1 ;其中，相對(duì)所述第一基板01上的任意一行子像素，相鄰兩根所述數(shù)據(jù)線20之間具有兩個(gè)子像素，一根所述第二觸控電極走線40位于所述兩個(gè)子像素之間；所述柵線10兩兩一對(duì)位于所述第一基板01的任意相鄰兩行子像素之間，所述第一觸控電極走線30位于一對(duì)所述柵線10之間。
[0054]需要說明的是，第一，由于所述觸控顯示面板中只有每個(gè)子像素的區(qū)域能透光，因此，本發(fā)明實(shí)施例中，非子像素區(qū)是指除子像素的區(qū)域以外的其他區(qū)域。例如任意相鄰子像素之間的區(qū)域。
[0055]其中，每個(gè)子像素可以包括薄膜晶體管。所述薄膜晶體管包括與柵線10電連接的柵極801、柵絕緣層、半導(dǎo)體有源層、與數(shù)據(jù)線20電連接的源極802、以及與像素電極70電連接的漏極803。這里，所述像素電極70與漏極803的電連接方式可以是直接電連接，也可是通過過孔電連接。
[0056]第二，每根第一觸控電極走線30可以連接多個(gè)第一觸控電極50，每根第二觸控電極走線40可以連接多個(gè)第二觸控電極60。
[0057]此外，不對(duì)所述第一觸控電極50和第二觸控電極60的具體位置進(jìn)行限定，只要能實(shí)現(xiàn)觸控且不影響顯示階段的正常顯示即可。本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選所述第一觸控電極50和第二觸控電極60均為透明電極。
[0058]第三，由于在觸控顯示面板中子像素所占的面積非常微小，而觸控時(shí)手指與顯示面板的接觸面積相對(duì)較大，因此，可依據(jù)觸控精度，所述第二觸控電極走線40無需形成在任意相鄰的兩列子像素之間，即，可以隔幾列子像素設(shè)置一根所述第二觸控電極走線40。當(dāng)然本發(fā)明實(shí)施例也可以在任意相鄰的兩列子像素之間均形成一根所述第二觸控電極走線40，具體可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)定，在此不做限定。
[0059]同理，也可以隔幾行子像素形成一根所述第一觸控電極走線30，當(dāng)然，也可以在任意相鄰的兩行子像素之間均形成一根所述第一觸控電極走線30，具體可根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行設(shè)定，在此不做限定。
[0060]由于與所述第一觸控電極50電連接的第一觸控電極走線30、與所述第二觸控電極60電連接的第二觸控電極走線40分別設(shè)置在不透光的非子像素區(qū)，因而相比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明實(shí)施例可以避免對(duì)開口率的影響。
[0061]進(jìn)一步優(yōu)選的，如圖3所示，形成所述第二基板02包括:形成包括輔助隔墊物90以及覆蓋所述輔助隔墊物90的第一透明電極100的第二基板02。
[0062]其中，所述輔助隔墊物90與所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60在第一基板01的投影具有重疊部分，且覆蓋所述輔助隔墊物90的所述第一透明電極100暴露于所述第二基板02的表面。在此情況下，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60也暴露于所述第一基板01的表面，且相對(duì)所述第一基板01的襯底基板，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60遠(yuǎn)離襯底基板的上表面處于同一平面。
[0063]這里，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60暴露于所述第一基板01的表面是指:從所述第一基板01整體來看，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60位于所述第一基板Ol的外側(cè)表面。同理，所述覆蓋所述輔助隔墊物90的所述第一透明電極100位于所述第二基板02的外側(cè)表面。
[0064]需要說明的是，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60的上表面處于同一平面，并不代表整個(gè)第一觸控電極50和整個(gè)所述第二觸控電極60的上表面均處于同一平面，也可能是部分第一觸控電極50和部分第二觸控電極60的上表面處于同一平面。
[0065]這樣，在觸控時(shí)，由于手指的按壓，便可通過輔助隔墊物90上的第一透明電極100將第一觸控電極50和第二觸控電極60導(dǎo)通，因而，只需給第一透明電極100、第一觸控電極50和第二觸控電極60三者中其中一個(gè)輸入驅(qū)動(dòng)信號(hào)，就可以確定出觸控點(diǎn)的位置，從而相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中需要同時(shí)給第一觸控電極走線和第二觸控電極走線施加信號(hào)，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種更簡(jiǎn)單的技術(shù)方案，并且可以減少為第一觸控電極走線和第二觸控電極走線提供信號(hào)的IC的數(shù)量。
[0066]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60形成在非子像素區(qū)區(qū)、且通過一次構(gòu)圖工藝形成。
[0067]這里，將所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60設(shè)置在非子像素區(qū)，可不用占透光的子像素區(qū)的面積，從而避免了開口率減小。在此基礎(chǔ)上，也可避免構(gòu)圖工藝次數(shù)的增加。
[0068]進(jìn)一步的，可將所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60與位于所述第一基板01上位于子像素區(qū)的像素電極40在一次構(gòu)圖工藝中形成。
[0069]進(jìn)一步優(yōu)選的，結(jié)合圖2和圖4所示，在所述第一基板01上還形成位于所述第一觸控電極50下方的保留圖案41 ;所述第二觸控電極走線40、所述保留圖案41與所述數(shù)據(jù)線20通過一次構(gòu)圖工藝形成，其中，所述第二觸控電極60通過過孔與所述第二觸控電極走線40電連接；所述第一觸控電極走線30與所述第一觸控電極50 —次構(gòu)圖工藝形成。
[0070]這里，設(shè)置所述保留圖案41目的是使其上方的第一觸控電極50的上表面與設(shè)置在所述第二觸控電極走線40上方的第二觸控電極60的上表面處于同一平面，這樣在觸控時(shí)由于手指的按壓才能使第一透明電極100與第一觸控電極50和第二觸控電極60接觸。
[0071]基于上述，考慮到TN型液晶顯示面板，公共電極位于第二基板，因而，在觸控階段可直接使用公共電極作為第一透明電極100來導(dǎo)通第一觸控電極50和第二觸控電極60，而無需再額外制作相應(yīng)的導(dǎo)通第一觸控電極50和第二觸控電極60的電極，使得本發(fā)明的結(jié)構(gòu)更為簡(jiǎn)化。
[0072]本發(fā)明實(shí)施例提供一種具體的第一基板01的制作方法，其包括如下步驟:
[0073]S01、如圖5a所示，在襯底基板上通過一次構(gòu)圖工藝形成柵線10、與柵線10電連接的柵極801。
[0074]其中，所述柵線10兩兩一對(duì)位于所述第一基板01的待形成的任意相鄰兩行子像素之間。
[0075]S02、如圖5b所示，在完成SOl的基礎(chǔ)上，形成柵絕緣層804，并形成半導(dǎo)體有源層805。
[0076]S03、如圖5c所示，在完成S02的基礎(chǔ)上，通過一次構(gòu)圖工藝形成數(shù)據(jù)線20、與所述數(shù)據(jù)線20電連接的源極802、漏極803、以及第二觸控電極走線40、保留圖案41。
[0077]其中，相對(duì)所述第一基板01的待形成的任意一行子像素，相鄰兩根所述數(shù)據(jù)線20之間具有兩個(gè)子像素，每根所述第二觸控電極走線40位于所述兩個(gè)子像素之間。所述保留圖案41位于待形成的所述第一觸控電極50的下方。
[0078]這里，所有所述第二觸控電極走線40可以并不分布在任意相鄰兩行子像素之間，但需所有所述第二觸控電極走線40均勻分布在襯底基板上。
[0079]S04、如圖2所示，在完成S03的基礎(chǔ)上，形成保護(hù)層，并在保護(hù)層上形成第一觸控電極走線30、與所述第一觸控電極走線30電連接的第一觸控電極50、第二觸控電極60、以及像素電極70。
[0080]其中，所述保護(hù)層包括露出所述漏極803的第一過孔和露出第二觸控電極走線40的第二過孔；所述像素電極70通過第一過孔與所述漏極803電連接，所述第二觸控電極60通過第二過孔與所述第二觸控電極走線40電連接。
[0081]每根所述第一觸控電極走線30位于一對(duì)所述柵線10之間。這里，所有所述第一觸控電極走線30可以并不分布在任意一對(duì)所述柵線10之間，但需所有所述第一觸控電極走線30均勻分布在襯底基板上。
[0082]對(duì)于第二基板的制作方法，在此不做限定，只需將輔助隔墊物90形成在與所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60對(duì)應(yīng)的位置處，且使所述輔助隔墊物90與所述第一觸控電極50和所述第二觸控電極60在第一基板01的投影具有重疊部分；并且在此基礎(chǔ)上形成透明電極即可。
[0083]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種觸控顯示面板的控制方法，包括:在觸控階段，向位于第二基板02上的第一透明電極100施加驅(qū)動(dòng)信號(hào)；通過位于第一基板01上與第一觸控電極50電連接的第一觸控電極走線30、與第二觸控電極60電連接的第二觸控電極走線4