專利名稱:一種高透光率電阻式觸摸屏的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開一種高透光率電阻式觸摸屏,包括上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間設(shè)有數(shù)根間隔支撐柱,上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間通過雙面膠層連接,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件包括從上到下依次設(shè)置的聚酯薄膜層、SiO2層、上MgF2層和上ITO層,所述下導(dǎo)電玻璃組件包括從上到下依次設(shè)置的下ITO層、玻璃基板層、ZrO2層和下MgF2層。本實用新型上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件表面濺鍍了多層光學(xué)薄膜,光線透過時,由折射指數(shù)小的界面進(jìn)入這是指數(shù)大的界面,反射光強(qiáng)度減少,根據(jù)能量守恒,透射光得到了增強(qiáng)。根據(jù)本實用新型技術(shù)制作的產(chǎn)品其透光率≥93%。
【專利說明】
一種高透光率電阻式觸摸屏
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型屬于觸摸屏領(lǐng)域,具體涉及一種高透光率電阻式觸摸屏。
【背景技術(shù)】
[0002]目前所廣泛使用的電阻式觸摸屏上層為聚酯薄膜,聚酯薄膜內(nèi)層鍍有ΙΤ0,下層為玻璃,玻璃內(nèi)層鍍有ΙΤ0,光線透過觸摸屏?xí)r,經(jīng)過4界面多次反射,觸摸屏光線透過率在75 % -84 %范圍內(nèi),透光率較差。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型所要解決的技術(shù)問題便是針對上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種高透光率電阻式觸摸屏,反射光強(qiáng)度減少,根據(jù)能量守恒,透射光得到了增強(qiáng)。
[0004]本實用新型所采用的技術(shù)方案是:一種高透光率電阻式觸摸屏,包括上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間設(shè)有數(shù)根間隔支撐柱,上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間通過雙面膠層連接,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件包括從上到下依次設(shè)置的聚酯薄膜層、S12層、上MgF2層和上ITO層,所述下導(dǎo)電玻璃組件包括從上到下依次設(shè)置的下ITO層、玻璃基板層、ZrO2層和下MgF2層。
[0005]作為優(yōu)選,所述雙面膠層厚度為80μπι。
[0006]作為優(yōu)選,所述聚酯薄膜層厚度為0.188mm。
[0007]作為優(yōu)選,所述S12層厚度為20nm。
[0008]作為優(yōu)選,所述上MgF2層厚度為10nm。
[0009]作為優(yōu)選,所述上ITO層厚度為30nmo
[0010]作為優(yōu)選,所述下ITO層厚度為30nm。
[0011]作為優(yōu)選,所述玻璃基板層厚度為1.1mm。
[0012]作為優(yōu)選,所述Zr02層厚度為1nm0
[0013]作為優(yōu)選,所述下MgF2層厚度為10nm。
[0014]本實用新型的有益效果在于:上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件表面濺鍍了多層光學(xué)薄膜,光線透過時,由折射指數(shù)小的界面進(jìn)入這是指數(shù)大的界面,反射光強(qiáng)度減少,根據(jù)能量守恒,透射光得到了增強(qiáng)。根據(jù)本實用新型技術(shù)制作的產(chǎn)品其透光率多93%。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型橫截面圖。
[0016]圖中:1、玻璃基板層;2、Zr02層;3、下MgF2層;4、下ITO層;5、雙面膠層;6、聚酯薄膜層;7、Si02層;8、上MgF2層;9、上ITO層;10、間隔支撐柱。
【具體實施方式】
[0017]下面將結(jié)合附圖及具體實施例對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0018]如圖1所示,一種高透光率電阻式觸摸屏,包括上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間設(shè)有數(shù)根間隔支撐柱10,上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間通過雙面膠層5連接,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件包括從上到下依次設(shè)置的聚酯薄膜層6、Si02層7、上MgF2層8和上ITO層9,所述下導(dǎo)電玻璃組件包括從上到下依次設(shè)置的下ITO層4、玻璃基板層1、ZrO2層2和下MgF2層3。
[0019]本實施例中,所述雙面膠層5厚度為80μπι。
[0020]本實施例中,所述聚酯薄膜層6厚度為0.188mm。
[0021]本實施例中,所述S12層7厚度為20nm。
[0022]本實施例中,所述上MgF2層8厚度為10nm。
[0023]本實施例中,所述上ITO層9厚度為30nm。
[0024]本實施例中,所述下ITO層4厚度為30nm。
[0025]本實施例中,所述玻璃基板層I厚度為1.1mm。
[0026]本實施例中,所述ZrO2層2厚度為10nm。
[0027]本實施例中,所述下MgF2層3厚度為10nm。
[0028]其中,ZrO2層2光折射指數(shù)2.1,下MgF2層3光折射指數(shù)1.31,S12層7光折射指數(shù)為1.54ο
[0029]上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件表面濺鍍了多層光學(xué)薄膜,光線透過時,由折射指數(shù)小的界面進(jìn)入這是指數(shù)大的界面,反射光強(qiáng)度減少,根據(jù)能量守恒,透射光得到了增強(qiáng)。根據(jù)本實用新型技術(shù)制作的產(chǎn)品其透光率多93%。
【主權(quán)項】
1.一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:包括上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間設(shè)有數(shù)根間隔支撐柱(10),上導(dǎo)電聚酯薄膜組件和下導(dǎo)電玻璃組件之間通過雙面膠層(5)連接,所述上導(dǎo)電聚酯薄膜組件包括從上到下依次設(shè)置的聚酯薄膜層(6)、Si02層(7)、上MgF2層(8)和上ITO層(9),所述下導(dǎo)電玻璃組件包括從上到下依次設(shè)置的下ITO層(4)、玻璃基板層(l)、Zr02層(2)和下MgF2層(3)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述雙面膠層(5)厚度為80μηι。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述聚酯薄膜層(6)厚度為 0.188mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述S12層(7)厚度為20nm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述上MgF2層(8)厚度為1nm。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述上ITO層(9)厚度為30nm。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述下ITO層(4)厚度為30nm。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述玻璃基板層(I)厚度為I.1mm。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述ZrO2層(2)厚度為10nm。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高透光率電阻式觸摸屏,其特征在于:所述下MgF2層(3)厚度為1nm0
【文檔編號】G06F3/045GK205721726SQ201620318339
【公開日】2016年11月23日
【申請日】2016年4月15日
【發(fā)明人】黃建華, 石濤
【申請人】黃建華, 石濤