復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及觸控裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及觸控裝置，包含一透明基板、一抗反射層及一抗眩光層。抗反射層設(shè)置于透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，該第一抗反射膜的折射率大于透明基板?？寡９鈱釉O(shè)置于抗反射層，并與透明基板分別位于抗反射層的兩相反側(cè)。該抗眩光層的折射率小于該第一抗反射膜，且具有一遠(yuǎn)離該抗反射層的粗糙表面。藉此，本實(shí)用新型復(fù)合基板結(jié)構(gòu)兼具抗反射、抗眩光、防污、抗磨損等功效。
【專(zhuān)利說(shuō)明】復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及觸控裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型是有關(guān)于一種復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及觸控裝置，特別是指一種具有抗反射、抗眩光、防污、耐磨損特性的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及觸控裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]觸控屏幕是目前智能型手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)、筆記計(jì)算機(jī)等各種電子產(chǎn)品常采用的顯示、輸入配備。在顯示功能部份，根據(jù)不同觸控屏幕的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，用戶(hù)觀看屏幕時(shí)可能會(huì)因?yàn)槠聊坏姆垂?、眩光等?wèn)題，而影響使用質(zhì)量。在輸入功能部分，用戶(hù)常會(huì)藉由手指或觸控筆等方式，在屏幕表面進(jìn)行訊息輸入，但如此的操作方式可能會(huì)導(dǎo)致屏幕表面遭受污損。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]因此，本實(shí)用新型之其中一目的，即在提供一種【改善先前技術(shù)的】解決上述問(wèn)題的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)。
[0004]于是，本實(shí)用新型復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，包含一透明基板、一抗反射層及一抗眩光層。該抗反射層設(shè)置于該透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，該第一抗反射膜的折射率大于該透明基板。該抗眩光層設(shè)置于該抗反射層，并與該透明基板分別位于該抗反射層的兩相反側(cè)。該抗眩光層的折射率小于該第一抗反射膜，且具有一遠(yuǎn)離該抗反射層的粗糙表面。
[0005]在部分實(shí)施態(tài)樣中，該復(fù)合基板結(jié)構(gòu)還包含一具有疏水性且厚度小于該抗眩光層的抗污層。該抗污層設(shè)置于該抗眩光層的粗糙表面，并與該抗反射層分別位于該抗眩光層的兩相反側(cè)。
[0006]較佳地，該抗污層的主要材質(zhì)為有機(jī)硅氧烷或有機(jī)全氟聚醚，其厚度介于18奈米至25奈米之間，接觸角大于90度，并以噴涂技術(shù)、蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作。
[0007]在部分實(shí)施態(tài)樣中，該抗反射層還包括一第二抗反射膜，該第二抗反射膜設(shè)置于該第一抗反射膜與該抗眩光層之間，其折射率小于該第一抗反射膜且不大于該抗眩光層。
[0008]在部分實(shí)施態(tài)樣中，該第一抗反射膜的數(shù)量為多層，且該抗反射層還包括至少一層第二抗反射膜；該第二抗反射膜的數(shù)量比該等第一抗反射膜的數(shù)量少一層，且該第二抗反射膜系與該等第一抗反射膜交錯(cuò)層迭地夾設(shè)于該等第一抗反射膜之間；該第二抗反射膜的折射率小于該第一抗反射膜的折射率并且不大于該抗眩光層的折射率。
[0009]在部分實(shí)施態(tài)樣中，該第一抗反射膜的數(shù)量為多層，且該抗反射層還包括層數(shù)對(duì)應(yīng)該等第一抗反射膜的第二抗反射膜；該等第一抗反射膜與該等第二抗反射膜系交錯(cuò)層迭，且該抗反射層是由其中一第一抗反射膜鄰接于該透明基板，并由其中一第二抗反射膜鄰接于該抗眩光層；該等第二抗反射膜的折射率小于該等第一抗反射膜的折射率并且不大于該抗眩光層的折射率。
[0010]較佳地，該第一抗反射膜的主要材質(zhì)為氧化鈮、氧化鈦、氧化鉭、氮氧化硅或氮化硅，該第二抗反射膜的主要材質(zhì)為氧化硅或氟化鎂。
[0011]較佳地，該第一抗反射膜的折射率大于1.8,該第二抗反射膜的折射率小于1.5。
[0012]較佳地，該第一抗反射膜的厚度介于115奈米至245奈米之間，該第二抗反射膜的厚度介于10奈米至110奈米之間。較佳地，該第一抗反射膜與該第二抗反射膜是藉由蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作。
[0013]較佳地，該抗反射層的厚度介于225奈米至255奈米之間。
[0014]較佳地，該抗眩光層的主要材質(zhì)為二氧化硅，其厚度不大于100奈米，表面粗糙度不大于100奈米且該表面粗糙度的數(shù)值不大于該抗眩光層的厚度，而且該抗眩光層是藉由噴涂技術(shù)并配合蝕刻技術(shù)制作。
[0015]本實(shí)用新型之其中另一目的，即在提供另一種【改善先前技術(shù)的】復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，該復(fù)合基板結(jié)構(gòu)包含一透明基板、一抗反射層、一抗眩光層及一抗污層。該抗反射層設(shè)置于該透明基板，其包括交錯(cuò)迭置的至少一第一抗反射膜及至少一第二抗反射膜，并由該第一抗反射膜與該透明基板相接。該抗眩光層具有一遠(yuǎn)離該抗反射層的粗糙表面，并與透明基板分別位于該抗反射層的兩相反側(cè)。該抗污層具有疏水性，其設(shè)置于該抗眩光層，并與該抗反射層分別位于該抗眩光層的兩相反側(cè)。其中，該第一抗反射膜的折射率系分別大于該第二抗反射膜與該透明基板的折射率，且該第二抗反射膜的折射率不大于該抗眩光層的折射率。
[0016]本實(shí)用新型之其中再一目的，在提供一種【改善先前技術(shù)的】觸控裝置，該觸控裝置包含一個(gè)如前述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)及一個(gè)觸控感測(cè)單元，該觸控感測(cè)單元設(shè)置于該透明基板未設(shè)置該抗反射層與該抗眩光層的另一側(cè)。
[0017]本實(shí)用新型之功效在于:復(fù)合基板結(jié)構(gòu)透過(guò)抗反射層、抗眩光層的設(shè)置，能提供抗反射及抗眩光的功效。而藉由抗污層的設(shè)置，則能增進(jìn)抗污及抗磨損的效果。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018]本實(shí)用新型之其他的特征及功效，將于參照?qǐng)D式的實(shí)施例詳細(xì)說(shuō)明中清楚地呈現(xiàn)，其中:
[0019]圖1是一示意圖，說(shuō)明本實(shí)用新型觸控裝置的第一實(shí)施例；
[0020]圖2是一示意圖，說(shuō)明本實(shí)用新型觸控裝置的第二實(shí)施例；
[0021]圖3是一示意圖，說(shuō)明本實(shí)用新型觸控裝置的第三實(shí)施例；
[0022]圖4是一示意圖，說(shuō)明本實(shí)用新型觸控裝置的第四實(shí)施例；及
[0023]圖5是一示意圖，說(shuō)明本實(shí)用新型觸控裝置的第五實(shí)施例。

【具體實(shí)施方式】
[0024]在本實(shí)用新型被詳細(xì)描述之前，應(yīng)當(dāng)注意在以下的說(shuō)明內(nèi)容中，類(lèi)似的組件是以相同的編號(hào)來(lái)表不。【註:若僅有一個(gè)實(shí)施例或多個(gè)實(shí)施例皆?huà)?cǎi)用不同的編號(hào)系統(tǒng)，貝?此段落刪除】
[0025]第一實(shí)施例:
[0026]參閱圖1，為本實(shí)用新型觸控裝置I的第一實(shí)施例，該觸控裝置I可以應(yīng)用于智能型手機(jī)、平板計(jì)算機(jī)、筆記計(jì)算機(jī)、顯示器等電子裝置，但不以此等應(yīng)用方式為限。
[0027]具體來(lái)說(shuō)，本實(shí)施例的觸控裝置I系包含一復(fù)合基板結(jié)構(gòu)2及一觸控感測(cè)單元3。復(fù)合基板結(jié)構(gòu)2系供觸控感測(cè)單元3設(shè)置其下，并包括一透明基板21、一抗反射層22及一抗眩光層23。
[0028]透明基板21可采用玻璃制作，以作為觸控裝置I的保護(hù)玻璃(cover glass)結(jié)構(gòu)。但是，在不同的實(shí)施態(tài)樣中，透明基板21還可采用乙烯對(duì)苯二甲酸酯、聚醚砜、聚丙烯酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、聚烯丙基、聚碳酸酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯等硬質(zhì)或軟質(zhì)材料制作，而不以特定材質(zhì)為限。
[0029]抗反射層22設(shè)置于透明基板21上，其包括一第一抗反射膜221，該第一抗反射膜221的折射率(index of refract1n)大于透明基板21,且較佳的厚度范圍介于225奈米至255奈米之間，因此能藉由此折射率特性及厚度設(shè)定讓反射光線(xiàn)形成破壞性干涉，有效降低反射光線(xiàn)的強(qiáng)度，而提供抗反射之效果。
[0030]進(jìn)一步來(lái)說(shuō),本實(shí)施例中第一抗反射膜221是以氧化銀、氧化鈦、氧化鉭、氮氧化硅或氮化硅等材質(zhì)，藉由蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)進(jìn)行制作。根據(jù)此等材質(zhì)的選用，第一抗反射膜221的折射率范圍系大于1.8，如此能獲得較佳的抗反射效果。然而，在不同的實(shí)施態(tài)樣中，第一抗反射膜221的材質(zhì)、折射率、厚度及制作方式，都可視需要而調(diào)整，不以此處揭露的內(nèi)容為限。
[0031]抗眩光層23設(shè)置于抗反射層22上，并與透明基板21分別位于抗反射層22的兩相反側(cè)，其具有一粗糙表面231，且折射率小于第一抗反射膜221，并具有不大于100奈米的厚度。
[0032]本實(shí)施例中，抗眩光層23是以氧化硅等材質(zhì)，藉由噴涂技術(shù)配合蝕刻技術(shù)制作，因而形成粗糙表面231,該粗糙表面231的表面粗糙度(surface roughness)系不大于100奈米并且其數(shù)值不大于抗眩光層23的厚度。于受到光線(xiàn)照射時(shí)，
[0033]該粗糙表面231會(huì)導(dǎo)致光線(xiàn)產(chǎn)生散射之效果，因此能減緩使用者觀看觸控裝置I時(shí)的眩光問(wèn)題。然而，要特別說(shuō)明的是，在本實(shí)施例及其他實(shí)施例中，粗糙表面231雖是以規(guī)則起伏的形狀繪制，但本實(shí)用新型的粗糙表面231的表面形貌不限于此，其可以是規(guī)則起伏或不規(guī)則起伏的粗糙面，而不以圖式揭露的內(nèi)容為限。
[0034]此外，根據(jù)本實(shí)施例的抗眩光層23所采用的材質(zhì)，其折射率系小于1.5，所以抗眩光層23的折射率系小于第一抗反射膜221的折射率。而且，本實(shí)施例中抗眩光層23的較佳厚度系不大于100奈米。所以，在如此的實(shí)施態(tài)樣下，抗眩光層23除了具有前述抗眩光功能，還能由其折射率、厚度匹配于第一抗反射膜221的配合關(guān)系，與第一抗反射膜221共同形成復(fù)合型態(tài)的抗反射結(jié)構(gòu)，而同時(shí)提供抗眩光及抗反射的效果。
[0035]另一方面，觸控感測(cè)單元3系設(shè)置于透明基板21未設(shè)置抗反射層22、抗眩光層23的另一側(cè)，其內(nèi)含未圖示的遮蔽層(black mask)、觸控感應(yīng)電極、訊號(hào)傳輸線(xiàn)路等結(jié)構(gòu)，用于提供觸控感應(yīng)功能。
[0036]因此，根據(jù)上述實(shí)施態(tài)樣，觸控裝置I能藉由抗反射層22及抗眩光層23的設(shè)置，有效減緩光線(xiàn)照射于觸控裝置I表面時(shí)產(chǎn)生的反光、眩光問(wèn)題，而增進(jìn)用戶(hù)的使用質(zhì)量。
[0037]第二實(shí)施例:
[0038]參閱圖2，為本實(shí)用新型觸控裝置I的第二實(shí)施例。相較于第一實(shí)施例，本實(shí)施例的觸控裝置I還包含一抗污層24。該抗污層24具有疏水性且厚度小于抗眩光層23，其設(shè)置于抗眩光層23的粗糙表面231，并與抗反射層22分別位于抗眩光層23的兩相反側(cè)，而能在使用者藉由手指、觸控筆等方式在其表面滑擦?xí)r，減緩觸控裝置I表面受污或受損的程度。
[0039]實(shí)施例中，抗污層24主要是以有機(jī)硅氧烷或有機(jī)全氟聚醚為材質(zhì)，并藉由噴涂技術(shù)、蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作，此等材質(zhì)具有疏水及抗磨損特性，且接觸角大于90度，因能減少臟污物質(zhì)附著，提供防污之功能。
[0040]此外，本實(shí)施例中，抗污層24的較佳厚度范圍系介于18奈米至25奈米之間，此厚度能確?？刮蹖?4具有良好的光穿透性，不影響影像畫(huà)面的質(zhì)量。而且，由于抗眩光層23的粗糙表面231呈現(xiàn)高低起伏的表面形貌，若以200奈米的表面粗糙度為例，抗污層24的厚度相較于粗糙表面231的高、低落差的比例，僅占不到10%，也就是說(shuō)抗污層24相較于抗眩光層23屬于非常薄的薄膜結(jié)構(gòu)。因此，即使本實(shí)施例將抗污層24覆蓋于抗眩光層23的粗糙表面231，也不會(huì)填滿(mǎn)粗糙表面231的凹陷部分，如此會(huì)導(dǎo)致抗污層24本身隨粗糙表面231的表面形貌而同樣形成高低起伏的粗糙面，因而不影響粗糙表面231所帶來(lái)的抗眩光效果。
[0041]另一方面，物體表面的親疏水性會(huì)受到材質(zhì)本身的特性及其表面粗糙度影響。本實(shí)施例中，由于抗污層24選用的有機(jī)硅氧烷、有機(jī)全氟聚醚均為具有疏水特性的材質(zhì)，而且抗污層24又制作在粗糙表面231上而同樣形成粗糙面，所以藉由此等材質(zhì)特性及粗糙表面結(jié)構(gòu)的配合，能增進(jìn)抗污層24的疏水、防污特性，又不會(huì)影響抗反射層22及抗眩光層23所帶來(lái)的抗反射、抗眩光效果，而讓本實(shí)施例的觸控裝置I藉由抗反射層22、抗眩光層23、抗污層24的設(shè)置，提供抗反射、抗眩光、防污、耐磨損的功效。而且，由于本實(shí)施例的抗污層24是制作于粗糙表面上而非制作在平整表面上，使得抗污層24與抗眩光層23之間具有較佳的附著性，而讓抗污層24不易受到使用者的觸碰滑擦而脫落、剝離。
[0042]要特別說(shuō)明的是，關(guān)于抗污層24的實(shí)施方式，本實(shí)用新型雖只在本第二實(shí)施例說(shuō)明，但此抗污層24結(jié)構(gòu)也可以直接無(wú)歧異地應(yīng)用于其他實(shí)施例之中，而不以本實(shí)施例揭露的實(shí)施態(tài)樣為限。
[0043]第三實(shí)施例:
[0044]參閱圖3，為本實(shí)用新型觸控裝置I的第三實(shí)施例。相較于第一實(shí)施例，本實(shí)施例的觸控裝置I還包含一第二抗反射膜222，該第二抗反射膜222設(shè)置于第一抗反射膜221與抗眩光層23之間,其折射率小于第一抗反射膜221且不大于抗眩光層23,而與第一抗反射膜221配合形成多層膜型態(tài)的抗反射層22。
[0045]具體來(lái)說(shuō)，本實(shí)施例中第二抗反射膜222主要是以氧化硅或氟化鎂為材質(zhì)，藉由蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作，其折射率系小于1.5，而且較佳的厚度范圍介于10奈米至15奈米之間。所以，在此實(shí)施態(tài)樣下，第二抗反射膜222、透明基板21的反射率各小于第一抗反射膜221的折射率，而且第二抗反射膜222、第一抗反射膜221兩者能在折射率、厚度匹配的關(guān)系下，有效減緩?fù)该骰?1的反光問(wèn)題。
[0046]另一方面，若本實(shí)施例以氧化娃制作第二抗反射膜222,則第二抗反射膜222與抗眩光層23系為相同材質(zhì)。就制作順序來(lái)說(shuō)，第二抗反射膜222會(huì)先于抗眩光層23制作。由于第二抗反射膜222是以蒸鍍、濺鍍等真空鍍膜方式制作，即使其與第一抗反射膜221為不同材質(zhì)，兩者之間仍能保持良好的附著強(qiáng)度。隨后，以噴涂技術(shù)在第二抗反射膜222上制作抗眩光層23時(shí)，由于第二抗反射膜222、抗眩光層23為相同材質(zhì)，因此兩者之間能保持良好的附著強(qiáng)度。所以，若本實(shí)施例中的第二抗反射膜222與抗眩光層23均采用氧化硅制作，于制作時(shí)第二抗反射膜222可采用如前述介于10奈米至15奈米之間的較薄的厚度，并與材質(zhì)相同但厚度較厚的抗眩光層23相互配合，而能與第一抗反射膜221配合形成多層膜型態(tài)的抗反射結(jié)構(gòu)。在此實(shí)施態(tài)樣中，第二抗反射膜222除了作為提供抗反射功能的光學(xué)膜，還能進(jìn)一步作為第一抗反射膜221與抗眩光層23之間的接著層(adhesive layer)。
[0047]第四實(shí)施例:
[0048]參閱圖4，為本實(shí)用新型觸控裝置I的第四實(shí)施例。相較于第三實(shí)施例，本實(shí)施例的第一抗反射膜221系為雙層,且第一抗反射膜221、第二抗反射膜222系交錯(cuò)層迭,并由兩層第一抗反射膜221將第二抗反射膜222夾設(shè)于中。根據(jù)此實(shí)施態(tài)樣，兩層第一抗反射膜221可以分別設(shè)定為不同的厚度，因此能控制不同波長(zhǎng)的入射光的穿透率，使得抗反射層22能對(duì)不同波長(zhǎng)范圍的入射光線(xiàn)提供相對(duì)應(yīng)的抗反射效果。
[0049]上述第一抗反射膜221、第二抗反射膜222除了以本實(shí)施例舉例的兩層、單層之夕卜，還可以更多層的方式實(shí)施，只要保持第一抗反射膜221的數(shù)量為多層、第二抗反射膜222的數(shù)量比第一抗反射膜221少一層的關(guān)系，即可讓第一抗反射膜221、第二抗反射膜222構(gòu)成交錯(cuò)迭置且由第一抗反射膜221將第二抗反射膜222夾設(shè)其中的實(shí)施態(tài)樣，而提供更有彈性的抗反射層22的實(shí)施方式。
[0050]第五實(shí)施例:
[0051]參閱圖5，為本實(shí)用新型觸控裝置I的第五實(shí)施例。相較于第四實(shí)施例，本實(shí)施例的第二抗反射膜222系為兩層，且第一抗反射膜221、第二抗反射膜222系交錯(cuò)層迭，并由第一抗反射膜221相接于透明基板21、第二抗反射膜222相接于抗眩光層23，如此能保持抗眩光層23、第一抗反射膜221、第二抗反射膜222、透明基板21之間的折射率匹配關(guān)系，再配合此等結(jié)構(gòu)之間的厚度設(shè)置，即能讓抗反射層22實(shí)現(xiàn)不同于前述實(shí)施例的抗反射結(jié)構(gòu)。
[0052]類(lèi)似地，本實(shí)施例的第一抗反射膜221、第二抗反射膜222的數(shù)量不以此處揭露的兩層為限，只要讓第一抗反射膜221、第二抗反射膜222的層數(shù)相互對(duì)應(yīng)，且由第一抗反射膜221鄰接于透明基板21、第二抗反射膜222鄰接于抗眩光層23即可。
[0053]此外，類(lèi)似于第三實(shí)施例，當(dāng)?shù)诙狗瓷淠?22采用氧化硅制作時(shí)，鄰接抗眩光層23的第二抗反射膜222的較佳厚度范圍系配置為介于10奈米至15奈米之間，如此能讓相同材質(zhì)且相互鄰接的抗眩光層23、第二抗反射膜222共同配合作為抗反射結(jié)構(gòu)，并能由該第二抗反射膜222作為抗眩光層23與第一抗反射膜221的接著層。
[0054]綜合前述五個(gè)實(shí)施例，本實(shí)用新型藉由多種抗反射層22、抗眩光層23、抗污層24的配合方式，提出多種復(fù)合基板結(jié)構(gòu)2的實(shí)施態(tài)樣，而能提供觸控裝置I抗反射、抗眩光、防污、抗磨損的功效，故確實(shí)能達(dá)成本實(shí)用新型的目的。
[0055]惟以上所述者，僅為本實(shí)用新型之實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本實(shí)用新型實(shí)施之范圍，即大凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專(zhuān)利范圍及專(zhuān)利說(shuō)明書(shū)內(nèi)容所作之簡(jiǎn)單的等效變化與修飾，皆仍屬本實(shí)用新型專(zhuān)利涵蓋之范圍內(nèi)。
[0056]綜上所述，雖然結(jié)合以上各個(gè)實(shí)施例揭露了本實(shí)用新型，然而其并非用以限定本實(shí)用新型。本實(shí)用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中熟悉此技術(shù)者，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，可作各種的更動(dòng)與潤(rùn)飾。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含: 一透明基板； 一抗反射層，設(shè)置于該透明基板，且包括至少一第一抗反射膜，該第一抗反射膜的折射率大于該透明基板；及 一抗眩光層，設(shè)置于該抗反射層，并與該透明基板分別位于該抗反射層的兩相反側(cè)，該抗眩光層的折射率小于該第一抗反射膜，且具有一遠(yuǎn)離該抗反射層的粗糙表面。
2.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，還包含一具有疏水性且厚度小于該抗眩光層的抗污層，該抗污層設(shè)置于該抗眩光層的粗糙表面，并與該抗反射層分別位于該抗眩光層的兩相反側(cè)。
3.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗污層的主要材質(zhì)為有機(jī)硅氧烷或有機(jī)全氟聚醚。
4.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗污層的厚度介于18奈米至25奈米之間。
5.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗污層的接觸角大于90度。
6.如權(quán)利要求2所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗污層是以噴涂技術(shù)、蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作。
7.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗反射層還包括一第二抗反射膜，該第二抗反射膜設(shè)置于該第一抗反射膜與該抗眩光層之間，其折射率小于該第一抗反射膜且不大于該抗眩光層。
8.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜的數(shù)量為多層，且該抗反射層還包括至少一層第二抗反射膜；該第二抗反射膜的數(shù)量比該等第一抗反射膜的數(shù)量少一層，且該第二抗反射膜系與該等第一抗反射膜交錯(cuò)層迭地夾設(shè)于該等第一抗反射膜之間；該第二抗反射膜的折射率小于該第一抗反射膜的折射率，并且不大于該抗眩光層的折射率。
9.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜的數(shù)量為多層，且該抗反射層還包括層數(shù)對(duì)應(yīng)該等第一抗反射膜的第二抗反射膜；該等第一抗反射膜與該等第二抗反射膜系交錯(cuò)層迭，且該抗反射層是由其中一第一抗反射膜鄰接于該透明基板，并由其中一第二抗反射膜鄰接于該抗眩光層；該等第二抗反射膜的折射率小于該等第一抗反射膜的折射率，并且不大于該抗眩光層的折射率。
10.如權(quán)利要求7或8或9所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜的主要材質(zhì)為氧化鈮、氧化鈦、氧化鉭、氮氧化硅或氮化硅，該第二抗反射膜的主要材質(zhì)為氧化硅或氟化鎂。
11.如權(quán)利要求7或8或9所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜的折射率大于1.8,該第二抗反射膜的折射率小于1.5。
12.如權(quán)利要求7或8或9所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜的厚度介于115奈米至245奈米之間，該第二抗反射膜的厚度介于10奈米至110奈米之間。
13.如權(quán)利要求7或8或9所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該第一抗反射膜與該第二抗反射膜是藉由蒸鍍技術(shù)或?yàn)R鍍技術(shù)制作。
14.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗反射層的厚度介于225奈米至255奈米之間。
15.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗眩光層的主要材質(zhì)為二氧化硅。
16.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗眩光層的厚度不大于100奈米。
17.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗眩光層之粗糙表面的表面粗糙度不大于100奈米且該表面粗糙度的數(shù)值不大于該抗眩光層的厚度。
18.如權(quán)利要求1所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其中，該抗眩光層是藉由噴涂技術(shù)并配合蝕刻技術(shù)制作。
19.一種復(fù)合基板結(jié)構(gòu)，其特征在于，包含: 一透明基板； 一抗反射層，設(shè)置于該透明基板，其包括交錯(cuò)迭置的至少一第一抗反射膜及至少一第二抗反射膜，并由該第一抗反射膜與該透明基板相接； 一抗眩光層，具有一遠(yuǎn)離該抗反射層的粗糙表面，并與該透明基板分別位于該抗反射層的兩相反側(cè)；及 一抗污層，具有疏水性，其設(shè)置于該抗眩光層，并與該抗反射層分別位于該抗眩光層的兩相反側(cè)， 其中，該第一抗反射膜的折射率系分別大于該第二抗反射膜與該透明基板的折射率，且該第二抗反射膜的折射率不大于該抗眩光層的折射率。
20.一種觸控裝置，包含: 一如請(qǐng)求項(xiàng)1或19所述的復(fù)合基板結(jié)構(gòu) '及 一觸控感測(cè)單元，設(shè)置于該透明基板未設(shè)置該抗反射層與該抗眩光層的另一側(cè)。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK204102114SQ201420474264
【公開(kāi)日】2015年1月14日 申請(qǐng)日期:2014年8月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月21日
【發(fā)明者】許毅中, 徐國(guó)書(shū), 張春勇 申請(qǐng)人:宸鴻科技(廈門(mén))有限公司