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等離子體顯示設(shè)備的制作方法

文檔序號:6541664閱讀:205來源:國知局
專利名稱:等離子體顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種等離子體顯示設(shè)備,尤其涉及一種具有安裝在機架座上的加強元件的等離子體顯示設(shè)備。
背景技術(shù)
一般地,等離子體顯示設(shè)備是平板顯示設(shè)備。它的顯示板利用放電空間中由氣體放電生成的紫外線發(fā)射的光形成圖像。該等離子體顯示設(shè)備可以是幾厘米厚,可具有大屏幕和大約150°或更大的寬視角。
為了制造等離子體顯示設(shè)備,前面板和后面板可連接在一起,機架座可與結(jié)合在一起的面板的后部相連接,電路板可安裝在機架座上。
由于機架座將面板生成的熱量放出并支撐面板,典型地,機架座可由具有高熱傳導性的金屬,例如鋁制成。
為了獲得較薄的等離子體顯示設(shè)備,機架座應(yīng)是薄的。但是,如果作成薄的,就不能適當?shù)刂蚊姘?。因此,可將加強元件安裝在機架座后側(cè),以避免其扭轉(zhuǎn)或彎曲。
多重加強元件可安裝在機架座后側(cè)。然而,加強元件在機架座后部與其它元件例如電路板共用有限的空間。因此,過多的加強元件會增加設(shè)計和制造過程的難度,還會增加成本。
因此,加強元件應(yīng)采用最優(yōu)的設(shè)計,使其能適當?shù)匕惭b在機架座上可用的有限空間中。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供等離子體顯示設(shè)備的加強元件,可通過較少的元件提供較強的加固性,由此降低設(shè)備的制造成本。
本發(fā)明另外的特征將在下面的描述中闡明,根據(jù)描述部分將是顯而易見,或通過實施本發(fā)明得以了解。
本發(fā)明披露了一種等離子體顯示設(shè)備,包括顯示面板,與顯示面板后部相連的機架座,以及加強元件。該加強元件包括與機架座相連的底部和從底部彎曲的延伸部分。該延伸部分的截面厚度與底部的截面厚度不同。
可以理解前面的概括描述和下面的具體描述是典型的和解釋性的,其目的在于提供如權(quán)利要求所述的本發(fā)明的進一步解釋。


提供對本發(fā)明的進一步解釋并被結(jié)合進來的附圖,構(gòu)成該說明書的一部分,闡明了本發(fā)明的實施例并與描述一起用來說明本發(fā)明的原理。
圖1是表示按照本發(fā)明典型實施例的等離子體顯示設(shè)備的分解透視圖。
圖2是加強元件沿圖1中II-II’線的橫剖視圖。
圖3是圖2所示的加強元件的另一個典型實施例的橫剖視圖。
圖4是加強元件沿圖1中IV-IV’線的橫剖視圖。
圖5是圖4所示的加強元件的另一個典型實施例的橫剖視圖。
具體實施例方式
圖1是表示按照本發(fā)明典型實施例的等離子體顯示設(shè)備的分解透視圖。參見圖1,等離子體顯示設(shè)備100可包括面板111、與面板111相連的機架座112、以及安裝在機架座112后側(cè)的電路板113。
面板111包括前面板和后面板。前面板可包括多個條形維持電極、與每個維持電極相連的總線電極、覆蓋維持電極和總線電極的前部介電層、以及覆蓋前部介電層的保護層。
后面板朝向前面板,它可包括多個與維持電極相垂直設(shè)置的地址電極、覆蓋地址電極的后部介電層、在后部介電層上形成以定義放電空間并防止串擾的阻擋肋(barrier ribs)、以及覆蓋后部介電層和阻擋肋各個面的紅、綠、藍熒光層。電磁干擾過濾器可安裝在面板111的整個表面上,以防止電磁波傷害觀看者。
機架座112可設(shè)置在面板111后部,以支撐面板并放出從中傳輸?shù)臒崃俊?br> 粘合元件115,例如雙面帶,可將面板111與機架座112相連。面板散熱元件114(即熱傳導介質(zhì))可設(shè)置在面板111和機架座112之間。它將面板111中生成的熱量通過機架座112散發(fā)出去。
電路板113可安裝在機架座112后部,并可容納用于驅(qū)動面板111的電子元件。該電子元件可包括各種元件,例如用于向面板供電的元件和用于向面板傳輸圖像生成信號的元件。面板111、機架座112和電路板113可容納在一箱體中(未示出)。
加強元件120和130可安裝在機架座112后側(cè),以防止機架座112扭轉(zhuǎn)或彎曲。
為了增強機架座112的加固性,加強元件120和130可包括安裝在機架座中央的中央加強元件120和安裝在機架座邊緣的側(cè)面加強元件130。
中央加強元件120可包括沿機架座112寬度方向安裝的橫向加強元件和沿機架座112長度方向安裝的縱向加強元件。類似地,側(cè)面加強元件130可包括橫向加強元件和縱向加強元件。如上所述,電路板113可安裝在機架座112后側(cè),并處于加強元件120和130之間。
加強元件120和130可關(guān)于機架座112后側(cè)對稱設(shè)置,以便更均勻地分配加強元件120和130中由于外力或者熱膨脹產(chǎn)生的壓力。
為了穩(wěn)定地支撐機架座112,加強元件120和130可由剛性材料構(gòu)成??墒褂娩X、鋼或其它剛性和可使用的材料。
加強元件120和130可具有各種截面結(jié)構(gòu)。例如,圖2是加強元件120沿圖1中II-II’線的剖視圖。
參見圖2,加強元件120包括可連接于機架座112的底部121和從底部121彎曲的延伸部分122。T1是底部121的截面厚度,T2是延伸部分122的截面厚度,且T1不等于T2。
由于底部121的截面厚度T1對機架座剛度的影響不明顯,因此,與延伸部分122的截面厚度T2不同,底部121可設(shè)置為機架座112厚度的大約0.75至1.5倍。
延伸部分122的截面厚度T2可大于底部121的截面厚度T1。
當截面厚度T2增大時,加強元件120的重量也增大。這樣,截面厚度T2與截面厚度T1之比在大約1.2至3的范圍內(nèi)。此外,加強元件120可擠壓成型,得到上述截面結(jié)構(gòu)。
當截面厚度T2增大時,機架座的慣性面積矩和加固性也增大,由此提供更硬的機架座112并使其扭轉(zhuǎn)度和彎曲度最小。
這種效果在表1中表示,該表顯示了根據(jù)延伸部分122的截面厚度T2的機架座剛度的測量值。
表1

機架座112的剛度由施加于機架座的的重量引起的刻度偏差決定。假定當T2=T1時,剛度為100%,表1表示當T2增大時,機架座也變硬。
圖3表示加強元件120的一種替代截面結(jié)構(gòu)。
參見圖3,階梯部分123可在加強元件120的延伸部分122中形成。圖3表示階梯部分123的截面厚度T3,它小于延伸部分122的截面厚度T2。但是T3也可大于T2。
階梯部分123可在延伸部分122的一部分中形成,截面厚度T2與截面厚度T3之比在大約0.8至2的范圍內(nèi)。
圖4是加強元件130沿圖1中IV-IV線的剖視圖。
參見圖4,加強元件130可包括底部131、延伸部分132、以及連接部分133。底部131可包括第一和第二底部131a和131b,通過間隔相互分離,并與底部112相連。延伸部分132可包括第一和第二延伸部分132a和132b,分別從第一和第二底部131a和131b彎曲,連接部分133將第一和第二延伸部分132a和132b相連。
T4是第一和第二底部131a和131b的截面厚度,T5是第一和第二延伸部分132a和132b的截面厚度,T4不等于T5。
與前一典型實施例類似,第一和第二底部131a和131b的截面厚度T4大約是機架座112厚度的0.75至1.5倍。
截面厚度T5大于截面厚度T4。此外,連接部分133的截面厚度T7等于或約等于第一和第二底部131a和131b的截面厚度T4。
當截面厚度T5增大時,加強元件130的重量也增大。因此,截面厚度T5與截面厚度T4之比在大約1.2至3的范圍內(nèi)。此外,加強元件130可擠壓成型,得到上述截面結(jié)構(gòu)。
當截面厚度T5增大時,機架座的慣性面積矩和加固性也增大,由此使面板更硬,并使其扭轉(zhuǎn)度和彎曲度最小。
圖5表示加強元件130的一種替代截面結(jié)構(gòu)。
參見圖5,階梯部分134可在加強元件130的延伸部分132中形成。換句話說,第一和第二階梯部分134a和134b可在第一和第二延伸部分132a和132b中形成。圖5表示第一和第二延伸部分132a和132b的截面厚度T5,它大于第一和第二階梯部分134a和134b的截面厚度T6。但是第一和第二階梯部分134a和134b的截面厚度T6也可大于每個第一和第二延伸部分132a和132b的截面厚度T5。
第一和第二階梯部分134a和134b可在第一和第二延伸部分132a和132b的部分中形成,第一和第二延伸部分132a和132b的截面厚度T5與第一和第二階梯部分134a和134b的截面厚度T6之比在大約0.8至2的范圍內(nèi)。
如上所述,在按照本發(fā)明典型實施例的等離子體顯示設(shè)備中,加強元件可包括具有增大慣性面積矩的截面結(jié)構(gòu),從而使機架座更硬,并使其扭轉(zhuǎn)度和彎曲度最小??砂惭b合適數(shù)目的加強元件使機架座的加固性最大。此外,加強元件可安裝在機架座的合適位置,從而增加機架座后側(cè)的空間利用率。此外,機架座的制造成本也可以減小。
對本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說顯而易見,在本發(fā)明中實施的多種修改和變化是不脫離本發(fā)明的要旨和范圍的。因此,本發(fā)明意圖覆蓋附加的權(quán)利要求及其同等表述范圍內(nèi)的修改和變化。
權(quán)利要求
1.一種等離子體顯示設(shè)備,包括顯示面板;與顯示面板后部相連的機架座;以及加強元件,其特征在于,該加強元件包括與機架座相連的底部;和從底部彎曲的延伸部分,其中,該延伸部分的截面厚度與底部的截面厚度不同。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示設(shè)備,其中,底部的截面厚度是T1;延伸部分的截面厚度是T2;以及T2與T1之比大約在1.2至3的范圍內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,T1與底部厚度之比大約在0.75至1.5的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求2所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,加強元件進一步包括在延伸部分中形成的階梯部分。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子體顯示設(shè)備,其中,階梯部分的截面厚度是T3;以及T2與T3之比大約在0.8至2的范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示設(shè)備,其中,加強元件進一步包括連接部分;底部包括通過間隔相互分離的第一底部和第二底部;延伸部分包括分別從第一底部和第二底部彎曲的第一延伸部分和第二延伸部分;以及連接部分將第一延伸部分和第二延伸部分相連。
7.如權(quán)利要求6所述的等離子體顯示設(shè)備,其中,底部的截面厚度是T4;延伸部分的截面厚度是T5;以及T5與T4之比大約在1.2至3的范圍內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,加強元件進一步包括在第一延伸部分和第二延伸部分至少其中之一內(nèi)形成的階梯部分。
9.如權(quán)利要求8所述的等離子體顯示設(shè)備,其中,階梯部分的截面厚度是T6;以及T5與T6之比大約在0.8至2的范圍內(nèi)。
10.如權(quán)利要求6所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,底部的截面厚度和連接部分的截面厚度彼此相等。
11.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,加強元件是擠壓成型的。
12.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,加強元件包括在機架座邊緣形成的側(cè)面加強元件。
13.如權(quán)利要求12所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,加強元件進一步包括安裝在底部中央的中央加強元件。
14.如權(quán)利要求1所述的等離子體顯示設(shè)備,其特征在于,底部和延伸部分形成基本垂直的角。
全文摘要
一種等離子體顯示設(shè)備,包括顯示面板、與顯示面板后部相連的機架座、以及加強元件。該加強元件包括與機架座相連的底部和從底部彎曲的延伸部分。該延伸部分的截面厚度與底部的截面厚度不同。
文檔編號G06F1/16GK1658256SQ20051005657
公開日2005年8月24日 申請日期2005年2月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年2月18日
發(fā)明者金石山 申請人:三星Sdi株式會社
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