本發(fā)明涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種內(nèi)嵌式觸摸屏、其制作方法及顯示裝置。

背景技術(shù)：

有機電致發(fā)光顯示面板(Organic light-emitting diodes，OLED)是一種利用有機材料封裝成型的顯示器件，其具有工作電壓低、響應速度快、發(fā)光效率高、視角廣和工作溫度廣等優(yōu)點，利于顯示器件的輕薄化、低功耗和曲面設計。目前，現(xiàn)有的基于OLED的觸控產(chǎn)品大多數(shù)是采用如圖1所示的外掛式觸控結(jié)構(gòu)，分別制作OLED顯示面板01和觸控面板02，利用膠材03將兩個面板貼合后形成完整的觸控顯示裝置，這種結(jié)構(gòu)會導致OLED裝置整體厚度增加，不利于產(chǎn)品的輕薄化設計。

內(nèi)嵌式觸摸屏是將觸控電極設置在顯示面板內(nèi)部，大多需要對膜層進行分割和打孔設計，而現(xiàn)有的制成OLED的材料對于水氧條件較為嚴苛，因此，目前OLED大多采用真空蒸鍍工藝制作，使得在OLED中進行過孔和圖形分割工藝十分困難，且成本昂貴，不利于在OLED中實現(xiàn)內(nèi)嵌式觸控。

因此，如何基于OLED面板實現(xiàn)內(nèi)嵌式觸控，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明實施例提供了一種內(nèi)嵌式觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，用以實現(xiàn)基于OLED面板的內(nèi)嵌式觸控。

因此，本發(fā)明實施例提供的一種內(nèi)嵌式觸摸屏，具有呈矩陣排列的多個電 致發(fā)光子像素區(qū)域，各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域包括：依次設置在襯底基板上的陽極和發(fā)光層，還包括：

設置在所述發(fā)光層之上的呈矩陣排列的相互絕緣的多個觸控電極，各所述觸控電極之間的間隙位于所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的間隙處；

各所述觸控電極覆蓋至少一個所述電致發(fā)光子像素區(qū)域且復用作為被覆蓋的所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的陰極。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，還包括：設置在所述襯底基板上用于分隔各所述觸控電極的第一擋墻；以及用于分隔被同一所述觸控電極覆蓋的各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極的第二擋墻。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，設置于各所述觸控電極之間間隙處的所述第一擋墻具有雙層擋墻結(jié)構(gòu)，在所述雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處設置有與對應的所述觸控電極連接的電極引出線。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，所述電極引出線與所述觸控電極的連接處對應的第一擋墻的高度大于或等于所述陽極和發(fā)光層的厚度之和，且小于所述陽極、觸控電極和發(fā)光層的厚度之和；

除了所述電極引出線與所述觸控電極的連接處對應的第一擋墻之外的其他第一擋墻的高度大于或等于所述陽極、觸控電極和發(fā)光層的厚度之和。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，所述第二擋墻還用于分隔被同一所述觸控電極覆蓋的各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的發(fā)光層。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，所述第二擋墻的高度大于或等于所述陽極和發(fā)光層的厚度之和，且小于所述陽極、觸控電極和發(fā)光層的厚度之和。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中， 所述觸控電極的圖形中具有鏤空區(qū)域；所述第二擋墻還用于形成各所述觸控電極的圖形中的鏤空區(qū)域。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，在形成所述鏤空區(qū)域處所述第二擋墻的高度大于或等于所述陽極、觸控電極和發(fā)光層的厚度之和；

除了形成所述鏤空區(qū)域處之外的所述第二擋墻的高度大于或等于所述陽極的厚度，且小于所述陽極、觸控電極和發(fā)光層的厚度之和。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域還包括：設置于所述襯底基板與所述陽極之間的像素控制電路。

本發(fā)明實施例提供的一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的上述任一種內(nèi)嵌式觸摸屏。

本發(fā)明實施例提供的一種上述任一種內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法，包括：

在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)依次形成陽極和發(fā)光層；

在各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的發(fā)光層上，采用噴墨打印方式形成相互絕緣的復用作為陰極的觸控電極。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)形成陰極之前，還包括：

通過構(gòu)圖工藝和刻蝕工藝，在所述襯底基板上同時形成用于分隔各所述觸控電極的第一擋墻，以及用于分隔屬于所述觸控電極的各所述電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極的第二擋墻。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，通過刻蝕工藝使形成的第二擋墻在將要形成的所述觸控電極的鏤空區(qū)域的高度大于其他區(qū)域的高度；

根據(jù)需要形成的所述觸控電極的鏤空區(qū)域以及第二擋墻在各區(qū)域的高度，控制噴墨打印設備中的噴頭在各所述第一擋墻圍城的區(qū)域內(nèi)進行設定計量液 體的噴涂，之后進行烘干處理形成具有鏤空區(qū)域的觸控電極的圖形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，形成的所述第一擋墻在與將要形成的觸控電極之間的間隙對應位置具有雙層擋墻結(jié)構(gòu)；

在形成所述觸控電極的同時，在所述第一擋墻具有的雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處形成與對應的觸控電極連接的電極引出線。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，通過刻蝕工藝使形成的第一擋墻在將要形成的觸控電極與電極引出線的連接處對應的區(qū)域的高度小于其他區(qū)域的高度；

根據(jù)需要形成的各所述觸控電極和電極引出線所占區(qū)域的體積以及第一擋墻和第二擋墻在各區(qū)域的高度，控制噴墨打印設備中的噴頭在各所述第一擋墻圍城的區(qū)域內(nèi)以及雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處進行設定計量的液體噴涂，之后進行烘干處理形成所述觸控電極和所述電極引出線的圖形。

在一種可能的實現(xiàn)方式中，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域依次形成陽極和發(fā)光層，具體包括：采用噴墨打印方式在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)依次形成陽極和發(fā)光層。

本發(fā)明實施例的有益效果包括：

本發(fā)明實施例提供的一種內(nèi)嵌式觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，在OLED面板的發(fā)光層之上設置呈矩陣排列的相互絕緣的多個觸控電極，且各觸控電極之間的間隙位于電致發(fā)光子像素區(qū)域的間隙處，各觸控電極覆蓋至少一個電致發(fā)光子像素區(qū)域且復用作為被覆蓋的電致發(fā)光子像素區(qū)域的陰極。本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏基于OLED面板，將其陰極進行分割后復用觸控電極，以實現(xiàn)內(nèi)嵌式觸控，這樣可以降低觸控顯示裝置的厚度，利于產(chǎn)品的輕薄化設計。并且，在制作基于OLED面板的內(nèi)嵌式觸摸屏時，采用噴墨打印的方式形成復用作為觸控電極的陰極，可以有效地簡化基于OLED面板的觸摸屏的制作 工藝，降低生產(chǎn)成本。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中基于OLED的觸控產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3a和圖3b分別為本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏的側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏中一個觸控電極的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法的流程示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏、其制作方法及顯示裝置的具體實施方式進行詳細地說明。

附圖中各膜層的厚度和形狀不反映真實比例，目的只是示意說明本發(fā)明內(nèi)容。

本發(fā)明實施例提供的一種內(nèi)嵌式觸摸屏，如圖2所示，具有呈矩陣排列的多個電致發(fā)光子像素區(qū)域100，圖2中僅示出了一個電致發(fā)光子像素區(qū)域100，各電致發(fā)光子像素區(qū)域100包括：依次設置在襯底基板001上的陽極002和發(fā)光層003，還包括：

設置在發(fā)光層003之上的呈矩陣排列的相互絕緣的多個觸控電極004，各觸控電極004之間的間隙位于電致發(fā)光子像素區(qū)域100的間隙處；

各觸控電極004覆蓋至少一個電致發(fā)光子像素區(qū)域100且復用作為被覆蓋的電致發(fā)光子像素區(qū)域100的陰極。

值得注意的是，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中各電致發(fā)光子像素區(qū)域包含的發(fā)光層不僅包括由有機電致發(fā)光材料組成的單一發(fā)光膜層，還 包括諸如電子傳輸層、空穴阻擋層、電子阻擋層、空穴傳輸層等功能膜層。

本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏基于OLED面板，將其陰極進行分割后復用觸控電極，以實現(xiàn)內(nèi)嵌式觸控，這樣可以降低觸控顯示裝置的厚度，利于產(chǎn)品的輕薄化設計。

進一步地，為了控制各電致發(fā)光子像素區(qū)域的發(fā)光亮度以進行不同圖像的顯示，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中各電致發(fā)光子像素區(qū)域，如圖2所示，一般還會包括：設置于襯底基板001與陽極002之間的像素控制電路005。

進一步地，由于觸摸屏在使用時需要頻繁的按壓屏幕，因此，一般需要設置保護蓋板對屏幕進行保護，因此，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，如圖2所示，在觸控電極004之上一般還會設置透明蓋板006。該透明蓋板006可以對屏幕進行保護之外，還可以阻隔水氧對于電致發(fā)光子像素區(qū)域100侵害而影響其顯示功能。

進一步地，為了避免采用真空蒸鍍工藝制作陰極時對陰極進行圖形分割時工藝困難的問題，本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏在制作時可以采用噴墨打印的方式形成與陰極復用的觸控電極004，進一步也可以采用噴墨打印的方式形成陽極002和發(fā)光層003。并且，為了實現(xiàn)在噴墨打印時實現(xiàn)圖形化的觸控電極004，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，如圖3a和圖3b所示，還可以包括：設置在襯底基板001上用于分隔各觸控電極004的第一擋墻007；以及用于分隔被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的陽極002的第二擋墻008。

在具體制作本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏時，可以在襯底基板001上制作完成像素控制電路005之后，首先形成上述第一擋墻007和第二擋墻008，之后利用第一擋墻007和第二擋墻008的不同高度，采用噴墨打印工藝依次形成陽極002、發(fā)光層003和復用陰極的觸控電極004?；蛘?，可以在襯底基板001上制作完成像素控制電路005和陽極002之后，首先形成上述第 一擋墻007和第二擋墻008，之后利用第一擋墻007和第二擋墻008的不同高度，采用噴墨打印工藝依次形成發(fā)光層003和復用陰極的觸控電極004。

在具體實施時，可以采用和制作像素控制電路005相類似的通過構(gòu)圖工藝形成第一擋墻007和第二擋墻008的圖形，之后通過預先對陽極002、發(fā)光層003和陰極各層厚度以及打印所需的材料計量，設置噴墨打印設備按照設定的精度與速度進行噴墨制作這些膜層。由于各層的功能不同，其制作材料也不盡相同，因此需要按照設定順序?qū)⒏鲗硬牧洗蛴≡谥付ǖ奈恢?，當然，具體地噴墨打印設備的噴頭數(shù)量可以是單個也可以是多個，在此不做限定。

進一步地，為了便于對相互絕緣的各觸控電極004在不同時刻施加不同的電信號，如圖3a和圖3b所示，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中一般還需要設置與對應的觸控電極004連接的電極引出線009，這些電極引出線009具體可以設置在各觸控電極004之間的間隙處。為了在制作觸控電極004時同時可以制作出與對應的觸控電極004連接的電極引出線009，在具體實施時，本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中的設置于各觸控電極004之間間隙處的第一擋墻007可以具有雙層擋墻結(jié)構(gòu)，雙層擋墻之間具有一定的縫隙，這樣，可以將電極引出線009設置在雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處，利用雙層擋墻中高度較低處的位置連接電極引出線009與對應的觸控電極004，并利用雙層擋墻的其他位置隔斷電極引出線009和兩邊相鄰的觸控電極004。例如在圖3a和圖3b中，電極引出線009均與左側(cè)的觸控電極004連接，并且，在具體實施時，可以控制在形成電極引出線009和觸控電極004的區(qū)域的噴墨量的方式使兩者相互連接。

在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中可以將第一擋墻007的不同位置處設置不同的高度，以實現(xiàn)其不同的功能。具體地，如圖3a和圖3b所示，可以將電極引出線007與觸控電極004的連接處對應的第一擋墻007b的高度設置為大于或等于陽極002和發(fā)光層003的厚度之和，且小于陽極002、觸控電極004和發(fā)光層003的厚度之和，以便于觸控電極004在此 處越過第一擋墻007a與電極引出線009連接。同時，將除了電極引出線009與觸控電極004的連接處對應的第一擋墻007b之外的其他第一擋墻007的高度設置為大于或等于陽極002、觸控電極004和發(fā)光層003的厚度之和，以避免電極引出線009與其他觸控電極004連接，發(fā)生信號傳輸混亂的情況。

進一步地，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，可以基于彩色濾光片+發(fā)白光的發(fā)光層的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)OLED顯示功能，此時，如圖3a所示，在OLED中被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100中的發(fā)光層003可以不進行分割，即被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100中的發(fā)光層003為一體結(jié)構(gòu)，此時，第二擋墻008可以僅用于分隔被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的陽極002，如圖3a所示，第二擋墻008的高度僅需要不小于陽極002的厚度即可。

同樣，在本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏中，也可以基于發(fā)單色光的發(fā)光層的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)OLED顯示功能，此時，在OLED中相鄰的電致發(fā)光子像素區(qū)域100中使用的發(fā)光材料不同，因此，為避免串色需要對被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100中的發(fā)光層003進行分隔。此時，如圖3b所示，第二擋墻008除了用于分隔被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的陽極002之外，還用于分隔被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的發(fā)光層003，即第二擋墻008的高度需要大于或等于陽極002和發(fā)光層003的厚度之和。

并且，進一步地，為了保證屬于覆蓋各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的同一觸控電極001的連續(xù)性，第二擋墻008的高度除了需要大于或等于陽極002和發(fā)光層003的厚度之和之外，還要保證小于陽極002、觸控電極004和發(fā)光層003的厚度之和。

進一步地，為了減小觸控電極004的寄生電容，提升觸控性能，如圖4所示，還可以將每個觸控電極004進行局部鏤空處理，即觸控電極004具有鏤空區(qū)域，利用第二擋墻008形成各觸控電極004的圖形中的鏤空區(qū)域。

并且，為了保證在同一觸控電極004的連續(xù)性，如圖4所示，可以將在形成鏤空區(qū)域處第二擋墻008a的高度設置為大于或等于陽極002、觸控電極004和發(fā)光層003的厚度之和，這樣，在此處進行噴墨打印時，由于第二擋墻008的高度以及噴墨溶液的重力作用，在此處不會形成觸控電極004的圖案而形成鏤空區(qū)域。而除了形成鏤空區(qū)域處之外的第二擋墻008b的高度大于或等于陽極002的厚度，且小于陽極002、觸控電極004和發(fā)光層003的厚度之和，這樣可以保證被同一觸控電極004覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域100的陽極002之間相互絕緣，且該觸控電極004相對連續(xù)。

具體地，在本發(fā)明實施例提供的上述觸摸屏中的各觸控電極004可以采用互電容的方式進行觸控檢測，也可以采用自電容的方式進行觸控檢測。并且，對于各觸控電極004的外輪廓形狀并無明確限定，具體可以是矩形、三角形、菱形等形狀。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法，如圖5所示，包括以下步驟：

S501、在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)依次形成陽極和發(fā)光層；

具體地，可以采用噴墨打印方式在襯底基板上的各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)依次形成陽極和發(fā)光層；

S502、在各電致發(fā)光子像素區(qū)域的發(fā)光層上，采用噴墨打印方式形成相互絕緣的復用作為陰極的觸控電極。

在制作基于OLED面板的內(nèi)嵌式觸摸屏時，采用噴墨打印的方式形成復用作為觸控電極的陰極，可以有效地簡化基于OLED面板的觸摸屏的制作工藝，降低生產(chǎn)成本。

進一步地，為了便于在采用噴墨打印方式形成圖形化的膜層，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法中，如圖5所示，在執(zhí)行步驟S502之前，還可以包括以下步驟：

S500、通過構(gòu)圖工藝和刻蝕工藝，在襯底基板上同時形成用于分隔各觸控 電極的第一擋墻，以及用于分隔屬于觸控電極的各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極的第二擋墻。

具體地，可以通過一次構(gòu)圖工藝和分次刻蝕工藝形成第一擋墻和第二擋墻的圖形。其中，刻蝕工藝的次數(shù)與第一擋墻和第二擋墻的具體高度有關(guān)，若第一擋墻和第二擋墻僅包含兩種高度，則需要兩次刻蝕工藝形成兩種高度的第一(二)擋墻。例如：各觸控電極無鏤空設計，第二擋墻用于分隔被同一觸控電極覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極和發(fā)光層，第一擋墻具有兩種高度，第二擋墻的高度與第一擋墻在電極引出線與對應的觸控電極連接處的高度相同。又如：各觸控電極具有鏤空區(qū)域，第二擋墻用于分隔被同一觸控電極覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極和發(fā)光層且還用于形成觸控電極的鏤空區(qū)域，第一擋墻和第二擋墻分別具有兩種高度：在形成觸控電極鏤空區(qū)域處的第二擋墻的高度等于除了電極引出線與對應的觸控電極連接處之外的其他第一擋墻的高度，在除了形成鏤空區(qū)域處之外的第二擋墻的高度等于在電極引出線與對應的觸控電極連接處的第一擋墻的高度。

若第一擋墻和第二擋墻包含三種高度，則需要三次刻蝕工藝形成三種高度的第一(二)擋墻。例如：各觸控電極具有鏤空區(qū)域，第二擋墻用于分隔被同一觸控電極覆蓋的各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極且還用于形成觸控電極的鏤空區(qū)域，第一擋墻和第二擋墻分別具有兩種高度：在形成觸控電極鏤空區(qū)域處的第二擋墻的高度等于除了電極引出線與對應的觸控電極連接處之外的其他第一擋墻的高度，在除了形成鏤空區(qū)域處之外的第二擋墻的高度等于陽極的厚度，在電極引出線與對應的觸控電極連接處的第一擋墻的高度等于陽極和發(fā)光層的厚度之和。

在具體實施時，步驟S500可以執(zhí)行于步驟S501之前，即在形成各電致發(fā)光子像素區(qū)域內(nèi)的陽極之前形成第一擋墻和第二擋墻，這樣便于在制作第一擋墻和第二擋墻之后統(tǒng)一采用噴墨打印設備依次制作陽極、發(fā)光層和陰極?；蛘?，步驟S500也可以執(zhí)行于形成各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極之后，此時，一般 采用和形成第一(第二)擋墻相類似的構(gòu)圖工藝和刻蝕工藝形成各電致發(fā)光子像素區(qū)域的陽極，之后統(tǒng)一采用噴墨打印設備依次制作發(fā)光層和陰極。

并且，在本發(fā)明實施例提供上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中，在執(zhí)行步驟S500之前，一般還會采用傳統(tǒng)的構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成像素控制電路，之后在像素控制電路上形成第一擋墻和第二擋墻的圖形。

在具體實施時，可以采用和制作像素控制電路相類似的構(gòu)圖工藝形成第一擋墻和第二擋墻的圖形，之后通過預先對陽極、發(fā)光層和陰極各層厚度以及打印所需的材料計量，設置噴墨打印設備按照設定的精度與速度進行噴墨制作這些膜層。由于各層的功能不同，其制作材料也不盡相同，因此需要按照設定順序?qū)⒏鲗硬牧洗蛴≡谥付ǖ奈恢?，當然，具體地噴墨打印設備的噴頭數(shù)量可以是單個也可以是多個，在此不做限定。

并且，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法的步驟S500中，通過刻蝕工藝使形成的第二擋墻在將要形成的觸控電極的鏤空區(qū)域的高度大于其他區(qū)域的高度。這樣，在執(zhí)行步驟S502時，可以根據(jù)需要形成的觸控電極的鏤空區(qū)域以及第二擋墻在各區(qū)域的高度，控制噴墨打印設備中的噴頭在各第一擋墻圍城的區(qū)域內(nèi)進行設定計量液體的噴涂，之后進行烘干處理形成具有鏤空區(qū)域的觸控電極的圖形。由于第二擋墻在將要形成的觸控電極的鏤空區(qū)域的高度大于其他區(qū)域的高度，這樣，由于重力的作用噴涂的液體會從高度較高的第二擋墻處流向低處而形成鏤空區(qū)域。

并且，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法的步驟S500中，形成的第一擋墻在與將要形成的觸控電極之間的間隙對應位置具有雙層擋墻結(jié)構(gòu)；這樣，在步驟S502形成觸控電極的同時，可以在第一擋墻具有的雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處形成與對應的觸控電極連接的電極引出線。

在具體實施時，在本發(fā)明實施例提供的上述制作方法的步驟S500中，通過刻蝕工藝使形成的第一擋墻在將要形成的觸控電極與電極引出線的連接處對應的區(qū)域的高度小于其他區(qū)域的高度。這樣，在執(zhí)行步驟S502時，可以根 據(jù)需要形成的各觸控電極和電極引出線所占區(qū)域的體積以及第一擋墻和第二擋墻在各區(qū)域的高度，控制噴墨打印設備中的噴頭在各第一擋墻圍城的區(qū)域內(nèi)以及雙層擋墻結(jié)構(gòu)中間的縫隙處進行設定計量的液體噴涂，之后進行烘干處理形成所述觸控電極和所述電極引出線的圖形。

下面以一個實例具體說明本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏的制作方法中形成第一擋墻和第二擋墻的方式，在實例中，第二擋墻的高度與第一擋墻在電極引出線與對應的觸控電極連接處的高度相同，其具體步驟如下：

1、在襯底基板上形成一擋墻材料膜層和光刻膠層；

2、利用掩膜板對光刻膠進行曝光顯影，在光刻膠層中形成光刻膠完全去除區(qū)域，光刻膠完全保留區(qū)域，以及光刻膠部分保留區(qū)域；其中，光刻膠完全保留區(qū)域?qū)诜请姌O引出線與對應的觸控電極連接處的第一擋墻的區(qū)域，光刻膠部分保留區(qū)域?qū)陔姌O引出線與對應的觸控電極連接處的第一擋墻的區(qū)域以及第二擋墻的區(qū)域；

3、利用光刻膠層中光刻膠完全保留區(qū)域和光刻膠部分保留區(qū)域的遮擋，刻蝕掉光刻膠完全去除區(qū)域處的擋墻材料膜層；

4、對光刻膠層進行灰化處理，去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠層，并減薄光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠層；

5、利用光刻膠層中減薄處理后的光刻膠完全保留區(qū)域的遮擋，對光刻膠部分保留區(qū)域處的擋墻材料膜層進行刻蝕處理，在此處形成第二擋墻的圖形，以及電極引出線和對應的觸控電極連接處的第一擋墻的圖形；

6、完全剝離光刻膠層，得到除了電極引出線和對應的觸控電極連接處以外的第一擋墻的圖形。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的上述內(nèi)嵌式觸摸屏。該顯示裝置可以為：手機、平板電腦、電視機、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。該顯示裝置的實施可以參見上述內(nèi)嵌式觸摸屏的實施例，重復之處不 再贅述。

本發(fā)明實施例提供的一種內(nèi)嵌式觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，在OLED面板的發(fā)光層之上設置呈矩陣排列的相互絕緣的多個觸控電極，且各觸控電極之間的間隙位于電致發(fā)光子像素區(qū)域的間隙處，各觸控電極覆蓋至少一個電致發(fā)光子像素區(qū)域且復用作為被覆蓋的電致發(fā)光子像素區(qū)域的陰極。本發(fā)明實施例提供的內(nèi)嵌式觸摸屏基于OLED面板，將其陰極進行分割后復用觸控電極，以實現(xiàn)內(nèi)嵌式觸控，這樣可以降低觸控顯示裝置的厚度，利于產(chǎn)品的輕薄化設計。并且，在制作基于OLED面板的內(nèi)嵌式觸摸屏時，采用噴墨打印的方式形成復用作為觸控電極的陰極，可以有效地簡化基于OLED面板的觸摸屏的制作工藝，降低生產(chǎn)成本。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。