1.一種基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，所述獲取待測(cè)量型材斷面的二維圖像和深度圖像，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，根據(jù)所述深度圖像生成三維點(diǎn)云數(shù)據(jù)，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，獲得所述訓(xùn)練好的毛刺檢測(cè)模型，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，所述毛刺檢測(cè)模型包括二維特征提取單元、第一多層感知機(jī)、第一三維特征下采樣單元、第一特征融合單元、第二三維特征下采樣單元、第二特征融合單元、第三三維特征下采樣單元、第三特征融合單元、第四三維特征下采樣單元、第四特征融合單元、第二多層感知機(jī)、第一三維特征上采樣單元、第二三維特征上采樣單元、第三三維特征上采樣單元、第四三維特征上采樣單元和第三多層感知機(jī)；
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，所述第一三維特征下采樣單元、第二三維特征下采樣單元、第三三維特征下采樣單元和第四三維特征下采樣單元的結(jié)構(gòu)形同，均包括依次連接的最遠(yuǎn)點(diǎn)采樣層、k近鄰分組層、鄰域最大池化層、第一全連接層、第一注意力層和第二全連接層；所述鄰域最大池化層的輸出端還與第二全連接層的輸出端連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，所述第一特征融合單元、第二特征融合單元、第三特征融合單元和第四特征融合單元的結(jié)構(gòu)相同，均包括依次連接的第一交叉注意力層、第一自注意力層、第二交叉注意力層、第二自注意力層和第三交叉注意力層；
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，所述第一三維特征上采樣單元、第二三維特征上采樣單元、第三三維特征上采樣單元和第四三維特征上采樣單元的結(jié)構(gòu)相同，均包括第三全連接層、第四全連接層、三線性插值層、逐元素相加層、第五全連接層、第三自注意力層和第六全連接層；
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量方法，其特征在于，在所述待測(cè)量型材斷面的校正圖像上測(cè)量尺寸參數(shù)，包括：
10.一種基于二維圖像和三維點(diǎn)云的型材斷面尺寸測(cè)量系統(tǒng)，用于實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，包括：