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具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏的制作方法

文檔序號:6387791閱讀:152來源:國知局
專利名稱:具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏的制作方法
技術領域
本實用新型涉及觸摸領域技木,尤其是指ー種具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏。
背景技術
如圖I所示,傳統(tǒng)觸摸屏包括玻璃基板10'、白色遮蔽層20'、灰色遮蔽層30'、金屬連接線40'和導電感應層50'。這種多層膜反射結(jié)構在使用白色遮蔽層20'時,會面臨光學密度(OD)不足、白度不夠白等問題。若提高白色遮蔽層20'厚度或重復多層涂上白色遮蔽層20'以達到合適之遮光度及白度,則會面臨后續(xù)導電感應層50'制程跨越高厚 度白色遮蔽層20'時,易發(fā)生導電感應層50'斷裂的問題。

實用新型內(nèi)容有鑒于此,本實用新型針對現(xiàn)有技術存在之缺失,其主要目的是提供ー種具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其解決導電感應層斷裂的問題,使多層飾材不局限于黑色,白色甚至其它顏色材料都可以設計生產(chǎn),從而克服現(xiàn)有技術的不足。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型采用如下之技術方案ー種具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,包括玻璃基板、金屬連接線和導電感應層,其特征在于該玻璃基板的表面設置有遮蔽層,且該遮蔽層表面上鍍有一高反射層,該金屬連接線設于該高反射層上。優(yōu)選的,所述高反射層是采用多層高折射率薄膜與多層低折射率薄膜間隔堆疊形成的堆疊結(jié)構。優(yōu)選的,所述堆疊結(jié)構的厚度為Ium 2um。優(yōu)選的,所述高折射率薄膜為五氧化ニ鈮薄膜,所述低折射率薄膜為ニ氧化硅薄膜。優(yōu)選的,所述遮蔽層為有色或無色干膜層、光阻層或油墨層。優(yōu)選的,所述遮蔽層的厚度為5um。本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果,具體而言,由上述技術方案可知,其主要是以濺鍍方式鍍上高反射層,使光線透過遮蔽層后反射出明亮的白色,在高反射率低透光率的情況下,可完整遮蔽后方之金屬連接線,從而遮蔽層的材料不局限于黒色,白色甚至其它顏色材料都可以設計生產(chǎn)。另外,因使用薄膜濺射方式,高折射率薄膜和低折射率薄膜形成的堆疊總厚度將不超過2um,使得導電感應層在跨接時,不易產(chǎn)生斷線,進一歩解決導電感應層斷裂的問題。為更清楚地闡述本實用新型的結(jié)構特征和功效,
以下結(jié)合附圖與具體實施例來對本實用新型進行詳細說明。

圖I是傳統(tǒng)之傳統(tǒng)觸摸屏結(jié)構示意圖;[0015]圖2是本實用新型之具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏結(jié)構示意圖。附圖標識說明10'、玻璃基板20'、白色遮蔽層30'、灰色遮蔽層40'、金屬連接線50'、導電感應層10、玻璃基板20、遮蔽層30、金屬連接線40、導電感應層50、高反射層51、高折射率薄膜 52、低折射率薄膜。
具體實施方式
請參照圖2所示,其顯示出了本實用新型之較佳實施例的具體結(jié)構,包括有玻璃基板10、遮蔽層20、金屬連接線30、導電感應層40和高反射層50,該玻璃基板10位于產(chǎn)品的最底層,該遮蔽層20設置在玻璃基板10的上表面,該高反射層50是以濺鍍方式鍍在遮蔽層20的表面上,金屬連接線30設置在高反射層50上,導電感應層40臺階式地跨接在玻璃基板10、遮蔽層20、金屬連接線30和高反射層50之間。其中,該遮蔽層20為有色或無色干膜層、光阻層或油墨層,且遮蔽層20的厚度為5um。該高反射層50的可見光波長反射率大于97%,使光線透過遮蔽層20后反射出明亮的白色,在高反射率低透光率的情況下,可完整遮蔽后方金屬連接線30。高反射層50的成膜方式是使用多層高折射率薄膜51與低折射率薄膜52作堆疊濺渡,本實施例中,高折射率薄膜51采用五氧化ニ鈮(Nb205),低折射率薄膜52采用ニ氧化硅(Si02)。為了更形象地表達高折射率薄膜51與低折射率薄膜52的堆疊結(jié)構,可假設高折射率薄膜51的代號為H,低折射率薄膜52的代號為L,即HLHLHLH. ... LH的方式,依nd=1/4 A的基本光學原理,設計不同的成膜厚度使得可見光全波長(400nm 700nm)下反射率接近99%。因使用薄膜濺射方式,高折射率薄膜51和低折射率薄膜52形成的堆疊總厚度將不超過2um,一般情況下堆疊總厚度在Ium 2um,使得導電感應層40在跨接時,不易產(chǎn)生斷裂的問題。綜上所述,本實用新型的設計重點在于,其主要是以濺鍍方式鍍上高反射層,提高光線反射率,在高反射率低透光率的情況下,可完整遮蔽連接導電感應層的金屬連接線,從而實現(xiàn)遮蔽層的材料不局限于黑色,白色甚至其它顏色材料都可以設計生產(chǎn)。另外,因使用薄膜濺射方式,高折射率薄膜和低折射率薄膜形成的堆疊總厚度將不超過2um,使得導電感應層在跨接吋,不易產(chǎn)生斷裂,進ー步解決斷裂的問題。以上所述,僅是本實用新型的較佳實施例而已,并非對本實用新型的技術范圍作任何限制,故凡是依據(jù)本實用新型的技術實質(zhì)對以上實施例所作的任何細微修改、等同變化與修飾,均仍屬于本實用新型技術方案的范圍內(nèi)。
權利要求1.一種具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,包括玻璃基板、金屬連接線和導電感應層,其特征在于該玻璃基板的表面設置有遮蔽層,且該遮蔽層表面上鍍有一高反射層,該金屬連接線設于該高反射層上。
2.根據(jù)權利要求I所述的具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其特征在于所述高反射層是采用多層高折射率薄膜與多層低折射率薄膜間隔堆疊形成的堆疊結(jié)構。
3.根據(jù)權利要求2所述的具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其特征在于所述堆疊結(jié)構的厚度為Ium 2um。
4.根據(jù)權利要求2所述的具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其特征在于所述高折射率薄膜為五氧化二鈮薄膜,所述低折射率薄膜為二氧化硅薄膜。
5.根據(jù)權利要求I所述的具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其特征在于所述遮蔽層為有色或無色干膜層、光阻層或油墨層。
6.根據(jù)權利要求5所述的具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,其特征在于所述遮蔽層的厚度為5um。
專利摘要本實用新型公開一種具有多層膜反射結(jié)構的觸摸屏,包括玻璃基板、金屬連接線和導電感應層,其特征在于該玻璃基板的表面設置有遮蔽層,且該遮蔽層表面上鍍有一高反射層,該金屬連接線設于該高反射層上。籍此,提高光反射率,在高反射率低透光率的情況下,可完整遮蔽位于遮蔽層之后的金屬連接線,另外,因使用薄膜濺射方式,高折射率薄膜和低折射率薄膜形成的堆疊總厚度將不超過2um,使得導電感應層在跨接時,不易產(chǎn)生斷裂,進一步解決導電感應層斷裂的問題。
文檔編號G06F3/041GK202404554SQ20122007552
公開日2012年8月29日 申請日期2012年3月1日 優(yōu)先權日2012年3月1日
發(fā)明者彭思翔, 蘇毓勛, 邱建泰, 陳猷仁 申請人:祥達光學(廈門)有限公司
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