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一種快速扇束幾何相位襯度ct成像裝置的制造方法

文檔序號:10406023閱讀:381來源:國知局
一種快速扇束幾何相位襯度ct成像裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型設(shè)及X光成像技術(shù)領(lǐng)域,特別設(shè)及一種快速扇束幾何相位襯度CT成像 裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 自倫琴發(fā)現(xiàn)X光W來,X光廣泛應(yīng)用于醫(yī)學(xué)影像、工業(yè)無損檢測等領(lǐng)域,然而,傳統(tǒng)X 光吸收成像對原子系數(shù)低的軟組織成像效果不理想。在X光照射下,物體的折射率可用復(fù)數(shù) 表示為n = l-S-iP,其中S為折射率實部減小量、0為折射率虛部。隨著原子系數(shù)減小,S和0隨 之減小,然在硬X光波段,低原子系數(shù)軟組織的折射率實部減小量S是折射率虛部0的1000倍 左右。因此,利用物體的相位信息理論上可W獲得比吸收圖像襯度高的圖像。
[0003] 目前,X光相位襯度成像已發(fā)展了五種成像方法:同軸相襯成像方法、晶體干設(shè)儀 成像方法、分析晶體成像方法、光柵相襯成像方法W及邊緣照明成像方法。光柵相襯成像方 法由于對光源相干性要求較低W及成像視場較大等特點,近年來被廣泛研究。傳統(tǒng)的光柵 相襯成像方法利用相位步進(jìn)方法完成信息分離和提取,但是相位步進(jìn)方法需要橫向移動光 柵、與CT掃描方式不兼容,導(dǎo)致相襯CT成像時間長、劑量高等弊端,不能對屯、臟等動態(tài)組織 成像。2010年,朱佩平研究員等在美國國家科學(xué)院院刊發(fā)表了一種快速光柵相襯成像方法 (PMS 107,13576- 13581,2010 )即正反投影方法,同時該方法成功申請專利 CN102325498B,然該方法只能應(yīng)用于平行束照明幾何,通常為同步福射X光源,很大程度限 制了其實際應(yīng)用。如果能把正反投影思想應(yīng)用于扇束幾何照明,將大大促進(jìn)相襯CT的應(yīng)用。 【實用新型內(nèi)容】
[0004] 本實用新型的目的在于提出一種快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,尤其適用于 醫(yī)療成像和食品檢測。在傳統(tǒng)CT掃描方式下能夠獲得相位襯度信息,進(jìn)而實現(xiàn)快速相襯CT。
[0005] 本實用新型采用的技術(shù)方案是:
[0006] -種快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,用于對物體進(jìn)行S維相襯成像,該裝置 沿光路依次包括X光源、樣品平臺、相位光柵、分析光柵W及探測器,其中:
[0007] X光源,用于向被檢測物體發(fā)射X光;
[0008] 樣品平臺,用于固定物體;
[0009] 相位光柵,為相移光柵或V2相移光柵,用于調(diào)制入射X光的波前相位;
[0010] 分析光柵,為吸收光柵,與相位光柵自成像圖像產(chǎn)生大周期莫爾條紋,便于低分辨 率探測器探測物體信息;
[0011] 探測器,用于記錄通過物體和光學(xué)系統(tǒng)的X光強度。
[0012] 優(yōu)選的,所述X光源為硬X光發(fā)射裝置。
[0013] 優(yōu)選的,所述相位光柵、分析光柵周期小于10皿。
[0014] 所述探測器像素單元尺寸范圍為20WI1~1 OOwii。
[0015] 優(yōu)選的,相位光柵、分析光柵的占空比均為0.5。
[0016]相位光柵、分析光柵W及探測器均為柱面光學(xué)元件。
[0017]相位光柵的曲率半徑為虹,位于WX光源為原點、R功半徑的圓弧上,分析光柵的曲 率半徑為R2,且位于WX光源為原點、化為半徑的圓弧上。
[0018] 進(jìn)一步的,相位光柵和分析光柵周期滿巧
關(guān)系,其中山為相位光柵 周期,Cb為分析光柵周期,Ri和R2分別為X光源到相位光柵W及相位光柵到分析光柵間的距 離。相位光柵和分析光柵間距R2滿足化化Ot距I
。
[0019] 當(dāng)相位光柵產(chǎn)生V2相移時,11=1;當(dāng)相位光柵產(chǎn)生n相移時,ri = 2eN為化化Ot自成 像級次,di為相位光柵周期,Cb為分析光柵周期,A為X光波長。
[0020] 有益效果:
[0021] 本實用新型利用與扇束幾何匹配的柱面光學(xué)元件,避免了大入射角射線受阻擋的 問題,大大提高了成像視場。同時結(jié)合正方投影思想,在傳統(tǒng)CT掃描模式下,成功提取物體 的相位信息,進(jìn)而完成快速相襯CT成像。
【附圖說明】
[0022] 圖1快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置示意圖。
【具體實施方式】
[0023] 在光柵相襯成像硬X光照明時,成像系統(tǒng)中的吸收光柵需要較大的厚度,導(dǎo)致高寬 比很大。扇束幾何照明時,大高寬比平面光柵將阻擋大入射角射線,嚴(yán)重制約成像視場。
[0024] 如圖1所示,本實用新型公開一種快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,用于對物體 進(jìn)行=維相襯成像,該裝置沿光路依次包括X光源S、樣品平臺P、相位光柵Gi、分析光柵GsW 及探測器D,其中:
[0025] X光源S用于向被檢測物體發(fā)射X光;
[0026] 樣品平臺P用于固定物體;
[0027] 相位光柵Gi為相移光柵或V2相移光柵,用于調(diào)制入射X光的波前相位;
[0028] 分析光柵G2為吸收光柵,與相位光柵Gi自成像圖像產(chǎn)生大周期莫爾條紋,便于低分 辨率探測器探測物體信息;
[0029] 在本實施例中,相位光柵Gi、分析光柵G2的占空比均為0.5。
[0030] 探測器D用于記錄通過物體和光學(xué)系統(tǒng)的X光強度,探測器D像素尺寸范圍為20皿 ~100咖。
[0031 ]相位光柵Gi、分析光柵GsW及探測器D均為柱面光學(xué)元件。
[0032] 相位光柵Gi的曲率半徑為Ri,位于WX光源S為原點、Ri為半徑的圓弧上,分析光柵 G2的曲率半徑為R2,且位于WX光源S為原點、R2為半徑的圓弧上。
[0033] 相位光柵Gi和分析光柵G2的周期小于10M1。
[0034] 相位光柵Gi和分析光柵G2周期滿足
關(guān)系,其中,di為相位光柵Gi周 期,Cb為分析光柵G2周期,Ri和R2分別為X光源巧時目位光柵Gi W及相位光柵Gi到分析光柵G2 的距離,當(dāng)相位光柵Gi產(chǎn)生V2相移時,Ii= 1;當(dāng)相位光柵Gi產(chǎn)生相移時,11 = 2。
[0035] 相位光柵Gi和分析光柵G2間距R2滿足化化Ot距離
N二\3么1…。
[0036] N為化化Ot自成像級次,di為相位光柵Gi周期,Cb為分析光柵G2周期,A為X光波長。
[0037] W上所述是本實用新型的具體實施方案,應(yīng)當(dāng)指出的是,該方案并不用于受限本 實用新型,凡在本實用新型的原理思想前提下,所做的任何修改、等同替換或改進(jìn),均應(yīng)含 在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1. 一種快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,用于對物體進(jìn)行三維相襯成像,其特征在 于,該裝置沿光路依次包括X光源(S)、樣品平臺(P)、相位光柵(Gi)、分析光柵(G 2)以及探測 器(D),其中: X光源(S ),用于向被檢測物體發(fā)射X光; 樣品平臺(P),用于固定物體; 相位光柵(G1),為31相移光柵或31/2相移光柵,用于調(diào)制入射X光的波前相位; 分析光柵(G2),為吸收光柵,與相位光柵(G1)自成像圖像產(chǎn)生大周期莫爾條紋,便于低 分辨率探測器探測物體信息; 探測器(D),用于記錄通過物體和光學(xué)系統(tǒng)的X光強度。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (Gi )、分析光柵(G2)的占空比均為0.5。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (GO、分析光柵(G2)以及探測器(D)均為柱面光學(xué)元件。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (G1)的曲率半徑為R 1,位于以X光源(S)為原點、心為半徑的圓弧上,分析光柵(G2)的曲率半 徑為R2,且位于以X光源⑶為原點、R 2為半徑的圓弧上。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (Gi)和分析光柵(G2)的周期小于ΙΟμπι。6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,探測器(D) 像素尺寸范圍為20μηι~I OOym。7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (G1)和分析光柵(G2)周期滿足關(guān)系,其中,Cl1為相位光柵(G1)周期,d 2為分析 光柵(G2)周期,Ri和R2分別為X光源⑶到相位光柵(Gi)以及相位光柵(Gi)至Ij分析光柵(G2)的 距離,當(dāng)相位光柵(G1)產(chǎn)生V2相移時,n=l;當(dāng)相位光柵(G1)產(chǎn)生π相移時,q = 2。8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,其特征在于,相位光柵 (G1)和分析光柵(G2)間距R2滿足Talbot距離=1,3,5,7· · .N為Talbot自成像 級次,di為相位光柵(Gi)周期,d2為分析光柵(G2)周期,λ為X光波長。
【專利摘要】本實用新型公開了一種快速扇束幾何相位襯度CT成像裝置,包括X光源、相位光柵、樣品平臺、分析光柵以及探測器,本實用新型采用柱面光學(xué)元件,在常規(guī)X光源照明下可以實現(xiàn)大視場成像;本實用新型利用與光線幾何匹配的柱面光學(xué)元件,避免了大入射角射線受阻擋的問題,大大提高了成像視場,同時結(jié)合正方投影思想,在傳統(tǒng)CT掃描模式下,成功提取物體的相位信息,完成了快速相襯CT成像。
【IPC分類】G01N23/04
【公開號】CN205317698
【申請?zhí)枴緾N201620017617
【發(fā)明人】吳朝, 顏天信, 汪洪波, 張猛
【申請人】合肥泰禾光電科技股份有限公司
【公開日】2016年6月15日
【申請日】2016年1月5日
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