1.一種虛擬測量方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的虛擬測量方法，其特征在于，將各所述拋光工藝變量映射為所述映射特征，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)所述映射特征和可解釋點積注意力機制確定所述點積注意力結(jié)構(gòu)輸出結(jié)果，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)所述點積注意力結(jié)構(gòu)輸出結(jié)果構(gòu)建所述回歸采樣卷積交互模型，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任意一項所述的虛擬測量方法，其特征在于，確定所述特征空間中各所述拋光工藝變量對應的位置，以生成所述映射特征，包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)所述映射特征獲取可解釋點積注意力機制的查詢、鍵和值，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)可解釋點積注意力機制的查詢、鍵和值，獲取可解釋注意力權(quán)重分布矩陣和所述點積注意力結(jié)構(gòu)輸出結(jié)果，包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)所述點積注意力結(jié)構(gòu)輸出結(jié)果構(gòu)建基于二叉樹結(jié)構(gòu)的所述回歸采樣卷積交互模型，包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)第一副本和第二副本確定當前層二叉樹節(jié)點的加權(quán)特征輸出結(jié)果，包括：
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的虛擬測量方法，其特征在于，對第一副本和第二副本分別進行卷積操作，以生成第一副本對應的卷積結(jié)果和第二副本對應的卷積結(jié)果，包括：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的虛擬測量方法，其特征在于，根據(jù)第一副本及其對應的指數(shù)結(jié)果，和第二副本及其對應的指數(shù)結(jié)果，生成當前層二叉樹節(jié)點的所述加權(quán)特征輸出結(jié)果，包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的虛擬測量方法，其特征在于，所述第一一維卷積模塊、所述第二一維卷積模塊、所述第三一維卷積模塊和所述第四一維卷積模塊的結(jié)構(gòu)均相同，依次由雙曲正切激活函數(shù)、一維卷積層、隨機損失層、泄漏線性整流激活函數(shù)和一維卷積層構(gòu)成。
13.根據(jù)權(quán)利要求4所述的虛擬測量方法，其特征在于，確定所述回歸采樣卷積交互模型輸出的單一值，以完成所述虛擬測量模型的構(gòu)建，包括：
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的虛擬測量方法，其特征在于，所述虛擬測量模型的訓練過程包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的虛擬測量方法，其特征在于，在根據(jù)所述訓練數(shù)據(jù)集中的數(shù)據(jù)對所述虛擬測量模型進行訓練，直至所述虛擬測量模型收斂之后，還包括：
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的虛擬測量方法，其特征在于，在將各所述目標拋光工藝變量輸入至所述虛擬測量模型中，以輸出所述目標材料對應的目標材料去除率之后，還包括：
17.一種計算機程序產(chǎn)品，包括計算機程序或指令，其特征在于，該計算機程序或指令被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)權(quán)利要求1至16任一項所述虛擬測量方法的步驟。
18.一種虛擬測量設(shè)備，其特征在于，包括：
19.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質(zhì)上存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至16任一項所述的虛擬測量方法的步驟。