋轉(zhuǎn)軸2上。主軸電機5使磁盤4旋轉(zhuǎn)。致動器(VCM音圈電機)1包括位于端部的磁頭3，并沿磁盤4的徑向移動磁頭3。致動器1包括繞旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的音圈電機(VCM)。在圖1中，在磁盤裝置中安裝有兩個磁盤4，并且由同一致動器1同時驅(qū)動四個磁頭3。磁頭3包括讀取元件和寫入元件。通過在滑塊上層疊包括阻磁(MR)元件的多個讀取元件，并在其上層疊包括寫入線圈的多個寫入元件來構(gòu)造磁頭3。位置檢測電路7將由磁頭3讀取的位置信號(模擬信號)轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號。讀/寫(R/W)電路10對磁頭3的讀取和寫入進行控制。主軸電機(SPM)驅(qū)動電路8驅(qū)動主軸電機5。音圈電機(VCM)驅(qū)動電路6將驅(qū)動電流提供給音圈電機(VCM)1，并驅(qū)動VCM1。微控制器(MCU)14使用來自位置檢測電路7的數(shù)字位置信號來檢測(解調(diào))當前位置，并根據(jù)檢測到的當前位置和目標位置之間的誤差來計算VCM驅(qū)動指令值。換言之，進行位置解調(diào)和伺服控制。只讀存儲器(ROM)13存儲MCU14的控制程序。隨機訪問存儲器(RAM)12存儲用于對MCU14進行處理所需的數(shù)據(jù)。硬盤控制器(HDC)11根據(jù)伺服信號的扇區(qū)號來判斷磁頭在磁道上的位置，并記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)。使用隨機存取存儲器(RAM)15作為緩沖存儲器，對所讀取的數(shù)據(jù)和所寫入的數(shù)據(jù)進行臨時存儲。HDC11通過諸如ATA和SCSI的接口IF與主機進行通信?？偩€9與這些設備相連。如圖2所示，從外磁道到內(nèi)磁道、以相等的間隔、沿著圓周方向在各個磁道上設置伺服信號(位置信號)。各個磁道包括多個扇區(qū)，并且圖2中的實線16表示伺服信號的記錄位置。如圖3所示，位置信號包括伺服標記ServoMark、磁道號GrayCode、索引Index、以及偏移信息(伺服突發(fā)(servoburst))PosA、PosB、PosC和PosD。圖3中的虛線表示磁道中心。圖4是當由磁頭3讀取圖3中的位置信號時的信號波形圖。通過使用圖4所示的信號波形的磁道號GrayCode以及偏移信息PosA、PosB、PosC和PosD來檢測磁頭3在半徑方向上的位置。此外，基于索引信號Index，獲知磁頭3在圓周方向上的位置。例如，將檢測到索引信號時的扇區(qū)號設為No.0，在每檢測到伺服信號時將該扇區(qū)號加1，并獲取磁道的各個扇區(qū)的扇區(qū)號。當記錄和再現(xiàn)數(shù)據(jù)時，伺服信號的扇區(qū)號成為基準。在磁道上有一個索引信號?？梢栽O置扇區(qū)號來代替索引信號或者與索引信號一起設置扇區(qū)號。圖5是由圖1的MCU14進行的對致動器的尋道控制的示例。通過圖1中的位置檢測電路7，MCU14確認致動器1的位置、進行伺服計算并將適當?shù)碾妷菏┘拥絍CM1。圖5表示當將磁頭3從一個磁道位置移到目標磁道位置時，從尋道起始時開始的控制轉(zhuǎn)變，致動器1的電流、致動器1(磁頭3)的速度以及致動器1(磁頭3)的位置。換言之，在尋道控制中，可以通過粗調(diào)控制、整定控制(settlementcontrol)和跟蹤控制(followingcontrol)將磁頭移到目標位置。粗調(diào)控制基本上為速度控制，整定控制和跟蹤控制基本上為位置控制，其中對于這兩個控制都必須檢測磁頭的當前位置。根據(jù)RPE來判斷從整定控制到跟蹤控制(作為尋道控制的完成)的轉(zhuǎn)變。還可以根據(jù)RPE來判斷在跟蹤控制過程中是否可以對數(shù)據(jù)進行記錄和再現(xiàn)。為了確認這些位置，如圖2到圖4所示，預先在磁盤上記錄伺服信號。換言之，如圖3所示，記錄有表示伺服信號的起始位置的伺服標記、表示磁道號的格雷碼、索引信號、以及表示偏移的信號PosA至PosD。磁頭3讀取該伺服信號，位置信息檢測電路7將該伺服信號轉(zhuǎn)換成數(shù)值。MCU14對圖6所示的數(shù)字伺服控制系統(tǒng)進行計算。換言之，由計算塊22確定目標位置‘r’和當前位置‘y’之間的誤差‘e’，并且控制器20進行控制計算，計算控制量并驅(qū)動作為設備21的VCM1。對于設備21的位置，通過對來自磁頭3的伺服信號進行解調(diào)來得到當前位置‘y’。當前位置‘y’與目標位置‘r’之間的差為位置誤差‘e’。在圖6中，作為施加到控制系統(tǒng)的擾動，將與主軸電機5的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與其不同步的分量表示為RRO、NRRO、RPE和NRPE。RRO(可重復偏轉(zhuǎn))是與旋轉(zhuǎn)同步的位置擾動分量。NRRO(不可重復偏轉(zhuǎn))是與旋轉(zhuǎn)不同步的位置擾動分量。在本發(fā)明中，將所有的擾動都以位置單位來進行考慮。例如，將施加到致動器1的風擾動表達為加速度的單位，但是在這里其被轉(zhuǎn)換成位置單位。RPE(可重復位置誤差)是進行定位控制時包含在位置誤差‘e’中的與旋轉(zhuǎn)同步的分量。NRPE(不可重復位置誤差)是進行定位控制時包含在位置誤差‘e’中的與旋轉(zhuǎn)不同步的分量。RRO和RPE表示隨著伺服扇區(qū)而不同的值。如果可以無誤差地檢查RPE，則可以正確地生成RroTable或URroTable。但是在實際條件下，必須根據(jù)觀測位置‘y’確定RPE，并且該觀測位置‘y’不但包括RPE還包括NRPE。當觀測到REP時該NRPE成為誤差。因此，為了使NRPE的影響最小，通常使用增加測量次數(shù)的方法。換言之，為了確定RPE，確定了在使用多次抽樣時測得的觀測位置‘y’的平均值，但是測量時間是有限的，因此不能完全將NRPE的影響抑制為零。實際上，當在非常短的測量時間(例如，1周旋轉(zhuǎn)或2周旋轉(zhuǎn))內(nèi)來測量RPE時，需要減少所包含的作為誤差的NRPE的影響。下面將說明生成RroTable所需的減少誤差影響的方法。用于創(chuàng)建RRO校正表的最佳增益確定方法圖7是表示本發(fā)明的頭部定位控制系統(tǒng)的第一實施例的框圖，圖8是表示本發(fā)明的盤裝置的制造步驟的流程圖，圖9是用于創(chuàng)建RroTable的殘余RRO的說明圖，圖10是表示使用圖9中的殘余RRO而進行的RRO增益最佳值計算處理的流程圖，圖11是表示RRO測量處理的流程圖，圖12是表示圖10中的NRRO測量處理的流程圖。圖7是用于當對單個盤裝置單元進行最佳值計算和校正表創(chuàng)建的情況時的框圖，并且由相同的標號來表示與圖6中相同的組成元件。換言之，由計算塊22來確定目標位置‘r’與當前(觀測)位置‘y’之間的誤差‘e’，控制器20進行控制計算，計算控制量并驅(qū)動VCM1(即設備21)。對于設備21的位置，從磁頭3解調(diào)出伺服信號，并獲取當前位置‘y’。當前位置‘y’與目標位置‘r’之間的差為位置誤差‘e’。作為施加到該控制系統(tǒng)的擾動，與主軸電機5的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與其不同步的分量由RRO、NRRO、RPE和NRPE表示。如圖13所示，RPE獲取塊26根據(jù)對于各個扇區(qū)的位置誤差‘e’獲取RPE。如稍后在圖10到圖12中所述的，定位精度測量塊24根據(jù)位置誤差‘e’測量定位精度。如圖10所示，最佳增益計算塊25計算當重復次數(shù)為M時的最佳增益。如稍后在圖13中所述的，波形計算塊27用最佳增益乘以RPE獲取塊26所獲取的RPE，來計算RPO波形。RRO表29存儲RRO波形。如隨后在圖13中所述的，加法塊28對于重復次數(shù)將RRO波形相加，并更新表29。在創(chuàng)建了RRO表29之后，在磁盤裝置工作狀態(tài)下(特別是在以下狀態(tài)下)由計算塊22，從觀測位置‘y’中減去目標位置‘r’和校正表29的RroTable表值，并生成位置誤差‘e’。據(jù)此，對于輸入控制器20的‘e’進行RRO校正。在說明最佳值(增益)計算和校正表計算之前，將參照圖8說明磁盤裝置的制造步驟。首先，裝配記錄有伺服信號的盤及其它機械組件(例如圖1中的VCM、磁頭和主軸電機)。然后，將安裝有各種電路(例如圖1中的MCU、HDC)的電子板安裝在盤裝置上。然后，針對磁頭的輸出和VCM的當前值，分別計算盤裝置的差值。然后利用校正后的磁盤裝置創(chuàng)建上述RRO校正表。然后利用RRO校正表，驅(qū)動VCM1并對于各個磁道測量并確認磁頭的定位精度。不使用不能獲得理想定位精度的磁道，并設置備選磁道。此外，進行數(shù)據(jù)記錄/再現(xiàn)測試，以檢查理想的記錄/再現(xiàn)是否可能。并將經(jīng)確認的磁盤裝置發(fā)貨到市場。下面將說明計算最佳增益值的評價函數(shù)。首先，生成RroTable(校正表)，并對于執(zhí)行了RRO校正之后的殘余RRO，考慮特定特定扇區(qū)以進行定位控制。換言之，如圖9所示，該殘余RRO是從實際RRO中減去RroTable29的RRO校正所得的結(jié)果。這里假設可以通過對觀測位置‘y’進行離散傅立葉變換(DFT)來觀測RRO+NRRO之和的值。對于N周旋轉(zhuǎn)連續(xù)觀測RRO+NRRO的波形，并測量各個扇區(qū)的平均值。假設該扇區(qū)的RRO為R0。還假設各次測量時NRRO的值改變?yōu)閚11、n12、...、n1N。此時，由以下表達式(10)給出對于N周旋轉(zhuǎn)取平均之后的RRO+NRRO的波形，即RRO推測值。R0+1/NΣi=1Nn1i...(10)]]>將該值乘以增益K，將所得結(jié)果代入RRO校正表RroTable29。(因為這是第一次測量，所以RRO校正表為“0”)。然后，利用RRO校正表進行定位控制，并由表達式(11)給出殘余RRO。R1=R0-K{R0+1/NΣi=1Nn1i}=(1-K)R0-K/NΣi=1Nn1i...(11)]]>通過這種方式，進行第二次測量，其中用加法增益K乘以該值，將所得結(jié)果加入RRO校正表29，并利用RRO校正表進行定位控制，然后由以下表達式(12)給出殘余RROR2。R2=R1-K{R1+1/NΣi=1Nn2i}]]>=(1-K)2R0-K/N{(1-K)Σi=1Nn1i+Σi=1Nn2i}...(12)]]>如果依次重復此操作，則由以下表達式(13)給出經(jīng)過M次校正之后的殘余RRORM。但是在下面的表達式中，NRRO的下標“i”由“j”代替。RM=(1-K)MR0-K/NΣi=1M{(1-K)i-1Σj=1Nnij}...(13)]]>如果在很多磁道處到觀測到各個扇區(qū)的初始RRO，即R0，則假設該R0表示正態(tài)分布。通常已知NRRO也表示正態(tài)分布。而RRO和NRRO并不相關。所以，可以獨立地考慮RRO和NRRO。換言之，可以分別處理在表達式(13)右邊的第一項的由RRO產(chǎn)生的分量，以及第二項的由NRRO產(chǎn)生的分量。對于當在許多點確定殘余RRO時的方差(variance)，分別確定與表達式(13)的第一項相對應的標準偏差以及與其第二項相對應的標準偏差，各個所得結(jié)果的平方和成為該方差。首先對于第一項的RRO，在多個磁道處測量各個扇區(qū)的Nm個RRO，并且如果測量值為R1、R2、...、RNm，則通過以下表達式(14)來確定RRO的標準偏差σrro。σRRO2=Σi=1NmRi2/(Nm-1)...(14)]]>校正之后的殘余RRO中的由RRO生成的分量遵從表達式(13)右邊的第一項，所以將多點處的RRO視為R1、R2、...、RNM，而不是右邊第一項中的R0，并且將其帶入表達式(14)中，然后可以由下面的表達式(15)來表示殘余RRORM中的由RRO生成的分量的方差(標準偏差σrro的平方)。Σi=1Nm{(1-K)MRi}2/(Nm-1)=(1-K)2MΣi=1NmRi2/(Nm-1)=(1-K)2MσRRO2...(15)]]>然后對于NRRO，假設NRRO產(chǎn)生的標準偏差為σnrro。表達式(13)右側(cè)的第二項中的nij的分布遵從該標準偏差σnrro。換言之，如果對于N個抽樣的NRRO之和由標準偏差σnrro(即該和的期望值)表示，則所得結(jié)果變成以下表達式(16)。Σi=1Nnij=(Σi=1NσNRRO2)0.5=NσNRRO...(16)]]>因此，如果使用σnrro來表示表達式(13)右邊第二項中的由NRRO所產(chǎn)生的分量的方差，則將表達式(16)帶入表達式(13)右邊的第二項中，將所得結(jié)果取平方，則由下面的表達式(17)來表示該結(jié)果。K2/N2Σi=1M{(1-K)2(i-1)(NσNRRO)2}=K2/NΣi=1M(1-K)2(i-1)σNRRO2...(17)]]>因此，利用表達式(15)和表達式(17)，可以由表達式(18)表示校正之后的殘余RRO的方差(σ的平方)。這成為用于計算RRO校正效果的評價表達式。在給定條件下，可以調(diào)整變量使得表達式(18)的值變?yōu)樽钚?。如果使用了該表達式，則可以根據(jù)RRO與NRRO的σ比值來確定最佳變量N(抽樣數(shù)量)、M(測量和校正的重復次數(shù))和K(加法增益)的組合。然后，根據(jù)表達式(18)確定使殘余RRO最小的最佳條件的代數(shù)解。首先，考慮當重復次數(shù)M為“1”的情況。在表達式(18)中，如果重復次數(shù)的值M為“1”，則表達式(18)成為下面的表達式(19)。(殘余RROσ)2＝(1-K)2σRRO2+(K2/N)σRRO2...(19)如果校正前的RRO和NRRO的各個σ的比為‘r’，并將其帶入表達式(19)，則利用比值‘r’歸一化的殘余RRO的標準偏差r[1]可以由下面的表達式(20)來表示。r2＝σRRO2/σNRRO2歸一化的殘余RRO的方差＝r[1]2＝(1-K)2r2+K2/N...(20)為了確定使殘余RRO最小的加法增益K，確定使表達式(20)對K的微分的值為“0”的條件。換言之，如果微分值為“0”，則殘余RRO為最小。因此，可以通過以下表達式(21)來獲取使殘余RRO最小的加法增益K。∂∂Kr[1]2=-2(1-K)r2+2K/N=0]]>→K=Nr2Nr2+1...(21)]]>此時，用以下表達式22代替表達式(20)中的表達式(21)來獲得表達式(20)的歸一化殘余RRO(第一次校正之后的歸一化殘余RRO)的標準偏差r[1]。r[1]2=(1-Nr2Nr2+1)2r2+(Nr2Nr2+1)21N=r2(Nr2+1)2+Nr4(Nr2+1)2=r2Nr2+1...(22)]]>從而，對于最佳增益K、歸一化的殘余RRO的方差、殘余RRO的方差、表示定位精度的殘余RRO與初始RRO的比以及RRO的減少比，可以得到以下表達式(23)中所示的相互關系。據(jù)此，如果給出了N(抽樣數(shù)量)、σrro(RRO的標準偏差)和σnrro(NRRO的標準偏差)，則唯一地確定了使殘余RRO達到最小的增益K。最佳增益K=Nr2Nr2+1]]>歸一化的殘余RRO的方差r[1]2=r2Nr2+1=KN]]>殘余RRO的方差r[1]2σNRRO2=r2Nr2+1σNRRO2=KNσNRRO2...(23)]]>殘余RRO與初始RRO的比1Nr2+1=KNr2]]>RRO減少比1-1Nr2+1=1-KNr2]]>當測量和校正的重復次數(shù)M為“1”時存在以上這些表達式，并且確定當重復次數(shù)M為2或更大時的最佳加法增益K[k]和歸一化的殘余RROr[M]。根據(jù)表達式(21)和表達式(22)，獲得以下表達式(24)。這里K[1]和K[2]是具有不同值的增益。換言之，每重復測量和校正一次，都可以對各次設置最佳加法增益K，改變加法增益K的值。K[M]=Nr2MNr2+1]]>r[M]2=K[M]N=r2MNr2+1...(24)]]>因此，當重復次數(shù)M為任意數(shù)時，像表達式(23)一樣，得到以下表達式(25)中所示的關系表達式。第M次重復的最佳增益K[M]=Nr2MNr2+1]]>第M次重復的歸一化的RRO的方差r[M]2=K[M]N=r2MNr2+1]]>第M次重復的RRO的方差r[M]2σNRRO2=K[M]NσNRRO2=r2MNr2+1σNRRO2]]>殘余RRO與初始RRO的比1MNr2+1=K[M]Nr2]]>RRO減少比1-1MNr2+1=1-K[M]Nr2...(25)]]>參照圖11和圖12，根據(jù)圖10說明最佳增益計算處理。(S10)通過使用具有圖1中所示結(jié)構(gòu)的磁盤裝置，使磁盤4旋轉(zhuǎn)，并根據(jù)磁盤4的伺服信號由圖7所示的控制系統(tǒng)對磁頭3進行磁道跟蹤控制，并且測量RRO和NRRO。如圖11所示，對于RRO的測量，將磁盤在半徑方向上分為多個區(qū)域，并將磁頭定位在各個目標區(qū)域的代表磁道中。圖7中的定位精度測量塊24對所有目標區(qū)域中的代表磁道的各個扇區(qū)中的PES(定位誤差信號(圖7中的誤差‘e’))信號進行測量。定位精度測量塊24對于各個扇區(qū)計算多個磁道的平均值，并獲取平均值作為RPE(可重復位置誤差)。如表達式(3)所示，用傳遞函數(shù)(1+CP)乘以各個扇區(qū)的RPE來計算各個扇區(qū)的RRO。同樣地，如圖12所示，對于NRRO的測量，在相對長的時間內(nèi)測量各個扇區(qū)的一個代表磁道的PES，例如磁盤的512周旋轉(zhuǎn)，并計算其平均值作為RPE。然后對于各個扇區(qū)，從所測量的PES中減去RPE，并計算各個扇區(qū)的NRPE。通過FFT(快速傅立葉變換(FastfourierTransform))計算所計算出的NRPE的功率譜，并將其分解為各個頻率。如表達式(3)所示，用傳遞函數(shù)(1+CP)乘以為各個頻率而分解的NRPE，并計算對于各個頻率的NRRO的功率譜。(S12)然后圖7中的最佳值計算塊25根據(jù)表達式(14)從所確定的各個扇區(qū)的RRO計算出RRO的標準偏差σrro。同樣地，根據(jù)表達式(16)從所確定的各個扇區(qū)的NRRO計算出NRRO的標準偏差σnrro。(S14)利用表達式(20)從RRO的標準偏差σrro以及NRRO的標準偏差σnrro計算出標準偏差σ的比‘r’，并利用表達式(21)或表達式(24)計算出最佳增益K或K[M]。這樣，利用校正后的殘余RRO作為評價目標確定評價函數(shù)，并根據(jù)該評價函數(shù)在理論上確定使殘余RRO達到最小(即使校正后的RRO達到最小)的增益。因此，可以不依賴于實驗來確定校正表創(chuàng)建增益。同時可以確保校正后的RRO的值，并可以確定制造時間和裝置規(guī)格。RRO校正表創(chuàng)建方法圖13是表示當M＝1時的RRO校正表創(chuàng)建處理的流程圖。這里假設通過圖10中的處理中所用的圖7的定位精度測量塊24和最佳值計算塊25確定了最佳增益K，并且將說明由圖7中的RPE獲取塊26和波形計算塊27進行的RRO校正表29的創(chuàng)建處理。(S20)首先，將校正表29的各個扇區(qū)q的RRO校正值RroTable(q)初始化為“0”。其中‘q’取值為0-(Ns-1)。換言之，一周旋轉(zhuǎn)中的伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns。(S22)對于磁盤4的所有N周旋轉(zhuǎn)的各個扇區(qū)K的位置誤差PES，即PES(k+i·Ns)進行測量，并計算各個扇區(qū)k的位置誤差PES的平均值RPE(k)。換言之，這里假設該扇區(qū)的指針為‘k’，在旋轉(zhuǎn)一周中伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns，則‘i’為旋轉(zhuǎn)周數(shù)(第1周、第2周、...、第N周)。因此，在圖13中的表達式中，確定同一扇區(qū)k的各周旋轉(zhuǎn)的位置誤差之和，即PES(k+i·Ns)，并除以所測量的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N，來獲得平均值。(S24)然后，對最初觀測到的RPE波形進行DFT。如果在旋轉(zhuǎn)一周中的伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns，則根據(jù)抽樣定理此時必須考慮的RRO次數(shù)為1到(Ns/2-1)。為了對于RRO頻率的m次進行DFT，分別將cos和sin的系數(shù)的m次表示為C(m)和S(m)，并且用cos波形和sin波形的m次方乘以RPE波形從扇區(qū)No.0到No.(Ns-1)的一周旋轉(zhuǎn)，并相加。換言之，計算出表達式(26)。C(m)=Σk=0NS-1{RPE(k)·cos(2πmk/NS)}]]>S(m)=Σk=0NS-1{RPE}(k)·sin(2πmk/NS)...(26)]]>m＝1，2，...，(NS/2-1)(S26)然后，為了確定Rro(或Urro)，對于各個RRO次數(shù)乘以傳遞函數(shù)。將要相乘的頻率特性(RRO頻率的m次的復數(shù)值)預先確定為a(m)+jb(m)。具體地，通過表達式(5)或表達式(7)中所示的傳遞函數(shù)來確定該頻率的m次的復數(shù)值。通過乘以這些特性，可以利用復數(shù)值以表達式(27)來表示分量的m次。即，根據(jù)C(m)、S(m)、a(m)和b(m)來確定C2(m)和S2(m)。C2(m)＝C(m)a(m)-S(m)b(m)S2(m)＝C(m)b(m)+S(m)a(m)...(27)m＝1，2，...，(NS/2-1)(S28)然后，進行逆DFT并獲取要確定的波形。從第1次到第(Ns/2-1)次進行m次計算。當生成RroTable時，通過以下表達式(28)來確定(同樣的表達式還用于生成隨后所述的URroTable)第q個扇區(qū)的RRO波形RRO(q)。RRO(q)=Σm=1NS/2-1{C2(m)cos(2πmq/NS)+S2(m)sin(2πmq/NS)}·2NS...(28)]]>q＝0，1，...，(NS-1)(S30)最后，用上述最佳增益K乘以所確定的RRO(q)，并將其存儲在校正表29的RroTable(q)中，處理結(jié)束。下面說明測量和校正的(重復)次數(shù)M為2或更大時的情況。圖14是表示當M為2或更大時的RRO校正表創(chuàng)建處理的流程圖。還假設在圖10中的處理中，通過圖7中的定位精度測量塊24和最佳值計算塊25來確定最佳增益K(M)，并且將說明由圖7中的RPE獲取塊26和波形計算塊27進行的RRO校正表29的創(chuàng)建處理。(S40)將測量和校正計數(shù)值CountM初始化為“0”。(S42)首先，如圖13所示，將校正表29的各個扇區(qū)q的RRO校正值RroTable(q)初始化為“0”。這里的‘q’為0到(Ns-1)范圍內(nèi)的值。換言之，在一周旋轉(zhuǎn)中的伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns。(S44)測量磁盤4的所有N周旋轉(zhuǎn)的各個扇區(qū)k的位置誤差PES，即PES(k+i·Ns)，并計算各個扇區(qū)k的位置誤差PES的平均值RPE(k)。換言之，這里假設扇區(qū)的指針為k，則在一周旋轉(zhuǎn)中的伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns，‘i’為旋轉(zhuǎn)周數(shù)(第1周、第2周、...、第N周)。因此，在圖14中的表達式中，確定了同一扇區(qū)k的各周旋轉(zhuǎn)的位置誤差之和，即PES(k+i·Ns)，并將其除以測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)N，以獲得平均值。(S46)然后，對于最初觀測到的RPE波形進行DFT。如果在一周旋轉(zhuǎn)中的伺服扇區(qū)的數(shù)量為Ns，則根據(jù)抽樣定理RRO次數(shù)為1到(Ns/2-1)。為了對于RRO頻率的m次進行DFT，分別將cos和sin的系數(shù)的m次表示為C(m)和S(m)，用cos波形和sin波形的m次方乘以從扇區(qū)No.0到No.(Ns-1)的一周旋轉(zhuǎn)的RPE波形，并相加。換言之，計算出上述表達式(26)。(S48)然后為了確定Rro(或URro)，對于各個RRO次數(shù)乘以傳遞函數(shù)。將要相乘的頻率特性(RRO頻率的m次的復數(shù)值)預先確定為(m)+jb(m)。具體地，通過表達式(5)或表達式(7)中示出的傳遞函數(shù)來確定該頻率的m次的復數(shù)值。通過乘以這些特性，可以利用復數(shù)值通過上述表達式(27)來表達分量的m次。即，根據(jù)C(m)、S(m)、a(m)和b(m)確定C2(m)和S2(m)。(S50)然后進行逆DFT，并獲取要確定的波形。從第1次到第(Ns/2-1)次，進行m次計算。當生成RroTable時，通過上述表達式(28)(相同的表達式還用于生成后述的URroTable)確定該扇區(qū)的第q個RRO波形RRO(q)。(S52)然后，由上述最佳增益K(CountM)乘以所確定的RRO(q)，然后將所得結(jié)果加入校正表29的RroTable(q)，并存儲所加入的值。將測量和校正計數(shù)值CountM加1。(S54)判斷測量和校正計數(shù)值CountM是否為“M”或更大。如果計數(shù)值CountM沒有超過“M”，則處理返回到步驟S44。如果計數(shù)值CountM為“M”或更大，則完成了M次測量和校正，從而結(jié)束校正表創(chuàng)建處理。下面說明示例。圖15和圖16分別表示當橫坐標為加法增益K并且當該加法增益發(fā)生變化時，RPE、RRO和RPE+RRO的殘余比的測量結(jié)果與RRO的殘余比的模擬的比較。圖15表示當用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N＝1并且重復次數(shù)M＝1時的實驗結(jié)果(圓圈)和模擬結(jié)果(虛線)，上部的曲線圖是RPE的殘余率(殘余RPE/初始RPE)的實驗結(jié)果，中間的曲線圖是RRO的殘余率(殘余RRO/初始RRO)的實驗結(jié)果和模擬結(jié)果，而下部的曲線圖表示RPE+RRO的殘余率的實驗結(jié)果。對于實驗，使用了圖1中的實際的盤裝置，利用橫坐標所示的各個加法增益K通過圖7中的控制系統(tǒng)來創(chuàng)建校正表29，當如圖7所示利用校正表29對位置誤差‘e’進行校正時，對致動器1進行控制，并觀測到觀測位置‘y’，并且確定殘余RPE、殘余RRO和殘余RPE+RRO。另一方面，對于模擬，利用橫坐標示出的各個加法增益K，通過表達式(23)來計算RRO殘余率。圖16表示當用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N＝8并且重復次數(shù)M＝1時的實驗結(jié)果(圓圈)和模擬結(jié)果(虛線)，并且上部的曲線圖是RPE的殘余率(殘余RPE/初始RPE)的實驗結(jié)果，中間的曲線圖是RRO的殘余率(殘余RRO/初始RRO)的實驗結(jié)果和模擬結(jié)果，下部的曲線圖是RPE+RRO的殘余率的實驗結(jié)果。該模擬結(jié)果和實驗結(jié)果與圖15中的相同。如圖15和圖16所示，通過實驗確認對于實驗結(jié)果(圓圈)和模擬結(jié)果(虛線)，使RRO殘余率達到最小的加法增益大致相同，換言之，實驗確認理論表達式(23)是正確的。圖17和圖18是表示當在不同條件下(用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N×重復次數(shù)M)設置最佳增益時，RRO殘余率在模擬結(jié)果與實驗結(jié)果之間的比較的曲線圖。在圖17和圖18中，橫坐標為加法增益，并且將在用于取平均值的平均旋轉(zhuǎn)周數(shù)N×重復次數(shù)M相同的條件下的RRO殘余率的點用線連接起來。圖18是在實際測量的最佳增益處的RRO殘余率的關系圖，并且像圖15和圖16一樣，通過實驗確定使RRO殘余率達到最小的增益。圖17是RRO殘余率模擬結(jié)果與所計算出的最佳增益的關系圖。這是對于用于取平均值的平均旋轉(zhuǎn)周數(shù)N×重復次數(shù)M的各個值，當根據(jù)表達式(24)來計算最佳加法增益K時的結(jié)果，并且根據(jù)表達式(25)來模擬RRO殘余率。在圖17中，在σnrro/σrro＝1.15的條件下進行計算。圖17中的RRO殘余率的特性與圖18中的RRO殘余率的特性完全相似。換言之，實驗證明理論表達式(24)是正確的。這樣，通過利用校正之后的殘余RRO作為評價目標來確定評價函數(shù)，并且通過利用該評價函數(shù)，由圖10來確定使殘余RRO達到最小(即使校正后的RRO達到最小)的增益K和K(CountM)，并且根據(jù)圖13和圖14來創(chuàng)建校正表。因此，在不依賴于實驗的情況下，確定了校正表創(chuàng)建增益，該增益對于創(chuàng)建時間和裝置規(guī)格都是最佳的，并且據(jù)此，可以創(chuàng)建校正表。此外，可以確保校正之后的RRO的值，并可以確定制造時間和裝置規(guī)格。另一種RRO校正表創(chuàng)建方法圖19是表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的RRO校正表創(chuàng)建系統(tǒng)的框圖。在圖19中，用相同標號來表示與圖7中相同的組成元件，與圖7的不同之處在于最佳增益計算處理25(圖10)是通過與盤裝置相連的外部設備(例如個人計算機)50來執(zhí)行的，并且將所得結(jié)果設置在盤裝置的增益表30中。如果使用這種結(jié)構(gòu)，則利用外部設備50來計算加法增益，從而可以降低盤裝置中的MCU14的負擔，并且可以高速地計算加法增益。圖20是表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的RRO校正表創(chuàng)建系統(tǒng)的框圖。在圖20中，用相同標號來表示與圖7中相同的組成元件，并且與圖7的不同之處在于由與盤裝置相連的外部設備(例如個人計算機)50來執(zhí)行定位精度測量處理24、最佳增益計算處理25(圖10到圖12)、RPE獲取處理26(圖13)和波形計算處理27(圖13)，并且將所得結(jié)果設置在盤裝置的RRO校正表29中。當使用這種結(jié)構(gòu)時，計算RRO校正表29的表值，從而可以進一步降低盤裝置的MCU14的負擔，并且可以高速地計算表值。此外，在盤裝置出廠之后，在該盤裝置中不必具有校正表創(chuàng)建處理程序，從而可以取消將程序加載到盤裝置上所需的時間。對于同一批中的多個盤裝置，可以在圖19或圖20的結(jié)構(gòu)中創(chuàng)建代表盤裝置的校正表29，并將該表復制到其它盤裝置。這可以進一步減少制造時間。URRO校正表創(chuàng)建方法上述各種表達式都是關于RroTable。但是，對于當前波形URroTable，也可以采用相同方式來討論有關噪聲的問題。換言之，可以根據(jù)隨后提到的關系式將RroTable轉(zhuǎn)換成URroTable。生成當前波形URroTable，從而致動器的軌跡與RRO匹配。圖21是表示當對于單個盤裝置單元進行最佳值計算和URro校正表創(chuàng)建的情況下的框圖，其中由相同的標號來表示與圖6和圖7中相同的組成元件。換言之，計算塊22確定目標位置‘r’和當前(觀測)位置‘y’之間的誤差‘e’，控制器20進行控制計算并計算控制量，加法塊30將URro校正表36的URro校正值相加，并驅(qū)動VCM1(設備21)。對于設備21的位置，解調(diào)出來自磁頭3的伺服信號，并獲取當前位置‘y’。當前位置‘y’和目標位置‘r’之間的差為位置誤差‘e’。作為要施加到該控制系統(tǒng)的外部擾動，將與主軸電機5的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與其不同步的分量表示為RRO、NRRO、RPE和NRPE。如圖13所示，RPE獲取塊26根據(jù)對于各個扇區(qū)的位置誤差‘e’獲取RPE。如圖10到12所示，定位精度測量塊24根據(jù)位置誤差‘e’測量定位精度。如圖10所示，最佳增益計算塊25計算當重復次數(shù)為M時的最佳增益。如圖13所述，波形計算塊27用最佳增益乘以RPE獲取塊26所獲取的RPE，來計算RRO波形。URRO表36存儲URRO波形。如圖13所述，加法塊28對于重復次數(shù)將URRO波形相加，并更新表36。在創(chuàng)建了URRO表36之后，計算塊33將校正表36中的URroTable加入控制器20的控制量中，并生成控制量‘u’。據(jù)此，對于控制器20的輸出執(zhí)行URRO校正。圖22是表示URroTable值與殘余RRO的說明圖。根據(jù)上述表達式(7)，通過靈敏度函數(shù)的逆特性(1+C(z)·P(z))以及設備的逆特性(1/P(z))對于RPE確定URroTable值。因此，殘余RRO是實際RRO，從該殘余RRO中減去由塊34通過(1+C(z)·P(z)/P(z))獲得的值，作為URroTable36的URRO校正值。根據(jù)表達式(5)，通過靈敏度函數(shù)的逆特性(1+C(z)·P(z))，對于RPE確定RroTable值，從而通過以下表達式(29)來獲取URroTable值。URroTable＝(-1/P(Z))·RroTable...(29)換言之，對于RRO的情況，該評價函數(shù)與表達式(18)相同，但是波形計算塊27根據(jù)表達式(29)的關系式將RroTable值轉(zhuǎn)換成URroTable，從而獲得URro校正表36。圖23是表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的URRO校正表創(chuàng)建系統(tǒng)的框圖。在圖23中，用相同的標號來表示與圖7和圖21中相同的組成元件，與圖21的不同之處在于通過與盤裝置相連的外部設備(例如個人計算機)50來執(zhí)行最佳增益計算處理25(圖21)，并將所得結(jié)果設置在盤裝置的增益表30中。當采用該結(jié)構(gòu)時，利用外部設備50計算加法增益，從而減輕了盤裝置的MCU14的負擔，并且可以高速地計算加法增益。圖24是表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的URRO校正表創(chuàng)建系統(tǒng)的框圖。在圖24中，用相同的標號來表示與圖7和圖21中相同的組成元件，與圖21的不同之處在于通過與盤裝置相連的外部設備(例如個人計算機)50來執(zhí)行定位精度測量處理24、最佳增益計算處理25(圖10到圖12)、RPE獲取處理26(圖13)和波形計算處理27(圖13)，并且將所得結(jié)果設置在盤裝置的URRO校正表36中。當使用這種結(jié)構(gòu)時，通過使用外部設備50來計算URRO校正表36的表值，從而可以進一步減少盤裝置的MCU14的負擔，并且可以高速地計算表值。此外，不必在盤裝置出廠之后，在該盤裝置中不必具有校正表創(chuàng)建處理程序，從而可以取消將該程序加載到盤裝置上所需的時間。對于同一批中的多個盤裝置，可以在圖23或圖24的結(jié)構(gòu)中創(chuàng)建代表盤裝置的校正表36，并將其復制到其它盤裝置。這可以進一步減少制造時間。考慮頻率特性的另一種RRO校正表創(chuàng)建方法上述實施例是用最佳增益K乘以所推定的RRO波形并將所得結(jié)果加入RroTable的方法。換言之，對于所有頻率區(qū)域乘以一個統(tǒng)一的增益K，而不考慮RRO和NRRO的頻率特性。但是在實際盤裝置中，RRO和NRRO的頻率特性是不同的。換言之，RRO與NRRO的比根據(jù)頻率而不同。因此，對于RRO的各個次數(shù)，確定RRO的σ和NRRO的σ，并且根據(jù)上述表達式(21)或(24)從該比值可以確定最佳增益K。圖25是表示本發(fā)明第二實施例的最佳增益計算處理的流程圖。在本說明書中，假設RRO的次數(shù)為m，并且根據(jù)奈奎斯特定理(Nyquisttheorem)m＝1到Ns/2。(S60)首先，如圖10中的步驟S10，確定RRO的功率譜。RRO的功率譜以一個區(qū)域中的多個磁道為目標。并不是對于這種小量的磁道(如“2”個或“4”個)確定RRO，而是對于數(shù)十個或數(shù)百個磁道來確定。可以通過靈敏度函數(shù)的逆特性乘以RPE來確定RRO波形。或者可以在各個磁道中，經(jīng)過充分的時間來生成不跟從RRO的波形。在通過這種方式確定了各個磁道的RRO之后，將所有RRO波形排成一列，并確定功率譜。(S62)然后，確定NRRO的功率譜。與圖12一樣，通過FFT分析儀來觀測位置誤差‘e’，并確定RPE+NRPE的功率譜，然后從該結(jié)果中減去RPE，以確定NRPE。并且用靈敏度函數(shù)的逆特性乘以該結(jié)果。或者可以經(jīng)過充分的時間來生成忽略了RRO的軌跡RroTable，并且可以在將位置誤差‘e’中的RPE抑制到幾乎為零之后，確定NRPE的功率譜。(S64)然后將RRO次數(shù)m初始化為“1”。(S66)然后用DFT計算的頻率特性乘以RRO和NRRO的功率譜。在DFT計算中，如表達式(26)中所示來乘以sin和cos。確定目標次數(shù)m，并在要觀測的頻率區(qū)域的每一預定頻率間隔(即，0Hz到(抽樣頻率/2))處提供信號，并且確定DFT的輸出特性RRO的功率譜PowerRro(m)和NRRO的功率譜PowerNrro(m)。這些成為DFT計算的檢測特性的頻率特性。圖26表示DFT計算的頻率特性的一個示例。在圖27中，用實線表示根據(jù)圖26中的頻率特性的NRRO的功率譜，并且用圓圈表示對于各個RRO次數(shù)的NRRO功率譜。在圖28中，用實線表示RRO的功率譜，圓圈表示對于各個RRO次數(shù)的RRO功率譜。在圖29中，圖27和圖28中的對于各個RRO次數(shù)的RRO功率譜和NRRO功率譜在同一曲線圖中相交疊。在該示例中，功率譜基于1次到4次的RRO。這樣，NRRO的功率譜和RRO的功率譜是對于各個RRO次數(shù)確定的。(S68)比較這兩個功率譜，對于各個RRO次數(shù)確定RRO的σ與NRRO的σ的比r(m)。(S70)將該比r(m)施加到上述最佳條件表達式(21)或(24)，計算出各個RRO次數(shù)的最佳增益Krro(m)或Krro(M，m)。圖30是表示相對于各個RRO次數(shù)的最佳增益特性的曲線圖。在本示例中，用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N＝1，重復次數(shù)M＝1。如圖30中的下面的曲線所示，還可以確定對于各個RRO次數(shù)的經(jīng)RRO校正之后的RRO殘余率。根據(jù)該殘余率和初始RRO功率譜，可以確定對于所有頻率的校正之前和之后的RRO的殘余率。(S72)如上所述，使RRO次數(shù)m加“1”，并且判斷RRO次數(shù)m是否為可觀測的奈奎斯特頻率(Ns/2)或更大。如果RRO次數(shù)m不大于(Ns/2)，則處理返回到步驟S66，并且計算圖27到圖30中所述的各個RRO次數(shù)的最佳增益Krro(m)或Krro(M，m)。如果RRO次數(shù)m為可觀測的奈奎斯特頻率(Ns/2)或更大，則處理結(jié)束。如上所述，可以確定對于各個RRO次數(shù)的增益。并且可以將該增益應用于通過使用DFT和逆DFT來計算Rro或URro的傳統(tǒng)方法。例如，考慮到RRO次數(shù)，圖13中的表達式(28)轉(zhuǎn)變?yōu)橐韵卤磉_式(30)RRO(q)=Σm=1NS/2-1{C2(m)cos(3πmq/NS)+S2(m)sin(2πmq/NS)}·Krro(m)...(30)]]>在這種情況下，在圖13中，將步驟30中的增益K視為“1”來計算RroTable(q)。下面將說明多個示例。圖31是在圖1的盤裝置的在RRO校正之前和之后的RPE波形圖。對于上述各個頻率使用改變加法增益Krro(m)的RRO校正方法。在圖31中，從頂部開始依次示出了索引信號、校正前的RPE波形和校正后的RPE波形。這里，用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N＝1，重復次數(shù)M＝1。在本示例中，在中心附近觀測到了RPE波形中的跳躍。但是，在RRO校正之后可以有效去除該跳躍。圖32的表示出了對于所有頻率設置統(tǒng)一加法增益的方法以及對于各個RRO次數(shù)改變加法增益的方法的比較。對于三個值RPE、RRO和RPE+RRO確定校正前/后的比(殘余率)。對于這些條件，重復次數(shù)M＝1，使用了6種用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N“1”、“2”、“3”、“4”、“6”和“8”。在對于所有頻率設置統(tǒng)一加法增益的方法中，如圖15和圖16所示，在改變加法增益K的同時確定要最小化的殘余率。例如，在圖15中的N＝1和M＝1的情況下，在K＝0.70處RPE的殘余率為最小值0.57，在K＝0.45處RRO的殘余率為最小值0.734，在K＝0.80處RPE+RRO的殘余率為最小值0.488。同樣，在圖16中的N＝8和M＝1的情況下，在K＝0.95處RPE的殘余率為最小值0.247，在K＝0.85處RRO殘余率為最小值0.392，在K＝1.00處RPE+RRO的殘余率為最小值0.208。換言之，對于RPE、RRO和RPE+RRO，使殘余率達到最小的最佳增益完全不同。另一方面，在對于各個RRO次數(shù)改變加法增益的方法的情況下，在相同條件下對于所有RPE、RRO和RPE+RRO測量值。如圖32中的殘余率的值所示，與對于所有頻率設置統(tǒng)一加法增益的方法中的殘余率相比，對于各個RRO次數(shù)改變加法增益的方法中的殘余率要更小。然后，確定盤的整個表面上的RRO校正的效果。圖33表示RRO校正之前的結(jié)果，而圖34表示RRO校正之后的結(jié)果。在本示例中，RRO校正條件為對于各個RRO次數(shù)使加法增益最佳化，用于取平均值的旋轉(zhuǎn)周數(shù)N＝3，重復次數(shù)M＝1。此外，使盤一面上的最外磁道處的加法增益最佳，并將結(jié)果應用到盤的整個表面上。以磁道數(shù)量為單位，確定校正前和校正后的各個磁道的RPE，對于32周旋轉(zhuǎn)取平均值。使用增益的絕對值最大值作為磁道的代表值，對于所有磁道確定該值。圖33和圖34中的上部的曲線圖是表示為直方圖的對于各個RPE的點數(shù)(磁道數(shù))。中間的曲線圖示出了表示各個RPE的確立值的概率分布，下部的曲線圖表示log10(1-中間曲線圖的概率值)＝誤差率。在進行圖34中的RRO校正的情況下，與圖33中的RRO校正前的狀態(tài)相比，RPE值和誤差率總體上都有了顯著增加。這樣，即使通過非常小的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)，如3周，也可以有效地實現(xiàn)RRO校正?？紤]軌道之間相關性的另一種RRO校正表創(chuàng)建方法上述方法基于如下假設在盤的磁道之間不存在相關性。然而，在某些情況下，磁道之間的RRO的相關性可能增加。例如，當盤機械變形時，除了在盤表面的一點處或各個區(qū)域中確定Rro校正值的方法外，還需要一些改進。通過以上考慮，將說明支持該狀態(tài)的一個實施例。換言之，在各個磁道中創(chuàng)建RroTable值。圖35是表示考慮磁道之間的相關性的RRO校正表創(chuàng)建處理的流程圖，而圖36和圖37表示處理流程。(S80)如圖36所示，將具有同一磁頭的盤4分為多個區(qū)域Z1、Z2和Z3。首先，在該區(qū)域內(nèi)創(chuàng)建共用RRO校正值。換言之，將目標磁頭移動到盤4的目標區(qū)域，并將RroTable值初始化為“0”。確定該區(qū)域內(nèi)的抽樣目標磁道的平均RPE波形，并計算該區(qū)域的平均RRO校正波形RroZone，將對于所有頻率統(tǒng)一的加法增益設為“1”。(S82)然后，利用RroZone作為初始值，將磁頭定位在該區(qū)域的測量點上(例如各個磁道)，并且將RroZone值存儲在圖37所示的RroTable29中。(S84)如上所述，對于特定旋轉(zhuǎn)周數(shù)N，測量移動后的當前磁道的位置誤差‘e’，并計算RPE。如圖25所述，對于各個頻率設置不同的加法增益，并通過表達式(30)計算RRO校正波形Rro(q)。如圖37所示，將當前磁道的Rro校正值存儲在RroTable29中。在磁頭3以MR磁頭作為讀取元件的示例中，除了寫入元件，還使用了旋轉(zhuǎn)致動器，并且寫入元件和讀取元件對于該磁道的位置也是不同的。因此在圖37中的RroTable29中，測量讀取元件的RRO值并存儲為RRO(R)，而獨立于寫入元件的RRO值(即RRO(W))。(S86)然后，判斷是否測量了該區(qū)域內(nèi)的所有的測量點。如果沒有測量該區(qū)域內(nèi)的所有的測量點，則將磁頭移動到下一測量點，并且處理返回到步驟S84。如果已經(jīng)測量了該區(qū)域內(nèi)的所有的測量點，則結(jié)束該區(qū)域中的RroTable的創(chuàng)建。對于圖36中所示的分割區(qū)域的數(shù)量重復進行此操作，并創(chuàng)建圖37中的RroTable29。這樣，將具有同一磁頭的磁盤4分為多個區(qū)域，并且首先計算該區(qū)域中的共用RRO校正值，并通過將對于所有頻率統(tǒng)一的加法增益設為“1”，計算區(qū)域平均RRO校正波形RroZone。然后使用該RroZone作為初始值，將磁頭移動到該區(qū)域(例如各個磁道)中的測量點，并對于特定旋轉(zhuǎn)周數(shù)N進行測量，計算RPE，并且根據(jù)該頻率設置不同的加法增益，并通過表達式(30)測量RRO校正波形Rro(q)。因此，當多個磁道之間的RRO相關性較高時，例如當磁盤機械變形時，可以測量各個磁道中的測量點的Rro校正值，并且即使在這種狀態(tài)下也可以進行準確的RRO校正。利用RRO校正表的伺服磁道寫入方法下面將說明利用上述所創(chuàng)建的校正表的一個實施例。第一實施例用于制造圖8中所述的盤裝置。將外部記錄有伺服信號的盤安裝在盤裝置中，并對于各個讀取和寫入位置創(chuàng)建用于所有磁道的校正表?；蛘叨鄠€磁道可以構(gòu)成一個區(qū)域，并可以對該區(qū)域內(nèi)的相同分量進行校正。當將伺服信號記錄在盤裝置中時采用第二實施例。圖38是對此進行說明的圖。伺服信號記錄方法是一種自伺服寫入方法。如圖38所示，在盤4的邊緣(在此情況下為外磁道)處以預定進送寬度記錄幾個磁道的伺服信號SV1。然后，根據(jù)這些伺服信號SV1，將伺服信號SV2記錄在盤4上的沒有記錄伺服信號的區(qū)域中。當將伺服信號SV1記錄在盤4的邊緣(在此情況下為外邊緣)時，測量RRO校正值，并利用該RRO校正值，基于伺服信號SV1，將伺服信號SV2記錄在盤4上的沒有記錄伺服信號的區(qū)域中。并且，對于所有磁道測量RRO校正值，并創(chuàng)建RroTable29。第三實施例用于稱為復制STW或重寫STW的伺服信號記錄方法。圖39是伺服磁道寫入方法的說明圖。如圖39所示，將伺服信號預先記錄在盤4-1的至少一面的整個表面上，并且將記錄有伺服信號的盤4-1以及沒有記錄伺服信號的盤4-2安裝在盤裝置上。并且，在利用盤4-1的一面上的伺服信號進行定位控制的同時，測量RRO校正表，并利用該RRO校正值，將伺服信號記錄在未記錄有伺服信號的一面上(盤4-1的背面和盤4-2)。通過測量所有磁道的RRO校正值來創(chuàng)建RroTable29。在這種情況下，利用RRO校正值，可以從開始就將伺服信號重寫在記錄有伺服信號的盤4-1的一面上，并可以在以后刪除初始伺服信號。第四實施例用于盤裝置出廠之后。當伺服信號達到了不同于制造過程的狀態(tài)(例如由于機械變形而引起偏心或者由于介質(zhì)刮痕而引起伺服信號丟失的情況)時，使用第四實施例來生成跟從或不跟從RRO的信號。這使得可以通過較少旋轉(zhuǎn)周數(shù)實現(xiàn)高精度校正。圖40是示出該校正表重寫方法的流程圖。(S90)盤裝置的MCU14判斷定位精度是否出現(xiàn)異常。例如，當即使在利用上述RRO校正表29進行了定位控制之后，磁頭仍沒有被放置在目標磁道中心(位置誤差大于偏道標準值)時，進行重試。如果即使在幾次重試之后磁頭仍不未能被放置在目標磁道中心，則判定定位精度異常。(S92)如果判定定位精度異常，則判斷是否可以通過RRO校正進行恢復。例如，如果磁頭檢測能力下降，則即使進行RRO校正也不能進行恢復。如果判定可以通過RRO校正進行恢復，則MCU14如上所述測量RRO校正值。(S94)然后通過將RRO校正值測量結(jié)果與當前RRO校正表29的校正值進行比較，來判斷RRO校正表29的重寫是否有效。例如，如果RRO校正值測量結(jié)果與當前RRO校正表29的校正值差異不是很大，則即使對校正表29進行重寫也不能提高定位精度，從而處理結(jié)束。如果RRO校正值測量結(jié)果與當前RRO校正表29的校正值不同，則通過重寫校正表29來提高定位精度。從而重寫校正表29，處理結(jié)束。這樣，當伺服信號到達不同于制造過程中的狀態(tài)時，如由于機械變形而產(chǎn)生偏心或者由于介質(zhì)刮痕而引起伺服信號丟失的情況，可以將伺服信號重寫為跟從或不跟從RRO的信號，這有助于提高定位精度。其它實施例存在一些可以記錄上述校正數(shù)據(jù)(表)的可能位置。如圖41所示，可以將校正數(shù)據(jù)RroTable(q)加到各個扇區(qū)的伺服信號的結(jié)尾?；蛘呖梢詫⑿Ｕ龜?shù)據(jù)記錄在不用于記錄/再現(xiàn)數(shù)據(jù)的盤4介質(zhì)上的具體區(qū)域中。此外，可以將校正數(shù)據(jù)預先記錄在盤裝置的電子電路上的非易失性存儲器中。在這三個記錄位置中，當校正所有獨立磁道時第一或第二方法是有效的。如果只校正定位波動較大的磁道，即校正數(shù)據(jù)量較小，則可以使用第三方法(非易失性存儲器)。當盤裝置的盤是固定的時，上述方法有效。即，當介質(zhì)是不可替換的時。即使在盤被固定在磁盤裝置(如磁轉(zhuǎn)寫設備或構(gòu)圖介質(zhì)(patternedmedia))中的情況下，如果利用共用模具(die)形成介質(zhì)上的伺服信號，則可以測量根據(jù)模具創(chuàng)建精度而確定的共用RRO，并將該盤用作介質(zhì)。將盤裝置作為磁盤裝置來說明，但是本發(fā)明也可以應用于其它盤介質(zhì)，例如光盤裝置和磁光盤裝置。同樣地，使用RRO來說明圖25到圖41中的實施例，但是本發(fā)明也可以應用于圖21到圖24所述的URRO。利用這些實施例說明了本發(fā)明，但是可以在本發(fā)明的主要特征的范圍內(nèi)對本發(fā)明進行各種改進，這些改進應該不被排除在本發(fā)明的范圍之外。由于根據(jù)位置信號中與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比來使用調(diào)整增益，所以可以利用確定校正后的RRO的表達式來在理論上確定使校正后的RRO達到最小的增益。因此，可以不依賴于實驗來確定增益，可以確保校正之后的RRO的值，并可以確定制造時間和裝置規(guī)格。因此，可以在更短時間內(nèi)制造需要進行旋轉(zhuǎn)同步校正的盤裝置，并可以低成本地實現(xiàn)適于大批量生產(chǎn)的盤裝置。權(quán)利要求1.一種用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，其用于創(chuàng)建用于對與盤裝置的盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量進行校正的多個校正值，所述盤裝置通過使用的所述盤的位置信號來控制至少用于對所述盤的信息進行讀取的頭部的位置，所述方法包括以下步驟根據(jù)所述位置信號的平均波形，來測量與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量；利用基于所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來校正所述測得的位置誤差分量；并且將所述經(jīng)校正的位置誤差分量存儲在所述校正表中。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，其中所述校正步驟還包括如下步驟利用基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量和與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來對所述測得的位置誤差分量進行校正。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，還包括如下步驟對所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布、以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布進行測量；并且基于所述同步分量的正態(tài)分布與所述不同步分量的正態(tài)分布之間的比，來計算所述經(jīng)調(diào)整的增益。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，其中所述校正步驟還包括如下步驟利用用于各次重復的增益，對于各次重復，對所述測得的位置誤差分量進行校正，所述增益是基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，其中所述校正步驟還包括如下步驟利用通過確定所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的比而獲得的經(jīng)調(diào)整的增益，來對于作為所述盤的旋轉(zhuǎn)頻率的倍數(shù)的各個頻率，校正所述測得的位置誤差分量。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法，其中在所述存儲步驟中，殘余RROσ遵從以下表達式(18)，所述殘余RROσ是通過存儲在所述校正表中的校正值校正過的所述與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布，其中，與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布為σRRO，與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布為σNRRO，所述測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)為N，所述重復次數(shù)為M，所述增益為K。7.一種頭部位置控制方法，其利用通過與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量來校正所述盤的位置信號而獲得的信號，對至少對所述盤的信息進行讀取的頭部的位置進行控制，所述方法包括以下步驟基于來自所述頭部的所述位置信號，來計算目標位置與當前位置之間的誤差；從用于存儲所述校正信號的校正表中讀取校正信號，所述校正信號是通過如下步驟獲得的根據(jù)所述位置信號的平均波形來測量與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量，并且利用基于所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來對所述測得的位置誤差分量進行校正；以及基于所述位置誤差和所述校正信號來控制所述頭部位置。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，其中所述讀取步驟還包括如下步驟從通過利用增益來對所述測得的位置誤差分量進行校正而獲得的校正表中，讀取所述校正信號，所述增益是基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，還包括如下步驟對所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布進行測量；以及基于所述同步分量的正態(tài)分布與所述不同步分量的正態(tài)分布之間的比，來計算所述經(jīng)調(diào)整的增益。10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，其中所述讀取步驟還包括從所述校正表中讀取所述校正信號的步驟，其中所述校正表是通過利用用于各次重復的增益來對于各次所述重復校正所述測得的位置誤差分量而獲取的，所述增益是基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的。11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，其中所述讀取步驟還包括從所述校正表讀取所述校正信號的步驟，所述校正表是通過如下步驟獲取的利用通過確定所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間幅值之比而獲得的經(jīng)調(diào)整的增益，來對于作為所述盤的旋轉(zhuǎn)頻率的倍數(shù)的各個頻率，校正所述測得的位置誤差分量。12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的頭部位置控制方法，其中在所述讀取步驟中，殘余RROσ遵從以下表達式(18)，所述殘余RROσ是通過存儲在所述校正表中的所述校正值校正過的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布，其中，與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布為σRRO，與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布為σNRRO，所述測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)為N，所述重復次數(shù)為M，所述增益為K。13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，其中所述位置控制步驟還包括如下步驟從所述位置誤差中減去所述校正信號，并根據(jù)所述被減后的位置誤差來生成所述頭部位置控制信號。14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的頭部位置控制方法，其中所述位置控制步驟還包括以下步驟從根據(jù)所述位置誤差而獲取的所述頭部位置控制信號中，減去所述校正信號，以控制所述頭部位置。15.一種盤裝置，包括頭部，用于至少對盤的信息進行讀??；致動器，用于將所述頭部移動到所述盤上的期望位置；校正表，用于存儲通過如下步驟獲取的校正信號根據(jù)來自所述頭部的位置信號的平均波形來測量與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的位置誤差分量，并利用基于所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來對所測得的位置誤差分量進行校正；以及控制單元，用于基于來自所述頭部的所述位置信號，來計算目標位置和當前位置之間的誤差，并基于所述位置誤差和所述校正信號來控制所述頭部位置。16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述校正表存儲通過如下步驟獲得的所述校正信號利用基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益，來校正所述測得的位置誤差分量。17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述控制單元測量所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布，并且基于所述同步分量的正態(tài)分布與所述不同步分量的正態(tài)分布之間的比，來計算所述經(jīng)調(diào)整的增益。18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述校正表存儲通過利用用于各次重復的增益來對于各次重復校正所測得的位置誤差分量而獲取的所述校正信號，所述增益是基于用于對所述位置信號取平均值的測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)、所述校正的重復次數(shù)、以及所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的。19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述校正表存儲通過如下步驟獲取的所述校正信號利用通過確定所述位置信號中的與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而獲得的經(jīng)調(diào)整的增益，來對于作為所述盤的旋轉(zhuǎn)頻率的倍數(shù)的各個頻率，校正所述測得的位置誤差。20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的盤裝置，其中殘余RROσ遵從以下表達式(18)，所述殘余RROσ是通過存儲在所述校正表中的校正值校正過的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布，其中，與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量的正態(tài)分布為σRRO，與所述盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量的正態(tài)分布為σNRRO，所述測量旋轉(zhuǎn)周數(shù)為N，所述重復次數(shù)為M，所述增益為K。21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述控制單元從所述位置誤差中減去所述校正信號，并根據(jù)所述被減后的位置誤差來生成所述頭部位置控制信號。22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的盤裝置，其中所述控制單元從根據(jù)所述位置誤差而獲取的所述頭部位置控制信號中減去所述校正信號，以控制所述頭部位置。全文摘要用于頭部位置控制的校正表創(chuàng)建方法、頭部位置控制方法及盤裝置。一種頭部位置控制系統(tǒng)通過根據(jù)磁頭控制量校正與所述盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量來控制磁頭的位置，其中在理論上獲取使校正后的與旋轉(zhuǎn)同步的分量達到最小的經(jīng)調(diào)整的增益。使用根據(jù)位置信號中的與盤的旋轉(zhuǎn)同步的分量以及與盤的旋轉(zhuǎn)不同步的分量之間的幅值之比而調(diào)整的增益。并且可以利用用于確定校正后的RRO的表達式來在理論上確定使校正后的RRO達到最小的增益?？梢圆灰蕾囉趯嶒瀬泶_定該增益，并可以確保校正后的RRO的值，因此可以確定制造時間和裝置規(guī)格。文檔編號G11B5/596GK1747043SQ20051006739公開日2006年3月15日申請日期2005年4月18日優(yōu)先權(quán)日2004年9月10日發(fā)明者高石和彥申請人:富士通株式會社