專利名稱：用于操縱至少一個(gè)光盤的裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于操縱至少一個(gè)光盤的裝置，所述光盤包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，所述裝置至少設(shè)有加載機(jī)構(gòu)。
本發(fā)明還涉及一種用于操縱至少一個(gè)光盤的方法，其中所述光盤包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，所述光盤可插入到包括有加載機(jī)構(gòu)的裝置中。
從美國專利US-A-4802155中可以知道這樣一種用于操縱光盤的裝置和方法。該已知裝置設(shè)有光盤將裝入到其中的加載機(jī)構(gòu)。光盤具有兩個(gè)主表面以及與主表面互連的周邊。加載機(jī)構(gòu)設(shè)有夾緊部件，通過它來在光盤的主表面處夾持光盤。夾緊部件使光盤進(jìn)入到加載機(jī)構(gòu)中，并從此處運(yùn)動(dòng)到其中設(shè)有讀或?qū)懷b置的操縱裝置中。
該已知裝置具有這樣的缺點(diǎn)，即位于夾緊部件本身施加在光盤主表面上的位置處的表面區(qū)域是光盤主表面上的可用區(qū)域。該表面區(qū)域優(yōu)選位于可以寫或讀數(shù)據(jù)的主表面區(qū)域之外，以便不會(huì)損壞記錄在主表面上的數(shù)據(jù)。
本發(fā)明的目的是提供一種裝置，通過其便可由加載機(jī)構(gòu)來移動(dòng)光盤，同時(shí)使加載機(jī)構(gòu)在主表面上接觸到的表面區(qū)域最小。
該目的通過根據(jù)本發(fā)明的裝置來實(shí)現(xiàn)，其中加載機(jī)構(gòu)設(shè)有可在工作期間被緊固在待定位于加載機(jī)構(gòu)中的光盤周邊上的至少兩個(gè)位置上的部件，這些位置相互間隔開一段距離。
緊固在光盤周邊上的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，光盤的主表面不會(huì)或基本上不會(huì)被加載機(jī)構(gòu)觸及。結(jié)果，襯底層主表面的基本上整個(gè)表面區(qū)域可用作數(shù)據(jù)層。另外，相對(duì)較小直徑的光盤的相對(duì)較長的周邊非常適用于以穩(wěn)定的方式來夾持光盤，并且不會(huì)使光盤樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)或類似地運(yùn)動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的裝置的一個(gè)實(shí)施例的特征在于，光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)板，它們均包括兩個(gè)主表面以及與該主表面互連的周邊，而加載機(jī)構(gòu)設(shè)有至少一個(gè)U形支架，該U形支架包括兩個(gè)支腳和與該支腳互連的橋接部分，這樣，支架的支腳可在工作期間被緊固在定位于加載機(jī)構(gòu)中的襯底層或保護(hù)板的周邊上的至少兩個(gè)位置上，其中這些位置相互間隔開一段距離。
這種U形支架具有相對(duì)簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)，同時(shí)保護(hù)板和襯底層可通過U形支架相對(duì)快速地相互間分開，使得處理裝置如讀或?qū)懷b置能夠訪問到被保護(hù)板擋住的襯底層主表面。
根據(jù)本發(fā)明的裝置的另一實(shí)施例的特征在于，加載機(jī)構(gòu)設(shè)有兩個(gè)U形支架，使得在操作期間第一U形支架的支腳可緊固在保護(hù)板的周邊上，而第二U形支架的支腳在操作期間可緊固在襯底層的周邊上，同時(shí)兩個(gè)U形支架的橋接部分相連，并且能夠圍繞著平行于橋接部分而延伸的樞軸線而鉸接式轉(zhuǎn)動(dòng)。
這種實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，保護(hù)板和襯底層可被各自的U形支架牢固地夾持住，并且能夠以快速和相對(duì)簡(jiǎn)單的方式相互間分開，這樣便可比較快地?cái)嚅_保護(hù)板和襯底層之間的接觸。
根據(jù)本發(fā)明的裝置的另外一個(gè)實(shí)施例的特征在于，加載機(jī)構(gòu)設(shè)有兩個(gè)U形支架，這樣，在操作期間第一U形支架的支腳可緊固在保護(hù)板的周邊上，而第二U形支架的支腳在操作期間可緊固在襯底層的周邊上，同時(shí)兩個(gè)U形支架的橋接部分能夠圍繞著橫向于橋接部分而延伸的樞軸線樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
這種實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，襯底層和保護(hù)板能夠以相對(duì)簡(jiǎn)單的方式相互間分開。由于襯底層和/或保護(hù)板在平行于主表面的平面內(nèi)移動(dòng)，因此該裝置具有相對(duì)緊湊的結(jié)構(gòu)。另外，在旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)之后的初始輕微的樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)可斷開襯底層和保護(hù)板之間的接觸，這使得可從襯底層的主表面上移開保護(hù)板，并且在保護(hù)板和襯底層之間不會(huì)形成摩擦。
根據(jù)本發(fā)明的裝置的另一實(shí)施例的特征在于，光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)層，該襯底層包括兩個(gè)主表面以及與主表面互連的周邊，而加載機(jī)構(gòu)設(shè)有至少兩個(gè)滑輪、設(shè)于滑輪周圍的環(huán)形帶和導(dǎo)向件，使得在操作期間，設(shè)于加載機(jī)構(gòu)中的襯底層的周邊可位于導(dǎo)向件和環(huán)形帶之間。
這種實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，襯底層可通過平移運(yùn)動(dòng)而以簡(jiǎn)單和緊湊的方式與保護(hù)板分開。
本發(fā)明的另一目的是提供一種可以避免已知方法的缺陷的方法。
該目的通過根據(jù)本發(fā)明的方法來實(shí)現(xiàn)，其中位于加載機(jī)構(gòu)中的部件可被緊固在光盤周邊上的至少兩個(gè)位置上，所述位置相互間隔開一段距離，通過該部件就可使光盤運(yùn)動(dòng)到加載機(jī)構(gòu)中和從中運(yùn)動(dòng)出來。
這種方法的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，在夾持光盤的期間，基本上不必觸及到光盤的主表面。
根據(jù)本發(fā)明的另一方法的特征在于，光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)板，它們均包括兩個(gè)主表面以及與該主表面互連的周邊，而加載機(jī)構(gòu)設(shè)有可被緊固在襯底層或保護(hù)板的周邊上的至少兩個(gè)位置上的部件，所述位置相互間隔開一段距離，這樣，保護(hù)板和襯底層就可通過所述部件而相互間分開。
這種方法的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，光盤以相對(duì)簡(jiǎn)單的方式設(shè)置在加載機(jī)構(gòu)中。另外，保護(hù)板通過所述部件與襯底層分開，使得處理裝置能夠訪問到最初被保護(hù)板擋住的襯底層的主表面。
根據(jù)本發(fā)明的另一方法的特征在于，保護(hù)板可通過所述部件相對(duì)于襯底層圍繞平行于主表面延伸的樞軸線樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
這種實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，保護(hù)板和襯底層可通過有效、快速和相對(duì)簡(jiǎn)單的方式分開，這樣便可以比較快地?cái)嚅_保護(hù)板和襯底層之間的接觸。
根據(jù)本發(fā)明的另外一個(gè)方法的特征在于，所述部件可使保護(hù)板圍繞著橫向于主表面而延伸的旋轉(zhuǎn)軸線而相對(duì)于襯底層旋轉(zhuǎn)。
這種實(shí)施例的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，通過圍繞著旋轉(zhuǎn)軸線的旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)來使保護(hù)板與襯底層分開是比較簡(jiǎn)單的。
根據(jù)本發(fā)明的另一方法的特征在于，所述部件可使襯底層相對(duì)于保護(hù)板在平行于主表面而延伸的方向上運(yùn)動(dòng)。
這種方法的一項(xiàng)優(yōu)點(diǎn)在于，襯底層可通過緊湊的方式與保護(hù)板分開。
下面將通過示例并參考附圖來更詳細(xì)地介紹本發(fā)明，在圖中

圖1是光盤的第一實(shí)施例的示意性截面視圖，圖2是光盤的第二實(shí)施例的側(cè)面透視圖，圖3a是處于裝置中的根據(jù)本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)的第一實(shí)施例的示意性平面視圖，而圖3b和3c是其截面視圖，圖4是處于裝置中的不同位置處的根據(jù)本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)的如圖3a-3c所示實(shí)施例的示意性平面視圖，圖5a和5b是處于裝置中的根據(jù)本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)的第二實(shí)施例的示意性平面視圖和側(cè)視圖。
在所有圖中采用相同的標(biāo)號(hào)來表示相應(yīng)的部件。
圖1是光盤1的第一實(shí)施例的示意性截面視圖。光盤1包括襯底層2和可分開地連接在所述盤上的保護(hù)板3。圓形襯底層2包括支撐板4、與支撐板4相連的記錄層5，以及在記錄層5的背離支撐板4的一側(cè)連接到記錄層5上的覆蓋層6。覆蓋層6比支撐板4薄一些，并由讀或?qū)懨浇榭蓮闹型高^的材料制成。支撐板4由硬質(zhì)材料如金屬或合成樹脂制成。在支撐板4的中心設(shè)有磁體9。
可分開地緊固在襯底層2上的保護(hù)板3處于襯底層的背離支撐板4的一側(cè)。在保護(hù)板3的中央部分設(shè)置了磁體10。
下面將簡(jiǎn)單地介紹保護(hù)板3的功能。為了保護(hù)記錄層5，保護(hù)板3從覆蓋層6的一側(cè)、即從如實(shí)線所示的位置運(yùn)動(dòng)到如虛線所示的表示了保護(hù)板3′的位置中，在此處保護(hù)板3′通過磁體9，10可分開地緊固到支撐板4上。保護(hù)板3通過磁體9，10定位并固定在襯底層2上。
襯底層2設(shè)有由支撐板4和覆蓋層6形成的兩個(gè)主表面11，以及與主表面11互連的周邊12。保護(hù)板3設(shè)有兩個(gè)主表面13以及與主表面13互連的周邊14。
圖2顯示了光盤1的第二實(shí)施例的側(cè)面透視圖。在該實(shí)施例中，光盤1包括套筒式保護(hù)板3和襯底層2。襯底層2具有與圖1中所示的相同的結(jié)構(gòu)。套筒式保護(hù)板3包括磁體10。襯底層2可滑入到套筒式保護(hù)板3中以實(shí)現(xiàn)保護(hù)目的。襯底層2基本上被套筒式保護(hù)板3整個(gè)地包圍和保護(hù)起來。
圖3a-3c和圖4是根據(jù)本發(fā)明的加載機(jī)構(gòu)30的一個(gè)實(shí)施例的側(cè)視圖，該加載機(jī)構(gòu)30處于光盤1將定位到其中的裝置中。加載機(jī)構(gòu)30包括兩個(gè)U形支架31，32，它們均具有兩個(gè)支腳33，34以及將所述支腳33，34相連的橋接部分36，37。
U形支架31可圍繞橫向于橋接部分36而延伸的旋轉(zhuǎn)軸線35旋轉(zhuǎn)，而U形支架32可圍繞平行于橋接部分37而延伸的樞軸線40樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
下面將簡(jiǎn)短地說明加載機(jī)構(gòu)30的操作。沿著箭頭P1所示的方向?qū)⒐獗P1人工地插入到U形支架31，32的支腳33，34之間，使得襯底層2的周邊12被夾在U形支架31的支腳33之間，同時(shí)保護(hù)板3的周邊14被U形支架32的支腳34所夾持。從圖3a所示的位置中開始，U形支架32圍繞著樞軸線40沿著箭頭P2所示的方向樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)(圖3c)，襯底層2位于其中的U形支架31隨之沿著箭頭P3所示的方向圍繞著旋轉(zhuǎn)軸線35旋轉(zhuǎn)到圖4所示的位置。在該位置中，寫和/或讀裝置可直接對(duì)襯底層進(jìn)行寫或讀，或者可通過用于進(jìn)一步處理的機(jī)構(gòu)(未示出)沿著箭頭P4所示的方向?qū)⒁r底層從U形支架31中取出來。
圖5a和5b是位于裝置中的加載機(jī)構(gòu)50的第二實(shí)施例的平面視圖和側(cè)視圖。加載機(jī)構(gòu)50設(shè)有兩個(gè)滑輪51，52，以及設(shè)于滑輪51，52周圍的環(huán)形帶53。加載機(jī)構(gòu)50還設(shè)有導(dǎo)向件54，其平行于環(huán)形帶53延伸并與之間隔開一段距離。圖2所示的光盤1置于加載機(jī)構(gòu)50中，所述光盤1包括襯底層2和套筒式保護(hù)板3。
套筒式保護(hù)板3包括處于其周邊14中的帶槽凹腔57，襯底層2可穿過該凹腔而部分地延伸出來。
下面將簡(jiǎn)短地說明加載機(jī)構(gòu)50的操作。沿著箭頭P1所示的方向?qū)⒐獗P1插入到加載機(jī)構(gòu)50中，直到套筒式保護(hù)板3碰到對(duì)接部分(未示出)時(shí)為止。此時(shí)凹腔57位于滑輪52的對(duì)面，使得設(shè)于滑輪51，52周圍的皮帶53靠在處于保護(hù)板3中的襯底層2的周邊12上。襯底層2還靠在套筒式保護(hù)板3的遠(yuǎn)離凹腔57的壁上。然后沿著箭頭P5所示的方向驅(qū)動(dòng)滑輪51，52，使得皮帶53沿著箭頭P6所示的方向運(yùn)動(dòng)。結(jié)果，襯底層2將開始沿著箭頭P7所示的方向旋轉(zhuǎn)，并從套筒式保護(hù)板3上滾開。在襯底層2已經(jīng)部分地離開保護(hù)板3之后，襯底層2的周邊12將與導(dǎo)向件54接觸，并且沿著導(dǎo)向件54滾動(dòng)。
顯然，在加載機(jī)構(gòu)30和加載機(jī)構(gòu)50中，加載機(jī)構(gòu)還可實(shí)現(xiàn)襯底層2和保護(hù)板3之間的接觸的恢復(fù)。
加載機(jī)構(gòu)30，50位于例如設(shè)有寫和/或讀單元的裝置中。
或者，可提供僅設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸線35或僅設(shè)有樞軸線40的加載機(jī)構(gòu)30。
還可提供一種加載機(jī)構(gòu)50，其具有在襯底層2的兩側(cè)圍繞在滑輪上的環(huán)形帶，在這種情況下，可通過平移運(yùn)動(dòng)來將襯底層2從套筒式保護(hù)板3中移開。
還可以將支腳33設(shè)置成相互間稍微隔開，使得襯底層2可在支腳33之間旋轉(zhuǎn)，而不是在箭頭P4所示的方向上運(yùn)動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種用于操縱至少一個(gè)光盤的裝置，所述光盤包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，所述裝置至少設(shè)有加載機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有可在工作期間被緊固在待定位于所述加載機(jī)構(gòu)中的光盤周邊上的至少兩個(gè)位置上的部件，所述位置相互間隔開一段距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)板，它們均包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，而所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有至少一個(gè)U形支架，所述U形支架包括兩個(gè)支腳和與所述支腳互連的橋接部分，其中在工作期間，所述支架的支腳可被緊固在定位于所述加載機(jī)構(gòu)中的所述襯底層或所述保護(hù)板的周邊上的至少兩個(gè)位置上，所述位置相互間隔開一段距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有兩個(gè)U形支架，使得在操作期間第一U形支架的支腳可緊固在所述保護(hù)板的周邊上，而第二U形支架的支腳在操作期間可緊固在所述襯底層的周邊上，同時(shí)所述兩個(gè)U形支架的橋接部分相連，并且能夠圍繞著平行于所述橋接部分而延伸的樞軸線鉸接式轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的裝置，其特征在于，所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有兩個(gè)U形支架，使得在操作期間第一U形支架的支腳可緊固在所述保護(hù)板的周邊上，而第二U形支架的支腳在操作期間可緊固在所述襯底層的周邊上，同時(shí)所述兩個(gè)U形支架的橋接部分可圍繞著橫向于所述橋接部分而延伸的樞軸線樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)層，所述襯底層包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，而所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有至少兩個(gè)滑輪、設(shè)于所述滑輪周圍的環(huán)形帶以及導(dǎo)向件，使得在操作期間，設(shè)于所述加載機(jī)構(gòu)中的所述襯底層的周邊可位于所述導(dǎo)向件和環(huán)形帶之間。
6.一種用于操縱至少一個(gè)光盤的方法，所述光盤包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，所述光盤可插入到包括有加載機(jī)構(gòu)的裝置中，其特征在于，位于所述加載機(jī)構(gòu)中的部件可被緊固在所述光盤周邊上的至少兩個(gè)位置上，所述位置相互間隔開一段距離，通過所述部件就可使所述光盤運(yùn)動(dòng)到所述加載機(jī)構(gòu)中和從中運(yùn)動(dòng)出來。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述光盤設(shè)有襯底層和保護(hù)板，它們均包括兩個(gè)主表面以及與所述主表面互連的周邊，而所述加載機(jī)構(gòu)設(shè)有可被緊固在所述襯底層或保護(hù)板的周邊上的兩個(gè)位置上的部件，所述位置相互間隔開一段距離，這樣，所述保護(hù)板和襯底層就可通過所述部件而相互間分開。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述保護(hù)板可通過所述部件圍繞平行于所述主表面而延伸的樞軸線相對(duì)于所述襯底層樞軸轉(zhuǎn)動(dòng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的方法，其特征在于，所述部件可使所述保護(hù)板圍繞橫向于所述主表面而延伸的旋轉(zhuǎn)軸線相對(duì)于所述襯底層旋轉(zhuǎn)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7到9中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述部件可使所述襯底層在平行于所述主表面而延伸的方向上相對(duì)于所述保護(hù)板運(yùn)動(dòng)。
全文摘要
一種用于操縱至少一個(gè)光盤的裝置，該光盤包括兩個(gè)主表面以及與這些主表面互連的周邊(12)。該裝置至少設(shè)有加載機(jī)構(gòu)(30)，該加載機(jī)構(gòu)設(shè)有部件(31，32；33，34；36，37)。所述部件可在工作期間被緊固在定位于加載機(jī)構(gòu)中的光盤周邊上的至少兩個(gè)位置上，這些位置相互間隔開一段距離。
文檔編號(hào)G11B17/04GK1666274SQ03815848
公開日2005年9月7日 申請(qǐng)日期2003年6月24日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月8日
發(fā)明者M·A·H·范德亞亞, G·J·P·尼斯塞, G·L·M·詹斯森 申請(qǐng)人:皇家飛利浦電子股份有限公司