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探測裝置及文物病害檢測設(shè)備的制造方法_2

文檔序號:9973154閱讀:來源:國知局
用新型,并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0015]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的文物病害檢測設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0016]圖2是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的文物病害檢測設(shè)備的示意圖。
[0017]在這些附圖中,使用相同的參考標(biāo)號來表示相同或相似的部分。
【具體實(shí)施方式】
[0018]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例,對本實(shí)用新型作進(jìn)一步地詳細(xì)說明。
[0019]在以下描述中,對“一個實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“一個示例”、“示例”等等的引用表明如此描述的實(shí)施例或示例可以包括特定特征、結(jié)構(gòu)、特性、性質(zhì)、元素或限度,但并非每個實(shí)施例或示例都必然包括特定特征、結(jié)構(gòu)、特性、性質(zhì)、元素或限度。另外,重復(fù)使用短語“在一個實(shí)施例中”雖然有可能是指代相同實(shí)施例,但并非必然指代相同實(shí)施例。
[0020]為簡單起見,以下描述中省略了本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的某些技術(shù)特征。
[0021]文物病害檢測設(shè)備包括:射線源、探測裝置、數(shù)據(jù)處理裝置和圖像重建裝置。數(shù)據(jù)處理裝置和圖像重建裝置與圖1類似,所以圖2中省略顯示。
[0022]射線源用于發(fā)射X射線。探測裝置用于接收射線源發(fā)射的X射線,包括低能探測單元和高能探測單元。數(shù)據(jù)處理裝置連接到探測裝置,用于獲取探測裝置探測的數(shù)據(jù)以進(jìn)行預(yù)處理。圖像重建裝置連接到數(shù)據(jù)處理裝置,用于根據(jù)數(shù)據(jù)處理裝置預(yù)處理的數(shù)據(jù)進(jìn)行圖像重建。
[0023]低能探測單元是可移動的,其所占面積為探測裝置所占探測區(qū)域的一半,高能探測單元是可移動的,其所占面積為探測裝置所占探測區(qū)域的另一半。
[0024]優(yōu)選地,探測裝置包括機(jī)械傳動裝置,連接到低能探測單元和高能探測單元,用于使低能探測單元在探測區(qū)域的一半和另一半之間往復(fù)移動,以及使高能探測單元在探測區(qū)域的一半和另一半之間往復(fù)移動。機(jī)械傳動裝置將低能探測單元從探測區(qū)域的一半移動到另一半的同時,將高能探測單元從探測區(qū)域的另一半移動到一半。
[0025]低能探測單元位于高能探測單元所在平面上方。探測裝置還可以包括位于低能探測單元所在平面與高能探測單元所在平面之間的濾波裝置。
[0026]概括而言,其中a、b、c、d分別表示將傳統(tǒng)設(shè)備中低能探測單元I和高能探測單元2平均分成兩個探測單元四個中心的位置。僅利用傳統(tǒng)探測器的一半探測區(qū)域I’和2’,即探測器成本降低一半就可實(shí)現(xiàn)與傳統(tǒng)成像設(shè)備同樣的成像質(zhì)量。其中,圖2中黑色區(qū)域表示濾波裝置。
[0027]具體分為兩個步驟進(jìn)行數(shù)據(jù)采集。第一步:如圖2位置采集后,利用機(jī)械傳動裝置,將低能探測單元I’的中心從a點(diǎn)平移至b點(diǎn),同時,將高能探測單元2’的中心從d點(diǎn)平移至c點(diǎn);第二步,按照圓軌跡的掃描方式,按照預(yù)先設(shè)定的任意角度旋轉(zhuǎn)(掃描角度的個數(shù)直接影響圖像重建質(zhì)量,角度越小,重建質(zhì)量越高),再重復(fù)第一步,直至掃描終止。掃描方式可以是文物病害檢測設(shè)備靜止,處于射線區(qū)域中的文物旋轉(zhuǎn)角度,也可以是文物靜止,文物病害檢測設(shè)備繞文物旋轉(zhuǎn)角度。
[0028]該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)重建同等成像質(zhì)量時,將探測器成本降低50%。
[0029]以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本實(shí)用新型可以有各種更改和變化。凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種探測裝置,用于文物病害檢測設(shè)備,所述探測裝置用于接收射線源發(fā)射的X射線,包括低能探測單元和高能探測單元,其特征在于, 所述低能探測單元是可移動的,其所占面積為所述探測裝置所占探測區(qū)域的一半, 所述高能探測單元是可移動的,其所占面積為所述探測裝置所占探測區(qū)域的另一半。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測裝置,其特征在于,包括機(jī)械傳動裝置,連接到所述低能探測單元和所述高能探測單元,用于使所述低能探測單元在所述探測區(qū)域的一半和另一半之間往復(fù)移動,以及使所述高能探測單元在所述探測區(qū)域的一半和另一半之間往復(fù)移動。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述低能探測單元位于所述高能探測單元所在平面上方。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的探測裝置,其特征在于,還包括位于所述低能探測單元所在平面與所述高能探測單元所在平面之間的濾波裝置。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的探測裝置,其特征在于,所述機(jī)械傳動裝置將所述低能探測單元從所述探測區(qū)域的一半移動到另一半的同時,將所述高能探測單元從所述探測區(qū)域的另一半移動到一半。6.一種文物病害檢測設(shè)備,其特征在于,包括: 射線源,用于發(fā)射X射線; 根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的探測裝置; 數(shù)據(jù)處理裝置,連接到所述探測裝置,用于獲取所述探測裝置探測的數(shù)據(jù)以進(jìn)行預(yù)處理; 圖像重建裝置,連接到所述數(shù)據(jù)處理裝置,用于根據(jù)所述數(shù)據(jù)處理裝置預(yù)處理的數(shù)據(jù)進(jìn)行圖像重建。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種探測裝置及文物病害檢測設(shè)備。探測裝置用于接收射線源發(fā)射的X射線,包括低能探測單元和高能探測單元,其特征在于,低能探測單元是可移動的,其所占面積為探測裝置所占探測區(qū)域的一半,高能探測單元是可移動的,其所占面積為探測裝置所占探測區(qū)域的另一半。根據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)方案能夠在確保同等成像質(zhì)量的同時,降低約50%的探測器成本。
【IPC分類】G01N23/04
【公開號】CN204882412
【申請?zhí)枴緾N201520632398
【發(fā)明人】劉圓圓, 岳會國, 鄭鵬, 張少君, 張彥
【申請人】環(huán)境保護(hù)部核與輻射安全中心
【公開日】2015年12月16日
【申請日】2015年8月20日
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