1.一種圖元裁剪方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述裁剪保護(hù)帶在任意一個(gè)裁剪方向上的配置信息包括比例信息和偏移信息，其中，
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)渲染目標(biāo)的尺寸和光柵化階段的預(yù)設(shè)數(shù)據(jù)精度，確定裁剪保護(hù)帶的配置信息，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述渲染目標(biāo)的尺寸對(duì)應(yīng)于一個(gè)裁剪方向時(shí)，所述渲染目標(biāo)在該裁剪方向上的尺寸大于或等于在其他裁剪方向上的尺寸；
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其特征在于，針對(duì)所述渲染目標(biāo)的尺寸對(duì)應(yīng)的任意一個(gè)裁剪方向，所述裁剪保護(hù)帶在該裁剪方向上的最小坐標(biāo)為b-m×r/2，最大坐標(biāo)為b+(r+m×r/2)，其中，
6.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的方法，其特征在于，任意一個(gè)裁剪方向上，所述裁剪保護(hù)帶的比例信息和偏移信息有多個(gè)數(shù)值組合可選時(shí)，選擇使得所述裁剪保護(hù)帶在該裁剪方向上的實(shí)際尺寸與所述渲染目標(biāo)空間在該裁剪方向上的最大尺寸最接近的數(shù)值組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)圖元的頂點(diǎn)坐標(biāo)以及所述配置信息，生成所述圖元的裁剪掩碼，包括：
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述圖元的裁剪掩碼指示裁剪所述圖元時(shí)，根據(jù)所述圖元的裁剪掩碼指示的裁剪方式裁剪所述圖元，包括：
11.一種圖元裁剪裝置，其特征在于，所述裝置包括：
12.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：
13.一種非易失性計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序指令，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至10中任意一項(xiàng)所述的方法。